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标签 > 氧化镓
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氧化镓有望成为超越SiC和GaN性能的材料,有望成为下一代功率半导体,日本和海外正在进行研究和开发。
重点从器件工艺、结构和边缘终端技术等角度评述了优化 Ga2O3基 SBD 性能的方法,并对 Ga2O3基 SBD 的进一步发展趋势进行了展望。
对 Ga2O3外延材料、功率二极管和功率晶体管的国内外最新研究进行了概括总结,展望了Ga2O3在未来的应用与发展前景。
半导体内部的价电子通常被共价键束缚,无法自由移动,自然也就无法参与导电。所有价电子所处的能带区域被称为价带,价电子在受到热、光、电、磁等方式的激发时
氧化镓(Ga2O3)是一种新兴宽禁带半导体(禁带宽度为4.9 eV),具有热稳定性好、禁带宽度大、紫外吸收系数大、材料易加工等优点,是日盲紫外探测理想的...
相比于目前常见的宽禁带半导体SiC和GaN,Ga2O3的Baliga品质因数更大、预期生长成本更低,在高压、大功率、高效率、小体积电子器件方面更具潜力。
氧化镓有5种同素异形体,分别为α、β、γ、ε和δ。其中β-Ga2O3(β相氧化镓)最为稳定,当加热至一定高温时,其他亚稳态均转换为β相,在熔点1800℃...
氧化镓有5种同素异形体,分别为α、β、γ、ε和δ。其中β-Ga2O3(β相氧化镓)最为稳定,当加热至一定高温时,其他亚稳态均转换为β相,在熔点1800℃...
氧化镓能带结构的价带无法有效进行空穴传导,因此难以制造P型半导体。近期斯坦福、复旦等团队已在实验室实现了氧化镓P型器件,预计将逐步导入产业化应用。
Ga2O3与硅(Si)相比具有耐压高、功耗低、大尺寸单晶比较容易制作等特点。因此,作为搭载于电动汽车等的功率半导体材料的候补材料而备受瞩目。
第一代半导体指硅(Si)、锗(Ge)等元素半导体材料;第二代半导体指砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)等具有较高迁移率的半导体材料
我国的氧化镓衬底能够小批量供应,外延、器件环节产业化进程几乎空白,研发主力军和突出成果都在高校和科研院所当中。
研究组在前期Ga₂O₃/ITO n-n型雪崩探测器件成果的基础上(ACS Nano,2021,15:16654),经过不断探索,通过插入合适的宽带隙材料...
研究组在前期Ga₂O₃/ITO n-n型雪崩探测器件成果的基础上(ACS Nano,2021,15:16654),经过不断探索,通过插入合适的宽带隙材料...
高效的超高压功率转换设备(电压>20kv)需要比硅的能隙大得多的半导体。宽带隙(WBG)半导体碳化硅(SiC)已经成熟成为电力电子的商业技术平台,...
晶体生长使用的原料为氧化镓粉末,纯度99.999%,采用中频感应加热,铱金发热体、铱金模具,铱 金坩埚周围放置氧化锆作为保温材料。
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