0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

中芯国际订购一套极紫外光刻设备,最昂贵和最先进的芯片生产工具

xPRC_icunion 来源:lq 2019-01-21 16:32 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

中国最大的芯片代工厂商中芯国际(SMIC)在4月已订购一套极紫外光刻(EUV)设备,这是目前最昂贵和最先进的芯片生产工具。预计在2019年交付。此举缩小与市场领先者的技术差距,确保关键设备的供应。

EUV光刻设备是未来芯片技术发展的关键,EUV系统可以发射比现有设备小十五分之一波长的光,使其能够在芯片上蚀刻更精细的电路。

中芯国际订购的这套EUV光刻设备向荷兰芯片设备制造商ASML购买,价值7.7亿美元。中芯国际在这一市场仍落后于市场领先者两至三代技术。订购芯片设备将确保更强大、更先进芯片的后期生产。

台积电、英特尔三星电子公司已经从ASML订购了许多EUV系统。例如来自供应链消息来源称,如果就营收而言为全球最大芯片代工厂商台积电,今年就预订了10套该系统。三星电子公司预订了约6套EUV系统,而英特尔今年将订购3套。

目前,苹果高端iPhone X和iPhone 8系列的核心处理器芯片,采用了台积电的10纳米工艺技术,而今年即将推出的新款iPhone将使用7纳米工艺技术。纳米尺寸越小,开发成本越高,难度越大,但芯片也越强大和越先进。业界认为,最前沿芯片制造工艺技术将小于5纳米,这需要EUV工具才能完成。

在芯片代工业务方面,中芯国际是市场领导者台积电的一个较小竞争对手,而高通、华为旗下芯片子公司海思科技和其他芯片设计商都是芯片代工厂商的客户。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    462

    文章

    53534

    浏览量

    459080
  • 中芯国际
    +关注

    关注

    27

    文章

    1447

    浏览量

    67601
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1196

    浏览量

    48733

原文标题:震撼 | 中芯国际7.7亿美元买ASML光刻机,大家认为这钱花得值吗?

文章出处:【微信号:icunion,微信公众号:半导体行业联盟】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?

      电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而紫外(EUV)光刻技术更是
    的头像 发表于 10-04 03:18 9383次阅读
    俄罗斯亮剑:公布EUV<b class='flag-5'>光刻</b>机路线图,挑战ASML霸主地位?

    【「AI芯片:科技探索与AGI愿景」阅读体验】+半导体芯片产业的前沿技术

    半导体芯片是现在世界的石油,它们推动了经历、国防和整个科技行业。-------------帕特里克-基辛格。 AI的核心是系列最先进的半导体芯片。那么AI
    发表于 09-15 14:50

    国际 7 纳米工艺突破:代工龙头的技术跃迁与拓能半导体的封装革命

    流转。这家全球第三大晶圆代工厂,正以每月 3 万片的产能推进 7 纳米工艺客户验证,标志着中国大陆在先进制程领域的实质性突破。 技术突围的底层逻辑 国际的 7 纳米工艺采用自主研发
    的头像 发表于 08-04 15:22 1w次阅读

    中科院微电子所突破 EUV 光刻技术瓶颈

    紫外光刻(EUVL)技术作为实现先进工艺制程的关键路径,在半导体制造领域占据着举足轻重的地位。当前,LPP-EUV 光源是紫外光刻机所采
    的头像 发表于 07-22 17:20 819次阅读
    中科院微电子所突破 EUV <b class='flag-5'>光刻</b>技术瓶颈

    改善光刻图形线宽变化的方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

    的应用。 改善光刻图形线宽变化的方法 优化曝光工艺参数 曝光是决定光刻图形线宽的关键步骤。精确控制曝光剂量,可避免因曝光过度导致光刻胶过度反应,使线宽变宽;或曝光不足造成线宽变窄。采用先进
    的头像 发表于 06-30 15:24 599次阅读
    改善<b class='flag-5'>光刻</b>图形线宽变化的方法及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    光刻胶产业国内发展现状

    ,是指通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射,溶解度会发生变化的耐蚀刻薄膜材料,是光刻工艺的关键材料。 从芯片
    的头像 发表于 06-04 13:22 649次阅读

    详谈X射线光刻技术

    随着紫外光刻(EUV)技术面临光源功率和掩模缺陷挑战,X射线光刻技术凭借其固有优势,在特定领域正形成差异化竞争格局。
    的头像 发表于 05-09 10:08 1221次阅读
    详谈X射线<b class='flag-5'>光刻</b>技术

    【「芯片通识课:本书读懂芯片技术」阅读体验】了解芯片怎样制造

    TSMC,国际SMIC 组成:核心:生产线,服务:技术部门,生产管理部门,动力站(双路保障),废水处理站(环保,循环利用)等。
    发表于 03-27 16:38

    保密通信之紫外光无线通信!

    紫外光通信的应用场景十分广泛,它正逐渐渗透到我们生活的各个角落。在军事领域,紫外光通信可用于战场短距离保密通信。在战场上,士兵们可以利用紫外光通信设备,在不暴露自身位置的情况下,安全地
    的头像 发表于 02-21 13:32 914次阅读
    保密通信之<b class='flag-5'>紫外光</b>无线通信!

    什么是光刻机的刻精度

    芯片制造的复杂流程光刻工艺是决定晶体管图案能否精确“印刷”到硅片上的核心环节。而光刻Overlay(刻精度),则是衡量
    的头像 发表于 02-17 14:09 4026次阅读
    什么是<b class='flag-5'>光刻</b>机的<b class='flag-5'>套</b>刻精度

    探秘半导体防震基座刚性测试:守护芯片制造的坚固防线

    生产设备对稳定性的要求近乎苛刻。光刻机、刻蚀机等设备在工作时,需保持极高的精度。以紫外光刻
    的头像 发表于 02-17 09:52 1145次阅读
    探秘半导体防震基座刚性测试:守护<b class='flag-5'>芯片</b>制造的坚固防线

    纳米压印技术:开创下光刻的新篇章

    光刻技术对芯片制造至关重要,但传统紫外光刻受衍射限制,摩尔定律面临挑战。为突破瓶颈,下光刻(NGL)技术应运而生。本文将介绍纳米压印技术
    的头像 发表于 02-13 10:03 3327次阅读
    纳米压印技术:开创下<b class='flag-5'>一</b>代<b class='flag-5'>光刻</b>的新篇章

    纳米压印光刻技术旨在与紫外光刻(EUV)竞争

    来源:John Boyd IEEE电气电子工程师学会 9月,佳能交付了种技术的首个商业版本,该技术有朝日可能颠覆最先进芯片的制造方式。这种技术被称为纳米压印
    的头像 发表于 01-09 11:31 1123次阅读

    组成光刻机的各个分系统介绍

      本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤,其重要性不言而喻。光刻机是实现这工艺的核心
    的头像 发表于 01-07 10:02 4158次阅读
    组成<b class='flag-5'>光刻</b>机的各个分系统介绍

    日本首台EUV光刻机就位

    据日经亚洲 12 月 19 日报道,Rapidus 成为日本首家获得紫外 (EUV) 光刻设备的半导体公司,已经开始在北海道芯片制造厂内安
    的头像 发表于 12-20 13:48 1408次阅读
    日本首台EUV<b class='flag-5'>光刻</b>机就位