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资腾亮相SEMICON China展示CMP超洁净刷轮,助力先进制程良率提升

海阔天空的专栏 来源:厂商供稿 作者:厂商供稿 2026-04-15 11:15 次阅读
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Fig 1 STC CMP Chemical Mechanical Polishing.jpg

资腾科技将亮相SEMICONChina国际半导体展,展示CMP(ChemicalMechanicalPolishing,化学机械研磨)超洁净空气PVA刷轮。针对埃米时代对晶圆洁净度与先进制程稳定性的更高要求,该刷轮可有效降低微粒与制程残留,缩短预清洁时间,并减少晶圆空片用量,同时实现100%去离子水透水率,全面强化先进制程与先进封装良率。

资腾于2026年3月25日至27日参加SEMICONChina国际半导体展,并在上海新国际博览中心N3馆3187号展台展示多项先进制程解决方案。

Fig 2 Semicon-China-2026 booth.jpg

资腾总经理陈国荣表示:“随着半导体制程迈向更先进的埃米时代,材料与设备技术的整合能力将成为产业发展的关键。我们将持续导入全球创新技术,并通过本地化技术服务,协助客户打造更高效、更可持续的半导体制造环境。”

晶圆表面工程需要在纳米级缺陷控制、材料保护与量产成本之间取得平衡,是影响先进制程与先进封装良率的重要因素。在先进制程中,平整度不仅决定电路图案能否“印得准”,更直接影响先进封装芯片堆叠时是否能“贴得紧”,是决定半导体制造良率的重要环节。

针对先进制程挑战,资腾本次展出的CMP超洁净空气PVA刷轮,在实际制程测试中可有效降低微粒与制程残留物,并缩短预清洁时间(break-intime),减少晶圆空片(dummywafer)的用量;同时实现100%去离子水透水率,在清洗过程中有效降低用水量,从而减少CMP制程用水,进一步提升产线稼动率,降低资源消耗。该刷轮采用空气发泡技术,材料具备无淀粉残留特性,拥有业界最低金属粒子与液体微粒子检出量,可减少化学残留与细菌滋生。

除了CMP洁净制程技术外,资腾还展示了多项与环境可持续发展相关的制程解决方案。其中,IFC中性去光阻液具备高效去除有机挥发物且对人体无害的特性;MorikawaVOCs液化回收系统则通过压缩冷凝技术回收制程排放气体,回收效率可达99.9%,协助晶圆厂降低排放并提升资源利用效率。

1/2同时,资腾也在积极拓展新兴应用领域,包括硅光子设备与AI服务器双相浸没式冷却技术。通过整合设备、材料与自动化技术,资腾持续为半导体与先进电子产业提供多元化制程解决方案。

展览信息
展览名称:SEMICONCHINA2026
展览时间:2026年3月25日至27日09:00am-5:00pm(最后一日仅开放至下午4时)
展位地点:上海新国际博览中心(SNIEC)
展位编号:N3馆3187号展位

关于资腾
资腾科技股份有限公司是佳世达集团旗下罗昇(8374)子公司,成立于1988年,是一家专业从事半导体、平面显示器及封装设备与材料技术服务的企业。其主要专业领域包括黄光微影制程应用、晶圆承载传送系统、晶圆凸块制程及检测设备、激光应用系统等。资腾科技坚持“诚信、专精、创新”理念,力求信守承诺、专注品质与持续创新。

关于罗昇

罗昇企业成立于1984年,是亚洲传动控制产品的领先品牌通路商,并于2019年通过友通投资正式加入明基佳世达集团。借助水平与垂直整合,罗昇成为制造业客户实现智能自动化技术升级及绿色转型的服务专家。罗昇企业与全球传动控制领域领导品牌保持紧密合作关系,引进国际先进产品和技术,并通过自身技术服务及资源整合能力,将零部件硬件、集成产品及增值服务整合后传递给客户。对于上游厂商,罗昇协助销售产品,并提供市场动态及产品开发信息;对于下游客户,罗昇不仅能够提供多样化品牌、完整产品线及一站式采购服务(One-StopShopping),还可通过全面的技术服务与物流解决方案(TotalSolution),帮助客户降低成本与风险。罗昇总部设于台湾,并在大陆和欧洲设有子公司,就近服务客户需求。

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