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炎怀科技TPS导热测试仪器-晶圆导热测试案例-瞬态平面热源法

炎怀科技 2026-04-20 23:30 次阅读
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一、测试背景

晶圆是集成电路制造的基础材料,通常由高纯度硅、GaN半导体单晶材料切割、研磨并抛光而成,是IC芯片制造与器件集成的核心载体。在芯片制造及服役过程中,晶圆的导热性能直接影响芯片内部热量的扩散能力,对功率密度提升、热应力控制以及器件可靠性具有重要意义。

由于晶圆厚度薄、尺寸大、表面质量要求高,传统接触式稳态方法在测试过程中容易引入附加损伤或边界误差。瞬态平面热源法可在小温升、短时间条件下完成测试,更适合用于晶圆等高价值、薄片材料的无损导热性能测量。

二、样品信息

1. 样品类型:单晶硅晶圆;

2. 厚度:0.5 mm

3. 典型用途:集成电路(IC)芯片制造与器件承载。

晶圆与传感器

三、测试方法与装置

1. 测试仪器:炎怀科技TPS-YH98

2. 测量模式:平板 @ 双面;

3. 测试目的:获取晶圆的导热系数。

样品装夹

四、测试参数

1. 测试时间:5 s

2. 加热功率:1 W

3. 测试环境:室温条件。

五、测试结果与分析

实验结果

测试过程中温升曲线平滑连续,拟合区间清晰,无明显异常波动,表明传感器与晶圆之间的接触状态稳定。对有效时间区间内的数据进行拟合计算,得到该晶圆样品的导热系数为:

81.17 W/(m·K)

本测试案例表明,炎怀科技TPS-YH98导热仪适用于晶圆等薄片、高价值材料的导热性能测试,具有以下特点:

1. 可实现对晶圆面内导热性能的无损测量;

2. 适合薄片材料,测试时间短、温升可控;

3. 对样品表面要求低,不影响后续工艺或使用;

4. 测试结果可直接用于芯片热设计与热仿真建模。

该仪器可为半导体材料表征、芯片散热设计及先进工艺评估提供了可靠的热学数据支撑。

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