0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

一文汇总2018年全球光刻机出货情况

集成电路园地 来源:陈翠 2019-02-21 17:03 次阅读

根据芯思想研究院的数据表明,2018年全球光刻机出货逾600台,较2017年的460台增幅达30%。

一文汇总2018年全球光刻机出货情况

一文汇总2018年全球光刻机出货情况

2018年ASML、Nikon、Canon三巨头半导体用光刻机出货374台,较2017年的294台增加80台,增长27.21%。

2018年ASML、Nikon、Canon三巨头光刻机总营收118.92亿欧元,较2017年增长25.21%。

从EUV、ArFi、ArF机型的出货来看,全年共出货134台。其中ASML出货120台,占有9成的市场。

ASML

2018年ASML光刻机出货224台,营收达82.76亿欧元,较2017年成长35.74%。其中EUV光刻机营收达18.86亿欧元,较2017年增加7.85亿欧元。

2018年ASML共出货224台光刻机,较2017年198年增加26台,增长13.13%。其中EUV光刻机出货18台,较2017年增加7台;ArFi光刻机出货86台,较2017年增加10台;ArF光刻机出货16台,较2017年增加2台;KrF光刻机出货78台,增加7台;i-line光刻机出货26台,和2017年持平。

2018年单台EUV平均售价1.04亿欧元,较2017年单台平均售价增长4%。而在2018年一季度和第四季的售价更是高达1.16亿欧元。

目前全球知名厂商包括英特尔Intel三星Samsung、台积电TSMC、SK海力士SK Hynix、联电UMC、格芯GF、中芯国际SMIC、华虹宏力、华力微等等全球一线公司都是ASML的客户。

2018年中国已经进口多台ArFi光刻机,包括长江存储、华力微二期。

Nikon

2018年度(非财年),Nikon光刻机出货106台,营收达20.66亿欧元,较2017年成长25.29%。

2018年度,Nikon半导体用光刻机出货36台,比2017年度增加9台,增长33.33%。其中ArFi光刻机出货5台,较2017年度减少1台;ArF光刻机出货9台,较2017年度增加1台;KrF光刻机出货5台,较2017年度增加3台;i-line光刻机出货17台,较2017年度增加6台。

2018年度,Nikon半导体用光刻机出货36台中,其中全新机台出货19台,翻新机台出货17台。

2018年度,Nikon面板(FPD)用光刻机出货70台。

Canon

2018年Canon光刻机出货183台,营收达15.5亿欧元,较2017年微增1.6%。

2018年Canon半导体用光刻机出货达114台,较2017年增加44台,增长62.85%。但是主要是i-line、KrF两个低端机台出货。

2018年全年面板(FPD)用光刻机出货69台。

其他光刻机公司

上海微电子装备(集团)股份有限光刻机主要用于广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD、MEMSLED、功率器件等制造领域,2018年出货大概在50-60台之间。

德国SUSS光刻机主要用于半导体集成电路先进封装、MEMS、LED,2018年光刻机收入约1.2亿欧元,较2017年增长约7个百分点。

ASML公司EUV进展

2018年,ASML和IMEC建设联合实验室,目标一是加速EUV技术导入量产;二是实验以0.55 NA取代目前的0.33 NA,具有更高NA的EUV微影系统能将EUV光源投射到较大角度的晶圆,从而提高分辨率,并且实现更小的特征尺寸。

2019年下半年,ASML将推出每小时吞吐量为170片的EUV新机型NXE:3400C;2021年将推出0.55 NA的新机型EXE:5000,可用于2纳米生产。

ASML预估2019年全年将出货30台EUV光刻机,据悉DRAM公司也将于2019年开始采用EUV光刻机制造。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1115

    浏览量

    46359

原文标题:2018年全球光刻机出货情况

文章出处:【微信号:cjssia,微信公众号:集成电路园地】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    光刻机的常见类型解析

    光刻机有很多种类型,但有时也很难用类型进行分类来区别设备,因为有些分类仅是在某一分类下的分类。
    发表于 04-10 15:02 126次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的常见类型解析

    光刻机的发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影
    发表于 03-21 11:31 555次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的发展历程及工艺流程

    光刻机巨头ASML要搬离荷兰?

    据荷兰《电讯报》3月6日报道,因荷兰政府的反移民政策倾向,光刻机巨头阿斯麦(ASML)正计划搬离荷兰。
    的头像 发表于 03-08 14:02 436次阅读

    浅谈不同阶段光刻机工作方式

    在曝光过程中,掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1,分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离,随着曝光次数的增加,会引起掩模版和光刻胶膜层
    发表于 03-08 10:42 203次阅读
    浅谈不同阶段<b class='flag-5'>光刻机</b>工作方式

    英特尔成为全球首家购买3.8亿美元高数值孔径光刻机的厂商

    英特尔最近因决定从荷兰 ASML 购买世界上第一台高数值孔径(High-NA)光刻机而成为新闻焦点。到目前为止,英特尔是全球唯一一家订购此类光刻机的晶圆厂,据报道它们的售价约为3.8亿美元
    的头像 发表于 03-06 14:49 198次阅读
    英特尔成为<b class='flag-5'>全球</b>首家购买3.8亿美元高数值孔径<b class='flag-5'>光刻机</b>的厂商

    ASML光刻机技术的领航者,挑战与机遇并存

    ASML在半导体产业中扮演着举足轻重的角色,其光刻机技术和市场地位对于全球半导体制造厂商来说都具有重要意义。
    发表于 03-05 11:26 202次阅读

    光刻胶和光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 681次阅读

    佳能预计到2024年出货纳米压印光刻机

    来源:DIGITIMES ASIA 佳能预计其纳米压印光刻机将于今年出货,与ASML的EVU设备竞争市场,因为世界各地的经济体都热衷于扩大其本土芯片产能。 佳能董事长兼首席执行官Hiroaki
    的头像 发表于 02-01 15:42 344次阅读
    佳能预计到2024年<b class='flag-5'>出货</b>纳米压印<b class='flag-5'>光刻机</b>

    光刻机结构及IC制造工艺工作原理

    光刻机是微电子制造的关键设备,广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中,光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
    发表于 01-29 09:37 555次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>结构及IC制造工艺工作原理

    狂加工一年!ASML把欠中国的600亿光刻机,成功交付了

    关于光刻机,大家还记得美国荷兰日本的三方协议吗?来回忆一下。 随着芯片在各个领域的重要性不断提升,人们对芯片制造的关注也日益增加。 但半导体产业链非常复杂,不仅仅涉及到底层的架构设计,还需要通过
    的头像 发表于 01-17 17:56 336次阅读

    荷兰政府撤销ASML光刻机出口许可 中方回应美停止对华供光刻机

    在10-11月份中国进口ASML的光刻机激增10多倍后,美国官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示,出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。
    的头像 发表于 01-03 15:22 615次阅读

    英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机

    如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元,并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
    的头像 发表于 12-28 11:31 439次阅读

    ASML无视美国禁令出货400台***

    因此光刻机对芯片制造非常重要,它是影响芯片制造质量和效率的重要因素。纵观全球光刻机市场,荷兰ASML公司一家独大,占据全球80%的光刻机市场
    的头像 发表于 06-20 11:42 1296次阅读

    芯片制造之光刻工艺详细流程图

    光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机光刻机既可以用在前道工艺,也可以用在后道工艺,前道光刻机用于芯片的制造,曝光工艺极其复杂,后道
    发表于 06-09 10:49 6414次阅读
    芯片制造之<b class='flag-5'>光刻</b>工艺详细流程图

    边缘计算相关论文汇总

    刚读研发现找论文真的很累   给大伙做个论文汇总吧  近三年ccf A  B期刊论文(无会议论文) 资源链接: 边缘计算论文汇总CCFAB2018-2020(近二百篇论文)_有关边缘计算的论文
    发表于 05-18 15:45 0次下载
    边缘计算相关论<b class='flag-5'>文汇总</b>