如何为红外波段的视觉应用选择合适的工业镜头

当前中国半导体行发展迅速，随之半导体设备行业也遇到了很多新挑战，如Si基晶圆的内部隐裂、带膜切割、对位贴合等。这类型的应用中，往往需要穿透硅基进行成像。可见光源通常无法穿透Si基材质，而短波红外（大于1100nm）波长的光在Si基材质中的透过率较高，故在晶圆检测设备中，短波红外及近红外的光源被广泛应用。与之相匹配的，镜头也需要提高红外光的透过率，才能得到更好的成像效果。

下面我们来看看两款茉丽特的红外镜头：MML-NIR系列及SWIR系列。

近红外跟短波红外的定义

光的本质其实是一种电磁波，如果把电磁波按照波长来划分，光波的范围大约在10nm~1mm。其中，波长范围约400nm~750nm之间的，可以被人眼感知，也就是我们日常接触最多的可见光。波长大于750nm的光称之为红外光。

在红外光内750nm-1900nm之间的近红外和短波红外又是在机器视觉中常用的波段，它不被人眼所感知，但其在特定介质（如人体组织，Si基载体）中优秀的穿透能力，让其在医疗，晶圆检测等行业有着广泛的应用，和不可替代的作用。

• 近红外镜头产品MML-NIR系列镜头

该系列镜头是专门的红外设计，有3个倍率可选，分别是4x，6x，8x。

产品特性

专为700-1200nm的波段设计；搭配红外相机与红外光源使用，可以实现在半导体行业里对Si晶圆内部缺陷的检测，带膜切割以及背面图案的观察等诸多应用。

应用

半导体晶圆定位

MEMS检测

Si wafer检测

• 短波红外远心镜头MML-SWIR系列

该系列镜头是专门的红外设计，有2个倍率可选，分别是2x，2.5x。

产品特性

专为900nm~1700nm波段设计

支持43mm靶面芯片

应用

晶圆检测

Mini LED/Micro LED显示屏检查

• 短波红外大靶面FA系列ML-26F-SWIR

产品特性

该镜头专为900nm~1700nm波段设计支持最大靶面26mm，1k25um，2k12.5um可搭配棱镜相机使用

应用

晶圆检测

mini/micro LED检测

光学分选

食品、农业检测