0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

倾佳电子西安办事处赋能北方产业新生态:基本半导体全栈式SiC解决方案深度解析

杨茜 来源:jf_33411244 作者:jf_33411244 2025-11-18 06:59 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

倾佳电子西安办事处赋能北方产业新生态:基本半导体全栈式SiC解决方案深度解析

倾佳电子(Changer Tech)是一家专注于功率半导体和新能源汽车连接器的分销商。主要服务于中国工业电源电力电子设备和新能源汽车产业链。倾佳电子聚焦于新能源、交通电动化和数字化转型三大方向,并提供包括IGBT、SiC MOSFET、GaN等功率半导体器件以及新能源汽车连接器。

倾佳电子杨茜致力于推动国产SiC碳化硅模块在电力电子应用中全面取代进口IGBT模块,助力电力电子行业自主可控和产业升级!

倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET功率器件三个必然,勇立功率半导体器件变革潮头:

倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET模块全面取代IGBT模块和IPM模块的必然趋势!

倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET单管全面取代IGBT单管和大于650V的高压硅MOSFET的必然趋势!

倾佳电子杨茜咬住650V SiC碳化硅MOSFET单管全面取代SJ超结MOSFET和高压GaN 器件的必然趋势!

引言:北方电力电子市场的机遇与挑战

中国北方地区,凭借其雄厚的重工业基础、集中的能源基地以及加速布局的“新基建”项目,正处在电力电子技术革新的风口浪V。从传统工业(如高端焊机、工业变频、感应加热)的“新质生产力”升级,到大规模新能源(光伏、工商业储能PCS)的并网与消纳,再到支撑数字经济的AI服务器与通信电源,市场对功率变换系统的核心诉求日益统一且严苛:追求更高的功率密度、突破99%的系统效率、更宽的耐受温度以及更低的系统总拥有成本(TCO) 。

在这一趋势下,传统的硅基(Si)功率器件,特别是IGBT,其物理极限已成为制约系统性能提升的主要瓶颈。碳化硅(SiC)材料以其高压、高温、高频的革命性优势,已成为业界公认的必然选择 。

wKgZPGkMni-AbrBVAAdeBCDwANQ685.pngwKgZPGkMni-ADgGPAAZBCcVTtdY142.pngwKgZPGkMni-AbrBVAAdeBCDwANQ685.png

然而,SiC技术的落地并非简单的器件替换。它对系统的可靠性、驱动电路的匹配性以及全生命周期的稳定性提出了远超硅基器件的挑战。基本半导体(BASIC Semiconductor)作为一家掌握从芯片设计、晶圆制造到先进封装全链能力的技术企业,其推出的全栈式SiC解决方案,为北方电力电子客户提供了一条兼顾高性能与高可靠性的技术路径。倾佳电子西安办事处将从技术基石、关键应用场景、系统级驱动方案等维度,深度解析BASIC半导体SiC产品组合的核心竞争力及其在北方市场的应用价值。

卓越性能与坚实可靠:BASIC半导体的技术基石

对于北方市场的工业及新能源客户而言,新技术的引入必须建立在“绝对可靠”的前提下。BASIC半导体的产品策略深刻地回应了这一关切,其技术基石并非追求单一参数的极致,而是系统性地解决了SiC应用中的两大核心焦虑:性能焦虑(通过先进芯片平台)与可靠性焦虑(通过超越标准的器件验证和先进的模块封装)。

wKgZPGkX74aAS4aKAAQcdPbPvBs622.pngwKgZPGkX74eADf3IAAZEe6a_iG0979.png

第三代(G3)技术平台:性能源泉

BASIC半导体基于6英寸晶圆平台开发的第三代(G3) SiC MOSFET技术,为其器件的卓越性能奠定了基础 。该平台的核心优势体现在以下几个关键方面:

极低的单位面积导通电阻:G3平台实现了约 2.5mΩ∗cm2 的 Ronsp​(单位面积导通电阻),确保了极低的导通损耗 。

优化的品质因数(FOM) :通过将品质因数(FOM)降低30%,器件的开关损耗被进一步压缩,使其在高频应用中(如100kHz以上)表现更优 4。

Ciss​/Crss​ 比值:SiC器件极快的开关速度(dv/dt)极易引发桥式拓扑中的串扰误导通。BASIC G3平台通过优化电容参数,提高了 Ciss​/Crss​(输入电容/反向传输电容)的比值,从芯片层面显著降低了器件在高速开关下的误导通风险 。

器件级可靠性:超越AEC-Q101的严苛验证

BASIC半导体为其SiC器件建立了远超行业标准的可靠性验证体系,确保其在严酷的工业、新能源乃至车规级应用中保持长期稳定。其产品不仅通过了AEC-Q101车规级认证 ,还完成了多项严苛的加严测试,为客户提供了坚实的数据保障。

表1:BASIC SiC 可靠性验证标准(节选)

压力测试 (Stress) 缩写 (Abbr) 测试条件 (Conditions) 持续时间 (Duration) 标准 (Standard)
高温反偏 HTRB Tj​=175∘C, VDS​=100%BV 1000 H JEDEC JESD22-A-108
高温栅偏 (正压) HTGB (+) Tj​=175∘C, VGS​=22V 1000 H JEDEC JESD22-A-108
高压高湿高温反偏 HV-H3TRB Ta=85∘C, RH=85%, VDS​=80%BV 1000 H JEDEC JESD22-A-101
高压蒸煮 AC Ta=121∘C, RH=100% 96 H JEDEC JESD22-A-102
温度循环 TC −55∘C to 150∘C 1000 cycles JESD22-A104
间歇工作寿命 IOL △Tj​≥100∘C 15000 cycles MIL-STD-750

除了上述标准测试外,BASIC还执行了更为严苛的加严可靠性验证,例如长达2500小时的HTRB测试,其等效应力时间超过标准4倍,器件的 VGS(th)​(开启阈值电压)和 IDSS​(漏电流)等关键参数在测试后仍保持高度稳定,变化率小于5% 。

模块级可靠性:Si3​N4​ AMB封装应对严苛工业环境

wKgZPGkNPneAbJviAAXzMl5DY5I132.pngwKgZO2kNPneAN9IzAAWXx6g2ZRQ515.png

对于大功率模块,封装的可靠性与芯片本身同样重要。BASIC在其Pcore™2 62mm和E2B等系列模块中,战略性地采用了高性能的 Si3​N4​(氮化硅)AMB(活性金属钎焊)陶瓷基板,以应对北方工业应用中常见的振动、大温差循环和冲击工况 。

传统的 Al2​O3​(氧化铝)基板成本低但导热性差;AlN(氮化铝)导热性好,但机械强度低、质脆,易在应力下开裂。Si3​N4​ 基板在关键的机械性能和热性能之间取得了最佳平衡。

表2:三种陶瓷覆铜板性能对比

类型 (Type) Al2​O3​ (氧化铝) AlN (氮化铝) Si3​N4​ (氮化硅) 单位
热导率 24 170 90 W/mk
热膨胀系数 6.8 4.7 2.5 ppm/K
抗弯强度 450 350 700 N/mm2
断裂强度 4.2 3.4 6.0 Mpa/m

Si3​N4​ 的抗弯强度是AlN的2倍,热膨胀系数(2.5 ppm/K)更低,使其在1000次温度冲击试验后仍能保持优异的结合强度,而AlN基板则可能出现分层 。这种卓越的机械坚固性,使其成为高端焊机、工业变频和PCS等高可靠性应用的理想选择。

关键应用场景分析(一):工商业储能(PCS)与光伏

wKgZPGkMmsuAK-hzAAYHmhAriMk324.png

市场挑战: 125kW+ 功率等级已成为工商业储能PCS的主流规格 。客户的核心KPl在于实现99%以上的系统效率、极高的功率密度(以降低占地和系统成本)以及在严苛温(如80°C散热器温度)下的长期过载能力。

核心产品: Pcore™2 E2B SiC模块 (BMF240R12E2G3),这是一款1200V / 5.5mΩ (@ 25∘C) 的高性能半桥模块 。

应用洞察:Eon的负温度特性——高温重载下的“自冷却”效应

BMF240R12E2G3模块展现出一个对PCS应用极其有利的独特特性:其 Eon​(开通损耗)呈现负温度特性。行业内多数竞品(如W和I品牌)的 Eon​ 呈正温度特性,即温度越高,开关损耗越大,这极易导致热失控的正反馈循环 。

相反,BMF240R12E2G3在结温升高时,其 Eon​ 反而下降。由于 Eon​ 在总开关损耗中占比高达60%~80%,这一特性意味着在PCS满载运行时,模块的开关损耗会部分抵消因高温而增加的导通损耗。这打破了热失控循环,使得系统热管理更简单,高温下的输出能力更强。

实证数据:125kW PCS三相四桥臂拓扑仿真

基于125kW PCS(900V直流母线,32-40kHz载频)的仿真数据显示了该模块在最严苛工况下的卓越表现 。

表3:BMF240R12E2G3 在 80°C 散热器(整流)工况下的性能

负载工况 载频 (fsw​) 导通损耗 (W) 开关损耗 (W) 总损耗 (W) 最高结温 (Tj​)
100% 负载 (125kW) 36 kHz 105.4 110.0 215.5 125.0°C
(80°C散热) 40 kHz 106.2 121.9 228.1 127.7°C
120% 负载 (150kW) 36 kHz 155.7 129.3 285.1 138.9°C
(80°C散热) 40 kHz 157.0 143.1 300.2 142.1°C

数据解读: 仿真结果清晰显示,即使在120%过载、40kHz高频、80°C散热器的极限压力下,BMF240R12E2G3的最高结温仅为142.1°C,距离175°C的规格上限仍有超过30°C的巨大安全裕量 。

竞品对比: 在125°C、400A条件下的双脉冲测试中,BMF240R12E2G3的 Eoff​(关断损耗)仅为6.16 mJ,而竞品W为11.31 mJ。其 Etotal​(总损耗)为20.82 mJ,显著低于W的27.21 mJ,表现出更优的开关特性 。

商业价值: 采用SiC方案的PCS可实现1%+的平均效率提升和25%+的功率密度提升。对于系统集成商而言,这意味着1MW/2MWh的储能系统可降低5%的初始成本,并将投资回报周期(ROI)缩短2至4个月

关键应用场景分析(二):高端焊机与工业加热

wKgZO2kQAoiADlPTAAW1gDXekE4037.png

市场挑战: 作为北方地区的传统优势产业,工业焊机市场正经历从笨重、低频(约20kHz)、控制粗糙的IGBT方案,向轻便、高频(>80kHz)、电弧精准的SiC方案的深刻变革。

核心产品: Pcore™2 34mm SiC模块 (BMF80R12RA3),规格为1200V / 15mΩ (@ 25∘C) 。

应用洞察:SiC带来的“四倍频”革命

焊机逆变的核心价值在于高频化。IGBT受限于其高开关损耗,频率难以提升。BASIC SiC模块则彻底打破了这一瓶颈。

实证数据:20kW H桥焊机拓扑仿真

在20kW H桥逆变焊机(540V母线)的仿真对比中,SiC方案的代际优势显而易见 。

表4:BMF80R12RA3 (SiC) vs. 高速IGBT 在20kW焊机中的对比

器件 BMF80R12RA3 (SiC) 高速 IGBT (Si)
开关频率 (fsw​) 80 kHz 20 kHz
单管总损耗 80.29 W 149.15 W
H桥总损耗 321.16 W 596.6 W
整机效率 98.68% 97.10%

数据解读: BASIC SiC模块在实现1.58个百分点效率提升的同时,将工作频率提升了整整4倍(从20kHz到80kHz)。

商业价值: 频率的四倍提升,对焊机制造商意味着:

小型化与轻量化:变压器、电感等磁性元件的体积、重量和成本随频率升高而大幅降低,使便携式高功率焊机成为可能。

工艺提升:更高的开关频率带来了更快的动态响应和更精准的电弧控制,使高质量焊接工艺(如薄板焊接、异种金属焊接)得以实现。

可靠性:BMF80R12RA3在175°C高温下 RDS(on)​ 仍能保持在28.24 mΩ 4,确保了焊机在北方多尘、高温的恶劣工业环境下的耐用性。

关键应用场景分析(三):大功率工业变频与电机驱动

wKgZPGkFg3OAbyw4AAmBrnGVwwY614.pngwKgZPGkbpyOAEXE9AAUEr1hzZbI461.pngwKgZO2j4K4uAc7c1ABjXPzqk7uk409.png

市场挑战: 北方工业的风机、水泵、压缩机以及辅助牵引等电机驱动是能耗大户。客户需要在有限的散热预算和结温(Tj​)限制下,尽可能提高开关频率(以降低电机噪音、提高控制精度)并提升全负载范围的运行效率。

核心产品: Pcore™2 62mm SiC模块 (BMF540R12KA3),规格为1200V / 2.5mΩ (@ 25∘C),额定电流高达540A 。

应用洞察:以更低结温,实现更高输出能力

对于大功率电机驱动,SiC的核心价值在于其极低的开关损耗,这允许系统在“更高频率”和“更低温度”下运行,从而实现“双重胜利”。

实证数据:237.6kW 电机驱动仿真(固定负载对比)

在237.6kW电机驱动(800V母线,300A相电流)工况下,BMF540R12KA3与同级别IGBT (FF800R12KE7) 的对比仿真结果如下 :

表5:BMF540R12KA3 (SiC) vs. IGBT (237.6kW工况, 80°C散热)

器件 BMF540R12KA3 (SiC) FF800R12KE7 (IGBT)
开关频率 (fsw​) 12 kHz 6 kHz
单开关导通损耗 138.52 W 161.96 W
单开关开关损耗 104.14 W 957.75 W
单开关总损耗 242.66 W 1119.71 W
系统效率 99.39% 97.25%
最高结温 (Tj​) 109.49°C 129.14°C

数据解读:

损耗锐减:BASIC SiC模块的开关损耗(104.14 W)仅为IGBT(957.75 W)的1/9

双重优势:在2倍开关频率(12kHz vs 6kHz,显著降低电机噪音)下,SiC方案的系统效率提升了2.14% ,同时最高结温反而降低了近20°C。

实证数据:固定结温下的输出能力(“出力”)对比

当反向推算,在相同的175°C结温限制和6kHz频率下,不同模块能安全输出的最大相电流(“出力”)对比如下 :

BMF540R12KA3 (SiC) : 可输出 556.5 A

FF800R12KE7 (IGBT) : 仅可输出 446 A

商业价值: 这意味着,仅通过替换为BMF540R12KA3模块,客户的变频器在相同散热条件下,其额定输出功率(“出力”)可安全提升24.8% 。同时,62mm模块采用的 Si3​N4​ AMB基板 4 确保了在大电流和高热循环下的机械可靠性。

关键应用场景分析(四):AI服务器与通信电源

wKgZO2kZv1GAKN0XAAUd5lZ0Vbk418.png

市场挑战: AI算力的爆发式增长,推动数据中心电源(PSU)向“钛金级”效率和极致的功率密度(kW/U)迈进 。图腾柱PFC、LLC等高频拓扑(>100kHz)成为标配,但也带来了严峻的串扰误导通挑战。

核心产品: 650V/750V SiC MOSFET 分立器件 (如 B3M040065Z, B3M010C075Z) 。

应用洞察:高 Ciss​/Crss​ 比值,抑制高频串扰

在高频桥式电路中,上管开通时极高的dv/dt会通过下管的米勒电容 Crss​(即 Cgd​)将其误开启。因此,Ciss​/Crss​ 的比值是衡量器件抗米勒串扰能力的关键指标,比值越高越稳定。

实证数据:650V 40mΩ 关键参数竞品对比

BASIC的G3平台在电容参数上进行了深度优化,使其在PSU高频应用中具有显著的稳定性优势 。

表6:B3M040065Z (650V 40mΩ) 关键参数对比

器件 BASIC (B3M040065Z) Infineon (G1) Infineon (G2) CREE (G3) ST (G3)
Ciss​/Crss​ (比值) 220 93 172 203 66
Rth(jc)​ (°C/W) 0.6 0.85 max 0.87 max 0.85 0.73
QG​ (nC) 60 41 28 63 37.5

数据解读:

抗扰度:BASIC B3M040065Z的 Ciss​/Crss​ 比值高达220,分别是ST (66) 和Infineon G1 (93) 的3.3倍2.4倍,抗误导通能力极强。

散热能力:其结壳热阻 Rth(j−c)​ 仅为0.6 °C/W,在所有竞品中最低,意味着在AI服务器等高密度、风冷受限的环境中,其芯片结温最低,可靠性最高。

商业价值: 结合TOLL、TOLT(顶部散热)、TO-263-7等先进贴片封装 4,BASIC的650V/750V系列能完美满足AI服务器PSU对高效率、高密度、自动化生产和先进热管理的需求。

“全栈式”解决方案:从功率器件到配套驱动芯片

SiC器件的应用门槛远高于IGBT,不当的驱动设计是导致器件失效的首要原因。BASIC半导体深刻理解这一痛点,提供了一套从主功率器件到配套驱动IC、电源IC的“全栈式”解决方案,旨在消除客户的应用壁垒,加速研发周期。

SiC驱动的核心挑战:米勒现象与误导通

SiC MOSFET的驱动挑战主要源于其“低阈值”和“高速度”的矛盾 :

低开启阈值 (VGS(th)​) :通常仅为 1.8V 至 2.7V。

极高开关速度 (dv/dt) :开关速度极快,可达 50 V/ns 甚至更高。

在半桥拓扑中,当上管Q1开通时,桥臂中点电压Vout急剧上升,产生巨大的dv/dt。这个dv/dt会通过下管Q2的米勒电容 Cgd​(即 Crss​)注入一个米勒电流 Igd​。该电流流过栅极关断电阻 Rgoff​,在Q2的栅源两端(VGS​)产生一个正向电压尖峰 Vspike​=Igd​×Rgoff​。

如果 Vspike​ 超过了Q2的 VGS(th)​,Q2将被误导通,导致上下桥臂直通短路,引发灾难性故障 。

BASIC的系统级对策:米勒钳位与负压驱动

BASIC的解决方案是采用“负压驱动 + 米勒钳位”的组合拳。

负压驱动:推荐使用 -5V 的负栅压(VEE)关断,为 VGS​ 提供额外的噪声裕量 。

米勒钳位(Miller Clamp) :在关断期间,驱动IC(如BTD5350MCWR)的CLAMP引脚通过一个内部的低阻抗MOSFET,将SiC的门极(G)牢牢钳位到负电源轨(VEE)。当米勒电流 Igd​ 来袭时,它将被这条低阻抗路径旁路掉,无法在 Rgoff​ 上产生足够的电压尖峰 。

实证数据:米勒钳位功能对比

双脉冲平台实测数据直观地证明了该功能的必要性 :

无米勒钳位 (0V关断) :在800V/40A工况下,下管的 VGS​ 被米勒电流抬高至7.3V。这个电压远高于 VGS(th)​,已造成严重的桥臂直通。

采用负压 (-4V) 和米勒钳位:在相同工况下,下管的 VGS​ 尖峰被完全抑制,牢牢钳位在0V,彻底杜绝了误导通风险。

配套芯片组:加速产品研发周期

BASIC提供了一套完整的、经过优化的“芯片组”,确保主功率器件工作在最佳状态,并为客户提供一站式选型便利 。

表7:BASIC “芯片组”解决方案选型推荐

器件类型 推荐型号 关键规格 适配模块
隔离驱动IC (单通道) BTD5350MCWR 10A峰值电流, 带米勒钳位, 11V UVLO, SOW-8 34mm, 62mm, E2B
隔离驱动IC (双通道) BTD25350MMCWR 10A峰值, 带米勒钳位, 11V UVLO, SOW-18 高密度PFC, LLC
驱动电源IC BTP1521F / BTP1521P 6W 正激DC-DC, 可编程频率, DFN/SOP-8 为BTD系列提供隔离电源
隔离变压器 TR-P15DS23-EE13 EE13, 双路2W输出 (典型+18V/-5V) 配合BTP1521F

此外,BASIC还基于上述芯片组提供了即插即用的驱动板参考设计(如BSRD-2427 for 34mm, BSRD-2503 for 62mm),可极大缩短客户的评估与研发周期 。

wKgZPGkNQ2uAE9pNAAhwA03MuGw815.pngwKgZO2kMnhqAWS5FAAVOt8hDExs319.pngwKgZPGkMnhuACdc4AAZnOln7lPM365.pngwKgZPGkOi5qAVjNIAAWjRUQ6hSg288.pngwKgZO2kMnhuAew6bAASQIBRIBhc258.pngwKgZPGkMnhuANR72AAYF2cT77uU798.pngwKgZPGkMnhuANR72AAYF2cT77uU798.png

深圳市倾佳电子有限公司(简称“倾佳电子”)是聚焦新能源与电力电子变革的核心推动者:
倾佳电子成立于2018年,总部位于深圳福田区,定位于功率半导体与新能源汽车连接器的专业分销商,业务聚焦三大方向:
新能源:覆盖光伏、储能、充电基础设施;
交通电动化:服务新能源汽车三电系统(电控、电池、电机)及高压平台升级;
数字化转型:支持AI算力电源、数据中心等新型电力电子应用。
公司以“推动国产SiC替代进口、加速能源低碳转型”为使命,响应国家“双碳”政策(碳达峰、碳中和),致力于降低电力电子系统能耗。
需求SiC碳化硅MOSFET单管及功率模块,配套驱动板及驱动IC,请添加倾佳电子杨茜微芯(壹叁贰 陆陆陆陆 叁叁壹叁)

结论:面向北方市场的技术优势总结

BASiC基本半导体半导体的SiC产品组合,通过详实的竞品对比、严苛的可靠性数据和深入的应用仿真,证明了其在技术和商业上的双重价值。其核心竞争力可总结为三点:

wKgZO2kNRDWAKQieAAYnoo8wfus549.pngwKgZO2kNOcaAM2aAAAb4RMnV7os303.png

数据驱动的卓越性能:基于G3芯片平台,其产品在工商业PCS(+1%效率,+25%密度)、高端焊机(4倍频率,1.58%效率提升)和工业变频(2倍频率,2.14%效率提升,-20°C结温)等北方核心应用领域,均展现出代际领先的实证优势。

专为严苛环境的坚实可靠:通过AEC-Q101、2500小时加严HTRB测试以及 Si3​N4​ AMB等先进封装技术的应用,其产品专为北方工业及新能源应用中常见的振动、高温、大功率循环等严苛环境而设计,确保了长期的耐用性。

消除应用壁垒的全栈式方案:BASIC不仅提供高性能的主功率器件,更提供了包括米勒钳位驱动IC、配套电源IC和变压器在内的“全栈式”解决方案。这套经过验证的芯片组系统性地解决了SiC应用的驱动难题,显著降低了客户的研发风险和周期。

综上所述,BASiC基本半导体的SiC解决方案在性能、可靠性和系统完整性上均表现出强大的市场竞争力,是北方地区电力电子企业实现产业升级、构筑“新质生产力”的理想技术路径。


审核编辑 黄宇

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 半导体
    +关注

    关注

    336

    文章

    29999

    浏览量

    258462
  • SiC
    SiC
    +关注

    关注

    32

    文章

    3522

    浏览量

    68183
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    电子光伏与储产业功率半导体分立器件从IGBT向碳化硅MOSFET转型的深度研究报告

    电子光伏与储产业功率半导体分立器件从IGBT向碳化硅MOSFET转型的
    的头像 发表于 12-01 09:49 1084次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>光伏与储<b class='flag-5'>能</b><b class='flag-5'>产业</b>功率<b class='flag-5'>半导体</b>分立器件从IGBT向碳化硅MOSFET转型的<b class='flag-5'>深度</b>研究报告

    电子SVG技术发展趋势与SiC模块应用价值深度研究报告

    电子SVG技术发展趋势与基本半导体SiC模块应用价值深度研究报告
    的头像 发表于 11-30 09:58 515次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>SVG技术发展趋势与<b class='flag-5'>SiC</b>模块应用价值<b class='flag-5'>深度</b>研究报告

    电子碳化硅SiC MOSFET驱动特性与保护机制深度研究报告

    汽车产业链。电子聚焦于新能源、交通电动化和数字化转型三大方向,分销代理BASiC基本半导体SiC
    的头像 发表于 11-23 11:04 1510次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>碳化硅<b class='flag-5'>SiC</b> MOSFET驱动特性与保护机制<b class='flag-5'>深度</b>研究报告

    充电桩一级效:电子SiC碳化硅MOSFET满足GB 46519-2025标准的技术解析报告

    充电桩一级效:电子SiC碳化硅MOSFET
    的头像 发表于 10-29 07:07 841次阅读
    <b class='flag-5'>赋</b><b class='flag-5'>能</b>充电桩一级<b class='flag-5'>能</b>效:<b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b><b class='flag-5'>SiC</b>碳化硅MOSFET满足GB 46519-2025标准的技术<b class='flag-5'>解析</b>报告

    电子壁挂直流充电桩的架构演进与半导体技术前沿:拓扑、趋势及SiC MOSFET应用价值深度解析

    电子壁挂直流充电桩的架构演进与半导体技术前沿:拓扑、趋势及SiC MOSFET应用价值
    的头像 发表于 10-21 09:54 499次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>壁挂<b class='flag-5'>式</b>直流充电桩的架构演进与<b class='flag-5'>半导体</b>技术前沿:拓扑、趋势及<b class='flag-5'>SiC</b> MOSFET应用价值<b class='flag-5'>深度</b><b class='flag-5'>解析</b>

    电子行业洞察:中国SiC碳化硅功率半导体发展趋势与企业采购策略深度解析

    电子行业洞察:中国SiC碳化硅功率半导体发展趋势与企业采购策略深度
    的头像 发表于 10-09 18:31 1233次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>行业洞察:中国<b class='flag-5'>SiC</b>碳化硅功率<b class='flag-5'>半导体</b>发展趋势与企业采购策略<b class='flag-5'>深度</b><b class='flag-5'>解析</b>

    电子SiC碳化硅产业大时代:市场分层与基本半导体的战略价值

    电子SiC碳化硅
    的头像 发表于 10-03 16:09 198次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b><b class='flag-5'>SiC</b>碳化硅<b class='flag-5'>赋</b><b class='flag-5'>能</b>储<b class='flag-5'>能</b><b class='flag-5'>产业</b>大时代:市场分层与基本<b class='flag-5'>半导体</b>的战略价值

    电子SiC碳化硅MOSFET串扰抑制技术:机理深度解析与基本半导体系级解决方案

    电子SiC碳化硅MOSFET串扰抑制技术:机理深度解析与基本
    的头像 发表于 10-02 09:29 485次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b><b class='flag-5'>SiC</b>碳化硅MOSFET串扰抑制技术:机理<b class='flag-5'>深度</b><b class='flag-5'>解析</b>与基本<b class='flag-5'>半导体</b>系级<b class='flag-5'>解决方案</b>

    电子代理的基本半导体驱动IC及电源IC产品力深度解析报告

    电子代理的基本半导体驱动IC及电源IC产品力深度解析报告 I. 报告执行摘要:基本
    的头像 发表于 09-30 17:53 2751次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>代理的基本<b class='flag-5'>半导体</b>驱动IC及电源IC产品力<b class='flag-5'>深度</b><b class='flag-5'>解析</b>报告

    电子SiC功率模块四象限工业变频器:发展历程、技术优势与未来趋势深度分析

    电子SiC功率模块四象限工业变频器:发展历程、技术优势与未来趋势
    的头像 发表于 09-29 19:41 2297次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b><b class='flag-5'>SiC</b>功率模块<b class='flag-5'>赋</b><b class='flag-5'>能</b>四象限工业变频器:发展历程、技术优势与未来趋势<b class='flag-5'>深度</b>分析

    电子碳化硅(SiC)技术下的工业逆变焊机:拓扑重构、效能飞跃及系统级设计深度分析

    电子碳化硅(SiC)技术下的工业逆变焊机:拓扑重构、效能飞跃及系统级设计
    的头像 发表于 09-28 08:34 605次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>碳化硅(<b class='flag-5'>SiC</b>)技术<b class='flag-5'>赋</b><b class='flag-5'>能</b>下的工业逆变焊机:拓扑重构、效能飞跃及系统级设计<b class='flag-5'>深度</b>分析

    电子深度解析AI人工智能微电网解决方案SiC碳化硅功率半导体如何重塑能源未来

    电子深度解析AI人工智能微电网解决方案SiC
    的头像 发表于 09-22 06:41 648次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b><b class='flag-5'>深度</b><b class='flag-5'>解析</b>AI人工智能微电网<b class='flag-5'>解决方案</b>:<b class='flag-5'>SiC</b>碳化硅功率<b class='flag-5'>半导体</b>如何重塑能源未来

    电子功率半导体驱动电路设计深度解析SiC MOSFET驱动挑战与可靠性实现

    电子功率半导体驱动电路设计深度解析SiC MO
    的头像 发表于 09-14 22:59 769次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>功率<b class='flag-5'>半导体</b>驱动电路设计<b class='flag-5'>深度</b><b class='flag-5'>解析</b>:<b class='flag-5'>SiC</b> MOSFET驱动挑战与可靠性实现

    电子SiC碳化硅MOSFET开关行为深度研究与波形解析

    电子SiC碳化硅MOSFET开关行为深度研究与波形解析
    的头像 发表于 09-01 11:32 2521次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b><b class='flag-5'>SiC</b>碳化硅MOSFET开关行为<b class='flag-5'>深度</b>研究与波形<b class='flag-5'>解析</b>

    电子SiC MOSFET串扰Crosstalk效应深度解析与综合抑制策略研究报告

    电子SiC MOSFET串扰Crosstalk效应深度解析与综合抑制策略研究报告
    的头像 发表于 09-01 10:51 2515次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b><b class='flag-5'>SiC</b> MOSFET串扰Crosstalk效应<b class='flag-5'>深度</b><b class='flag-5'>解析</b>与综合抑制策略研究报告