中微公司SEMICON CHINA 2026精彩回顾

SEMICON CHINA2026

为期三天的全球半导体行业盛会SEMICON China 2026于今日圆满落幕，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称：中微公司；证券代码：688012）精彩亮相展会及同期活动，与全球半导体产业的领军企业共襄盛会。

独揽“杰出半导体设备奖”

展会期间，中微公司凭借在半导体设备领域的卓越贡献，独揽行业重磅奖项，成为唯一荣膺“杰出半导体设备奖”的企业。中微公司董事长兼总经理尹志尧博士上台领奖，代表公司登台接过这份象征实力的行业殊荣。

中微公司作为高端半导体设备领域的创新者与引领者，持续以核心技术突破推动产业进步。中微公司开发的 CCP 高能等离子体和 ICP 低能等离子体刻蚀两大类，包括20多种细分刻蚀设备已可以覆盖95%以上的几百种刻蚀应用。中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国内和国际一线客户，可以覆盖从 65纳米到3纳米及更先进工艺的众多刻蚀应用。中微公司最近十年着重开发多种导体和半导体化学薄膜设备，如MOCVD、LPCVD、ALD、PVD、PECVD和EPI设备，并取得了非常快速、可喜的进展。中微公司开发的用于 LED 照明、显示和功率器件外延片生产的 MOCVD设备早已在客户生产线上投入量产，并在全球氮化镓基 LED MOCVD 设备市场占据领先地位。此外，中微公司正在布局湿法设备并已全面布局光学和电子束量检测设备，开发多种泛半导体微观加工设备，包括在玻璃基板上制造微观结构的大平板显示设备等。这些设备都是制造各种微观器件的关键设备，可加工和检测微米级和纳米级的各种器件。

四款新品发布 备受行业关注

在此次全球半导体盛会期间，中微公司举办新品发布会，宣布推出四款覆盖硅基及化合物半导体关键工艺的新产品，包括新一代电感耦合ICP等离子体刻蚀设备Primo Angnova、高选择性刻蚀机Primo Domingo、Smart RF Match智能射频匹配器以及蓝绿光Micro LED量产MOCVD设备Preciomo Udx，进一步丰富了公司在刻蚀设备、薄膜沉积设备及核心智能零部件领域的产品组合及系统化解决方案能力，持续夯实平台化发展的基础，助力公司在规模化拓展的进程中实现高质量发展。

新品发布会上，中微公司的技术专家们与众多行业精英齐聚一堂，围绕公司在刻蚀、智能核心零部件、MOCVD等领域的最新突破与产品创新，展开了系统而深入的分享。发布会不仅展示了中微公司在半导体设备领域的深厚技术积累与持续创新成果，也为后续推动产业协同与技术进步提供了扎实的技术洞察与行业方向。

实力聚光 创新领航

此次展会，中微公司N3417展台汇聚了超高人气，凭借强大的技术实力和创新成果，再次成为备受瞩目的焦点，吸引了众多行业专家、合作伙伴以及业内外观众前来参观。

观众通过融合海报、设备模型、视频动画与现场交流等多种形式，全方了解了公司在刻蚀、薄膜、MOCVD等微观加工高端设备领域的前沿技术与扎实的研发实力。现场技术专家团队围绕公司的最新产品与技术创新，与参观嘉宾进行了专业解读与深度交流。

中微公司展台

未来，中微公司将继续坚持“三维立体生长” 与 “有机生长和外延扩展”相结合的战略，持续巩固在集成电路关键设备领域的核心竞争力和优势，不断拓展泛半导体关键设备应用，并通过持续的技术升级和深度的产业链合作进行新兴领域探索，通过“科创企业五个十大”的学习和传承，使企业总能量、对外竞争的净能量最大化，实现高速、稳定、健康、安全的高质量发展，为2035年在规模、产品竞争力和客户满意度上成为全球第一梯队的半导体设备公司打下坚实的基础。

关于中微半导体设备（上海）股份有限公司

中微半导体设备(上海)股份有限公司（证券简称：中微公司，证券代码：688012）致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的CCP高能等离子体和ICP低能等离子体刻蚀两大类、包括二十几种细分刻蚀设备已可以覆盖大多数刻蚀的应用。中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国内和国际一线客户，从65纳米到3纳米及更先进工艺的众多刻蚀应用。中微公司最近十年着重开发多种导体和半导体化学薄膜设备，如MOCVD，LPCVD，ALD，PVD，PECVD和EPI设备，并取得了可喜的进步。中微公司开发的用于LED和功率器件外延片生产的MOCVD设备早已在客户生产线上投入量产，并在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据领先地位。此外，中微公司已全面布局光学和电子束量检测设备，并开发多种泛半导体微观加工设备，包括大平板显示设备等。这些设备都是制造各种微观器件的关键设备，可加工和检测微米级和纳米级的各种器件。这些微观器件是现代数码产业的基础，它们正在改变人类的生产方式和生活方式。在近五年的全球半导体设备客户满意度调查中，中微公司总评分四次获得第三，薄膜设备四次被评为第一。