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标签 > 光刻

光刻

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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。

文章:236 视频:32 浏览:29886 帖子:5

光刻技术

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2024-04-05 标签:电容晶圆存储单元 190 0

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本文从来源和含义以及计算光刻方面讲了衍射的来源。

2024-01-19 标签:衍射光源光刻 342 0

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掩模在芯片制造中起到“底片”的作用,是一类不可或缺的晶圆制造材料,在芯片封装(构筑芯片的外壳和与外部的连接)、平板显示(TFT-LCD液晶屏和OLED屏...

2024-01-18 标签:印刷电路板芯片制造光刻 216 0

光刻掩膜版保护膜常见的类型有哪些?

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2024-01-04 标签:光刻EUV芯片制程 348 0

全面解析***结构及工作原理

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光刻与光刻机 ➢对准和曝光在光刻机(Lithography Tool)内进行。 ➢其它工艺在涂胶显影机(Track)上进行。 光刻机结...

2023-12-19 标签:控制系统IC设计测量系统 289 0

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光刻资讯

SK海力士联手TEMC开发氖气回收技术,年度节省400亿韩元

SK海力士联合 TEMC 研发出一套氖气回收装置,用以收集及分类处理光刻工艺环境中的氖气,然后交予 TEMC 进行纯化处理,最后回流至 SK 海力士使用。

2024-04-02 标签:半导体光刻SK海力士 142 0

美光计划部署纳米印刷技术,降低DRAM芯片生产成本

3 月 5 日消息,美光科技公司计划率先支持佳能的纳米印刷技术,从而进一步降低生产 DRAM 存储芯片的单层成本。 美光公司近日举办了一场演讲,介绍在将...

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半导体作为全球最重要的一个产业,每年为全球经济贡献数千亿美元产值。在整个产业链上,除我们耳熟能详的英特尔、AMD、高通、台积电等生产商外,还包括了众多著...

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德累斯顿工厂的电子束光刻系统

来源:半导体芯科技编译 投资半导体设备行业新的生产设备 Jenoptik公司计划投资数亿欧元,为目前在德累斯顿建设的高科技工厂建造最先进的系统。新型电子...

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隆基27.09%刷新硅太阳能电池效率世界纪录

针对HBC太阳电池图形化技术高成本的瓶颈,隆基绿能持续自主创新研发,放弃了高成本的光刻工艺,采用全激光图形化技术实现了27.09%的转换效率。

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龙图光罩科创板IPO获批,募投项目技术和经济可行性是关键 

龙图光罩拥有130nm及以上节点的半导体掩模版制备顶尖技术,覆盖 CAM、光刻、检测全流程。在功率半导体掩模版领域,其工艺节点已能充分满足全球主流制程的需求。

2023-12-18 标签:半导体光刻功率半导体 305 0

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12 月 12 日消息,今天早些时候,纽约州长凯西・霍楚尔(Kathy Hochul )宣布与 IBM、美光、应用材料、东京电子(东京威力科创)等半导体...

2023-12-14 标签:IBM光刻美光 281 0

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现代激光加工,以超快激光加工为主,即使用高强度的超快激光进行材料加工。具有峰值功率高、热熔区域小、加工速度快和重复精度高的特点。 滨松LCOS-SLM则...

2023-12-13 标签:激光光刻SLM 197 0

三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工艺

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2023-11-23 标签:DRAM光刻EUV 651 0

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该定向热辐射器件具有四大特点:(a)超宽带特性:器件在整个中波红外(3-5 μm)和长波红外大气窗口(8-14 μm)都表现出定向热辐射特性。

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光刻数据手册

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