0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

厦企携手中科院双方将共同推进半导体光刻胶的研发和项目产业化

倩倩 来源:lq 作者:厦门日报 2019-10-12 14:50 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

昨日,厦门恒坤新材料科技股份有限公司与中科院微电子研究所产业化平台南京诚芯集成电路技术研究院进行合作签约,双方将共同推进半导体光刻胶的研发和项目产业化。

当前,厦门将集成电路设计列入十大未来产业培育工程之一,努力突破一批关键核心技术,并实现转化和批量应用,力争到2021年产值突破百亿元。业内人士指出,目前国内集成电路产业正迎来发展的窗口期,光刻胶是集成电路半导体制造的重要材料,长期依靠进口,是“卡脖子”产品之一,当前还面临上游关键原材料短缺、先进工艺和专业人才不足等问题。

恒坤新材料是国内率先实现量供集成电路超高纯前驱体和高端光刻胶的企业,已成为国内多家高端芯片企业的材料供应商。前驱体和高端光刻胶是企业目前的两大拳头产品,填补了国内半导体先进电子材料的空白。今年恒坤新材料加大产业布局力度,相继投资建成两个半导体先进材料工厂,业务方面也取得了突破性发展。

恒坤新材料相关负责人表示,恒坤新材料希望借助中科院微电子所在全球半导体产业的技术优势,加强研发力量,促进高端光刻胶及相关原材料的技术拓展并实现产业化。恒坤新材料将以厦门为总部,规划建立半导体先进材料研发中心,推动光刻胶和先进半导体材料的发展。

作为中国半导体产业发展的重镇之一,厦门正通过“三高”企业系列扶持政策,推动自主研发项目攻关、加大科技成果转化奖励力度、支持企业建设实验室等,提升企业的研发创新能力。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    462

    文章

    53559

    浏览量

    459315
  • 集成电路
    +关注

    关注

    5446

    文章

    12471

    浏览量

    372735
  • 半导体
    +关注

    关注

    336

    文章

    30012

    浏览量

    258512
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    半导体芯片制造核心材料“光刻胶(Photoresist)”的详解

    在芯片制造这场微观世界的雕刻盛宴中,光刻胶(PR)如同一位技艺精湛的工匠手中的隐形画笔,在硅片这片“晶圆画布”上勾勒出亿万个晶体管组成的复杂电路。然而,这支“画笔”却成了中国芯片产业最难突破的瓶颈之一:
    的头像 发表于 11-29 09:31 3151次阅读
    <b class='flag-5'>半导体</b>芯片制造核心材料“<b class='flag-5'>光刻胶</b>(Photoresist)”的详解

    国产光刻胶重磅突破:攻克5nm芯片制造关键难题

    分布与缠结行为,成功研发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关研究成果已刊发于国际顶级期刊《自然·通讯》,标志着我国在光刻胶关键材料领域取得实质性突破。   此次成果对国产芯片制造而言
    的头像 发表于 10-27 09:13 5798次阅读
    国产<b class='flag-5'>光刻胶</b>重磅突破:攻克5nm芯片制造关键难题

    光刻胶剥离工艺

    光刻胶剥离工艺是半导体制造和微纳加工中的关键步骤,其核心目标是高效、精准地去除光刻胶而不损伤基底材料或已形成的结构。以下是该工艺的主要类型及实施要点:湿法剥离技术有机溶剂溶解法原理:使用丙酮、NMP
    的头像 发表于 09-17 11:01 1021次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离工艺

    从光固化到半导体材料:久日新材的光刻胶国产替代之路

    当您寻找可靠的国产半导体材料供应商时,一家在光刻胶领域实现全产业链突破的企业正脱颖而出——久日新材(688199.SH)。这家光引发剂巨头,正以令人瞩目的速度在半导体核心材料国产
    的头像 发表于 08-12 16:45 958次阅读

    国产百吨级KrF光刻胶树脂产线正式投产

      电子发烧友网综合报道 近日,八亿时空宣布其KrF光刻胶万吨级半导体制程高自动研发/量产双产线顺利建成,标志着我国在中高端光刻胶领域的自
    的头像 发表于 08-10 03:26 8810次阅读

    国产光刻胶突围,日垄断终松动

    量产到ArF浸没式验证,从树脂国产到EUV原料突破,一场静默却浩荡的技术突围战已进入深水区。   例如在248nm波长的KrF光刻胶武汉太紫微的T150A
    的头像 发表于 07-13 07:22 5700次阅读

    行业案例|膜厚仪应用测量之光刻胶厚度测量

    光刻胶,又称光致抗蚀剂,是一种关键的耐蚀剂刻薄膜材料。它在紫外光、电子束、离子束、X 射线等的照射或辐射下,溶解度会发生变化,主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。由于
    的头像 发表于 07-11 15:53 366次阅读
    行业案例|膜厚仪应用测量之<b class='flag-5'>光刻胶</b>厚度测量

    低含量 NMF 光刻胶剥离液和制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

    引言 在半导体制造过程中,光刻胶剥离液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)虽在光刻胶剥离方面表现出色,但因其高含量使用带来的成本、环保等问题备受关注。同时,光刻
    的头像 发表于 06-17 10:01 604次阅读
    低含量 NMF <b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离液和制备方法及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    减少光刻胶剥离工艺对器件性能影响的方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

        引言   在半导体制造领域,光刻胶剥离工艺是关键环节,但其可能对器件性能产生负面影响。同时,光刻图形的精确测量对于保证芯片制造质量至关重要。本文探讨减少
    的头像 发表于 06-14 09:42 667次阅读
    减少<b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离工艺对器件性能影响的方法及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    光刻胶剥离液及其制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

    引言 在半导体制造与微纳加工领域,光刻胶剥离液是光刻胶剥离环节的核心材料,其性能优劣直接影响光刻胶去除效果与基片质量。同时,精准测量光刻图形
    的头像 发表于 05-29 09:38 995次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离液及其制备方法及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    光刻胶的类型及特性

    光刻胶类型及特性光刻胶(Photoresist),又称光致抗蚀剂,是芯片制造中光刻工艺的核心材料。其性能直接影响芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介绍了光刻胶类型和
    的头像 发表于 04-29 13:59 7012次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的类型及特性

    最全最详尽的半导体制造技术资料,涵盖晶圆工艺到后端封测

    第9章 集成电路制造工艺概况 第10章 氧化 第11章 淀积 第12章 金属 第13章 光刻:气相成底膜到软烘 第14章 光刻:对准和曝光 第15章 光刻
    发表于 04-15 13:52

    半导体材料介绍 | 光刻胶及生产工艺重点企业

    体。在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性的光刻胶,可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类
    的头像 发表于 03-18 13:59 2572次阅读
    <b class='flag-5'>半导体</b>材料介绍 | <b class='flag-5'>光刻胶</b>及生产工艺重点企业

    晶圆表面光刻胶的涂覆与刮边工艺的研究

    随着半导体器件的应用范围越来越广,晶圆制造技术也得到了快速发展。其中,光刻技术在晶圆制造过程中的地位尤为重要。光刻胶光刻工艺中必不可少的材料,其质量直接影响到晶圆生产的效率和质量。本
    的头像 发表于 01-03 16:22 1135次阅读

    光刻胶成为半导体产业的关键材料

    光刻胶半导体制造等领域的一种重要材料,在整个电子元器件加工产业有着举足轻重的地位。 它主要由感光树脂、增感剂和溶剂等成分组成。其中,感光树脂决定了光刻胶的感光度和分辨率等关键性能,增
    的头像 发表于 12-19 13:57 1814次阅读