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标签 > 光刻胶材
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半导体芯片制造核心材料“光刻胶(Photoresist)”的详解
在芯片制造这场微观世界的雕刻盛宴中,光刻胶(PR)如同一位技艺精湛的工匠手中的隐形画笔,在硅片这片“晶圆画布”上勾勒出亿万个晶体管组成的复杂电路。然而,...
电子发烧友网综合报道 近日,八亿时空宣布其KrF光刻胶万吨级半导体制程高自动化研发/量产双产线顺利建成,标志着我国在中高端光刻胶领域的自主化进程迈出...
电子发烧友网综合报道 光刻胶作为芯片制造光刻环节的核心耗材,尤其高端材料长期被日美巨头垄断,国外企业对原料和配方高度保密,我国九成以上光刻胶依赖进口...
光刻胶是微纳加工过程中非常关键的材料。有专家表示,中国要制造芯片,光有光刻机还不够,还得打破国外对“光刻胶”的垄断。
新式半导体光刻技术中,极紫外光刻(EUV)被认为是最有前途的方法之一,不过其实现难度也相当高,从上世纪八十年代开始探寻至今已经将近三十年, 仍然未能投入...
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