0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

倾佳电子技术报告:基本半导体34mm碳化硅(SiC)功率模块产品线深度分析及在关键工业应用中的技术潜力评估

杨茜 来源:jf_33411244 作者:jf_33411244 2025-09-21 11:00 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

倾佳电子技术报告:基本半导体34mm碳化硅(SiC)功率模块产品线深度分析及在关键工业应用中的技术潜力评估

wKgZPGi0E3WAXnm6ABOH8BDApj4543.png

倾佳电子(Changer Tech)是一家专注于功率半导体和新能源汽车连接器的分销商。主要服务于中国工业电源电力电子设备和新能源汽车产业链。倾佳电子聚焦于新能源、交通电动化和数字化转型三大方向,并提供包括IGBT、SiC MOSFET、GaN等功率半导体器件以及新能源汽车连接器。

倾佳电子杨茜致力于推动国产SiC碳化硅模块在电力电子应用中全面取代进口IGBT模块,助力电力电子行业自主可控和产业升级!

倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET功率器件三个必然,勇立功率半导体器件变革潮头:

倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET模块全面取代IGBT模块和IPM模块的必然趋势!

倾佳电子杨茜咬住SiC碳化硅MOSFET单管全面取代IGBT单管和大于650V的高压硅MOSFET的必然趋势!

倾佳电子杨茜咬住650V SiC碳化硅MOSFET单管全面取代SJ超结MOSFET和高压GaN 器件的必然趋势!

摘要

倾佳电子通过对基本半导体(BASiC)34mm SiC功率模块产品线的全面分析,证实其在性能、效率和功率密度上相较于传统IGBT模块具备显著优势。核心优势包括:极低开关损耗、卓越的高温性能以及实现系统级小型化的能力。通过详实的仿真数据和实测参数,量化了这些优势在逆变焊机、电镀电源等高频高能效应用中的巨大潜力。同时,倾佳电子也深入剖析了SiC技术在驱动、并联均流等方面面临的挑战,并提供了基于米勒钳位等功能的成熟解决方案,为SiC在工业领域的广泛应用提供了清晰的技术路径。

1. 引言

1.1 全球功率半导体技术发展趋势

在过去数十年里,功率半导体技术一直是电力转换系统的核心驱动力。随着全球对能源效率、系统小型化和性能提升的需求日益增长,传统以硅(Si)为基础的功率器件已逐渐接近其材料物理极限。为此,业界将目光转向了宽禁带(WBG)半导体材料,如碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)。这些新材料的出现,正在引发一场功率电子领域的深刻变革。

wKgZO2ixr9KAB_fEAAtEeYZcyJI764.png

wKgZPGixr72AD4gAABEzy41TdGw074.png

wKgZPGixr76AclXZABc74ZEXKeQ706.png

碳化硅作为一种重要的宽禁带半导体,在物理特性上远超传统硅材料。例如,其禁带宽度是硅的三倍,临界电场强度是硅的十倍,热导率是硅的三倍以上 1。这些优越的物理特性直接转化为SiC功率器件的卓越性能,使其能够支持更小、更轻的功率设计,并实现更高的功率密度 。此外,基于SiC的功率器件能够在高达

200∘C的结温下稳定工作(仅受限于封装),大大降低了对散热系统的依赖,从而支持设计出更紧凑、更可靠、更坚固的解决方案 。SiC技术的进步,使得现有电源设计可以在不进行重大架构变更的情况下,快速集成其性能和效率优势,同时将物料清单(BOM)成本维持在可控范围内 。

1.2 倾佳电子全力推动基本半导体SiC模块在中国电力电子市场的应用

倾佳电子旨在对基本半导体(BASiC)的34mm SiC MOSFET模块产品线进行一次全面、深入的技术分析。倾佳电子将从以下几个关键维度展开:首先,综述该产品线的核心特性和关键型号参数;其次,通过详实的数据,深入对比SiC MOSFET与传统IGBT模块在技术性能上的差异,并评估其在特定应用中全面替代IGBT的潜力;最后,详细分析这些模块在电镀电源、电解电源、逆变焊机、商用电磁炉、工业感应加热及高频直流电源等核心工业应用中的技术优势与广阔前景。倾佳电子旨在为功率电子系统设计工程师、系统架构师及技术决策者提供权威且具实践指导意义的参考依据。

2. 基本半导体34mm SiC MOSFET模块产品线综述

2.1 产品线核心特性与设计亮点

基本半导体推出的34mm SiC MOSFET模块系列,作为其核心工业模块产品线,以其独特的封装和卓越的性能脱颖而出 。该系列均采用标准34mm半桥拓扑封装,提供了覆盖60A至160A连续电流等级的丰富型号,包括BMF60R12RB3、BMF80R12RA3、BMF120R12RB3和BMF160R12RA3 。

该产品线的设计理念秉持“车规级产品设计”,以确保高可靠性和在严苛工业环境下的长期稳定性 。其关键技术亮点包括:

低导通损耗与优异的高温性能:采用公司第三代芯片技术,实现了极低的导通电阻,并在高温下保持了出色的R_{DS(on)}性能 。

低开关损耗与高开关频率:模块的低电感设计和SiC芯片本身的特性,使其开关损耗极低,非常适合用于高开关频率的应用,进而有助于减小设备体积和提高功率密度 。

高可靠性封装:模块内部采用了高性能的text{Al}{2}text{O}{3}$直接覆铜陶瓷基板(DCB)和高温焊料,显著提升了产品的热循环可靠性 。

集成NTC温度传感器:多数模块集成了负温度系数(NTC)热敏电阻,便于实时监控芯片温度,实现更精准的热管理和系统保护 。

2.2 主要型号参数概览与对比

下表1汇总了基本半导体34mm SiC MOSFET模块产品线中各主要型号的核心技术参数。

wKgZO2i0EmKANqP8AAWqHq9SrrY580.png

Table 1: 基本半导体34mm SiC MOSFET模块产品线核心参数对比

封装 Pcore™2 34mm Pcore™2 34mm Pcore™2 34mm Pcore™2 34mm -
拓扑 半桥 半桥 半桥 半桥 -
VDSS 1200 1200 1200 1200 V
ID(TC=80∘C) 60 80 - - A
ID(TC=75∘C) - - 120 160 A
RDS(on)@25°C 21.2 15 10.6 7.5
RDS(on)@175°C 37.3 26.7 18.6 13.3
QG 168 220 336 440 nC
Eon@175°C 2.0 2.7 6.9 9.2 mJ
Eoff@175°C 1.0 1.3 3.5 4.5 mJ
Rth(j−c) 0.70 0.54 0.37 0.29 K/W
数据来源:
参数 BMF60R12RB3 BMF80R12RA3 BMF120R12RB3 BMF160R12RA3 单位

从上表可以观察到,随着模块额定电流等级(IDnom)从60A提升至160A,其导通电阻(RDS(on))和热阻(Rth(j−c))呈现规律性的下降趋势,而总栅极电荷(QG)和开关能量(Eon、Eoff)则随之上升。这种现象是功率模块设计中固有的物理权衡。额定电流的提高通常是通过在模块内并联更多数量的SiC芯片来实现。从电学原理来看,电阻和热阻是并联关系(1/Rtotal=∑1/Ri),因此,并联芯片的数量越多,总导通电阻和总热阻就越低,从而降低了传导损耗和改善了散热性能。

然而,芯片的并联同样会导致总栅极电荷(QG)和总输入电容(Ciss)的增加,因为电容也遵循并联关系(Ctotal=∑Ci)。更高的总栅极电荷意味着需要更大的驱动电流和更长的驱动时间来完成器件的开通和关断,这直接导致了开关损耗(Eon、Eoff)的增加。因此,在选择模块时,工程师需要在低传导损耗和低开关损耗之间进行权衡。对于以传导损耗为主的低频应用,选择高电流等级模块(如BMF160R12RA3)可以获得更优的性能;而对于以开关损耗为主的高频应用,可能需要考虑使用较低电流等级的模块,或通过多模块并联的方式,在满足电流需求的同时降低单个模块的总QG,以减少总开关损耗。

2.3 BMF80R12RA3典型模块详细性能分析

作为产品线的核心代表,BMF80R12RA3模块(1200V, 80A)的性能表现尤为突出 。其典型导通电阻在25∘C时为15.6mΩ,在175∘C高温下仅为27.8mΩ,这表明其高温导通性能优异 。模块在

Tvj=25∘C时的总栅极电荷Q_{G}典型值为220nC,开通和关断开关能量分别仅为2.4mJ和1.0mJ 。

该模块的一个关键技术亮点是其体二极管(Body Diode)的卓越反向恢复性能 。在Tvj=25∘C时,其反向恢复时间(trr)仅为20.2ns,反向恢复电荷(Qrr)为0.3μC,反向恢复能量(Err)仅为67.3μJ 。在高温Tvj=175∘C下,虽然这些参数有所增加,但其绝对值依然远低于同等规格的IGBT模块 。

wKgZO2i0EeOAJf7YAAojTIaFGZk872.png

体二极管反向恢复性能是SiC MOSFET相对于IGBT的一个根本性技术优势。这种差异源于两类器件的基本物理工作原理。SiC MOSFET是单极型器件,其导通和关断仅依赖于多数载流子(电子)的流动。当其体二极管导通后,反向恢复过程主要由寄生电容决定,不会产生IGBT中因少数载流子(空穴)复合而导致的“拖尾电流”(Current Tail)现象 。拖尾电流是IGBT在高频关断时产生的主要损耗源之一。由于SiC器件不存在这种效应,其反向恢复时间极短,能量损耗微乎其微。这一特性使得SiC模块在硬开关拓扑中能以远高于IGBT的频率工作,同时保持极高的能效,这对于逆变焊机、高频直流电源等应用至关重要。

3. SiC MOSFET与传统IGBT模块技术潜力深度对比

3.1 核心技术优势:材料特性与器件性能

wKgZPGi0Mk-ADJKoAAOBqZd6_20795.png

SiC MOSFET相对于传统硅基IGBT的优越性源于材料物理特性的根本性差异 。SiC的宽禁带(3.26eV)使其能够承受更高的临界电场强度,从而允许设计更薄的漂移层,这直接导致了通态电阻(RDS(on))的大幅下降。此外,SiC的高热导率使其能更有效地将热量从芯片传导至散热器,极大地降低了结-壳热阻,提升了散热能力。同时,宽禁带的特性也使得SiC器件能够承受更高的工作结温(可达175∘C),降低了对复杂冷却系统的要求 。

这些材料优势共同转化为器件性能的飞跃。下表2对比了SiC MOSFET与IGBT模块在多个核心参数上的显著差异。

Table 2: SiC MOSFET与传统IGBT模块核心性能参数对比

导通损耗 极低 较低 SiC的低$R_{DS(on)}$在低电流、大占空比下损耗更低
开关损耗 极低 较高 SiC无电流拖尾,适用于高频硬开关
工作频率 50-100kHz及更高 <20kHz SiC可实现系统小型化、高功率密度
最高结温 175∘C(模块) 125∘C(模块) 降低散热要求,提升系统可靠性
功率密度 极高 较低 SiC可实现更高的功率输出与更小的体积
短路耐受时间 <5μs >10μs SiC要求更快的保护电路
驱动电压 +18V/-4V +15V/-8V SiC对驱动器提出了更高的要求
数据来源:
参数 SiC MOSFET模块 传统IGBT模块 解释与影响

3.2 损耗与效率对比:仿真数据分析

基本半导体通过电力电子仿真,模拟了BMF80R12RA3模块在实际工况中的性能表现,并与传统IGBT模块进行了对比 。仿真条件设定为:全桥拓扑、电焊机功率20kW、散热器温度

80∘C、直流母线电压540V,并对比了在不同开关频率下的损耗与效率。

wKgZPGjG3vSAM_w4AAcB3dmbyJE100.png

wKgZO2i0EyuAQrnbAAeMJIeJvt8279.png

Table 3: BMF80R12RA3与传统IGBT模块在20kW焊机应用中的损耗与效率仿真数据对比

仿真数据显示,尽管BMF80R12RA3模块的工作频率从IGBT时代的20kHz大幅提升至80kHz,其总损耗仅为1200V 100A IGBT模块的一半左右,整机效率提高了近1.58个百分点 。损耗的显著降低直接带来了系统级能效的飞跃。损耗的减少意味着功率器件产生的热量大大降低,从而对散热系统的要求也随之减小,可采用更小、更轻的散热器。同时,开关频率的提升能够使电源系统中的无源元件,如变压器、电感和电容,实现指数级的小型化和轻量化,因为这些元件的尺寸与工作频率成反比。这两方面效应的叠加,使得整个电源系统的功率密度实现了质的飞跃。

3.3 SiC全面取代IGBT的潜力与挑战

在特定应用中,SiC技术展现出全面取代IGBT的巨大潜力。例如,有观点指出,一个50A的碳化硅模块可以替代一个150A的硅模块 ,这从性能上充分证明了SiC的优越性。在对能效、体积和重量有严格要求的应用领域,如新能源汽车、高频工业电源、光伏逆变器等,SiC正在加速取代传统硅器件,成为必然趋势。

然而,SiC在广泛应用中也面临一些挑战。首先是成本问题。尽管SiC衬底和代工成本正逐年下降,但目前SiC MOSFET的系统成本仍然比同等性能的IGBT系统高出约10% 。其次是短路耐受能力。SiC MOSFET的短路耐受时间通常小于5μs,远低于IGBT的10μs以上 。这要求配套的短路保护电路必须在极短的时间内(通常在3μs内)快速响应,以防止器件损坏 。最后,SiC的高开关速度(高dv/dt)也对驱动器提出了更高的要求,需要专门设计的驱动电路来应对米勒效应等挑战。

4. 关键应用领域的技术优势与潜力分析

4.1 逆变焊机与工业感应加热

wKgZPGi0E5OAEkHHAAhew4aFtBk124.png

wKgZPGjGxB2AeEfYAAb5-OPz6oo899.png

wKgZO2i0E5OAA3NmAAgpXjpxfqM695.png

wKgZO2i0E5OAArcwAAa7mFU3jtQ721.png

wKgZPGi0E5OANKwUAAW3uovA0Og199.png

逆变焊机和工业感应加热设备的核心需求是高频、高效率和高功率密度。这些应用需要快速、精准地控制大电流,以实现高质量的焊接或加热工艺。SiC MOSFET模块在这些应用中的技术优势与该需求高度匹配。如第3.2节的仿真数据所示,即使在80kHz的高频率下,BMF80R12RA3模块的总损耗仍远低于IGBT,这使得整机效率更高,散热需求更低。高开关频率不仅能缩小变压器和电感等磁性元件的体积,使焊机或加热设备更加轻便,还能加快系统的动态响应速度,使输出电流和功率的控制更加精准,从而易于实现更高质量的工艺控制 。

4.2 电镀电源与电解电源

电镀与电解电源对能效和电流控制精度要求极高。在这些大功率长时间运行的应用中,即使是微小的效率提升,也能带来巨大的节能收益。SiC模块的低导通和低开关损耗特性,能够最大限度地减少能量在转换过程中的热损失 。同时,SiC器件能够承受更高的工作结温,这使得在高温环境下,电源仍能稳定可靠地运行,并减少对昂贵的冷却系统的依赖,从而降低了系统成本和体积 。此外,SiC的高频开关能力使得电源可以提供更平滑、更稳定的直流输出,对于确保电镀和电解工艺的均匀性和一致性至关重要。

4.3 高频直流电源与商用电磁炉

高频直流电源和商用电磁炉等应用对功率密度和能效要求严苛。这些应用中,高频开关是实现小型化的关键。SiC MOSFET的低开关损耗和无反向恢复特性,使其成为LLC谐振变换器、全桥移相等高频硬开关或软开关拓扑的理想选择 。通过将开关频率从IGBT的20kHz提升至100kHz甚至更高,可以显著减小变压器、电容和电感等无源元件的尺寸和重量 。最终,这使得高频直流电源和商用电磁炉能够实现更高的功率输出,同时将体积和重量压缩至传统硅方案无法企及的水平。

5. 驱动与并联应用技术解析

5.1 SiC MOSFET驱动的特殊要求与挑战

尽管SiC MOSFET性能优越,但其高开关速度也带来了驱动上的特殊挑战,其中最突出的问题是米勒效应(Miller Effect)导致的误导通风险。在半桥或全桥电路中,当一个开关管(如上管)开通时,桥臂中点的电压会迅速上升。这种高dv/dt会通过关断管(如下管)的栅极-漏极寄生电容(Cgd)产生一个米勒电流(Igd=Cgd×dv/dt) 。这个米勒电流流经门极关断电阻(RGoff),会在下管的栅极-源极之间产生一个正向电压(Vgs=Igd×RGoff)。如果这个电压超过了SiC MOSFET较低的阈值电压(Vgsth),就会导致本应保持关断的下管意外导通,造成桥臂短路(也称为“直通”),进而损坏器件 。

为了解决这一问题,基本半导体在其驱动方案中集成了米勒钳位(Miller Clamp)功能。基本半导体的产品手册详细展示了米勒钳位功能的工作原理和实测效果 。通过双脉冲测试,实测波形对比显示,在没有米勒钳位功能的情况下,下管的门极电压被高dv/dt抬高至7.3V,远超其2.7V的阈值电压,存在严重的误导通风险 。而当启用米勒钳位功能后,该电压被有效钳制在2V以下,成功抑制了误导通现象 。

米勒钳位的工作原理是在SiC MOSFET关断期间,当其门极电压降至特定阈值(例如BTD5452R芯片的1.8V)时,驱动芯片内部的钳位开关会被激活 。这个开关会在门极和负电源轨之间形成一个极低阻抗的通路,迅速泄放米勒电流,有效防止门极电压被抬高,从而确保器件可靠关断。这表明,米勒钳位是驱动SiC MOSFET在高频、硬开关应用中不可或缺的保护机制。

wKgZPGi06xCALB_jAAb_N3FwMp8486.png

wKgZO2i06xCAPLa_AAhj4XnakME202.png

wKgZO2i06xCAPLa_AAhj4XnakME202.png

wKgZPGi06xGAb1lZAA_zKpffFD8668.png

wKgZPGi06xGAFTKCAA9hrhXgVjc312.png

wKgZO2i06xGAcQbwAA_WZX3qy_c626.png

wKgZO2jHhN6AQWZqAAsSuoYqwnM304.png

wKgZO2i06xGACE_-AAUiY_uyL24692.png

Table 4: 米勒钳位功能在SiC模块中的应用效果

5.2 多管并联均流技术与实践建议

在大功率应用中,通过将多个SiC MOSFET并联来提高电流容量是一种经济有效的方法 。然而,由于芯片参数(如阈值电压V_{th}和导通电阻R_{ds(on)})的离散性、模块内部芯片布局的不对称性以及寄生电感(Lσ)的不匹配,多管并联容易出现动态电流不平衡现象,导致某些器件承受过高的应力 。

为了实现可靠的并联均流,需要综合考虑设计方案。实践建议包括:

优化PCB布局:尽可能减小驱动回路和功率回路的寄生电感,尤其是源极寄生电感,并确保每个并联通道的电感对称性 。

独立栅极电阻:对于并联的SiC MOSFET,建议为每个栅极配置独立的栅极电阻,这有助于减少开关过程中的振铃,并避免器件因振荡而超出其最大额定电压 。

米勒钳位功能的应用:当并联模块需要使用米勒钳位功能时,为了不破坏驱动回路的一致性,推荐在驱动芯片的米勒钳位脚(Clamp)与每个SiC MOSFET的门极之间分别串联一个肖特基二极管 。这些二极管应选择低压降型号,以确保米勒钳位通路的一致性,从而实现动态均流。

深圳市倾佳电子有限公司(简称“倾佳电子”)是聚焦新能源与电力电子变革的核心推动者:
倾佳电子成立于2018年,总部位于深圳福田区,定位于功率半导体与新能源汽车连接器的专业分销商,业务聚焦三大方向:
新能源:覆盖光伏、储能、充电基础设施;
交通电动化:服务新能源汽车三电系统(电控、电池、电机)及高压平台升级;
数字化转型:支持AI算力电源、数据中心等新型电力电子应用。
公司以“推动国产SiC替代进口、加速能源低碳转型”为使命,响应国家“双碳”政策(碳达峰、碳中和),致力于降低电力电子系统能耗。
需求SiC碳化硅MOSFET单管及功率模块,配套驱动板及驱动IC,请搜索倾佳电子杨茜

wKgZPGizZ56AHT2AAAY1SSdASk8954.png

wKgZO2izZ52AXhbCAAWqrhkuEMQ018.png

wKgZO2izZ5-AWfgoAAftGrzlebE922.png

wKgZO2izZ5-AWfgoAAftGrzlebE922.png

wKgZPGizZ6OATf2QAA8TJn5joYA115.png

6. 结论与未来展望

6.1 核心结论回顾

倾佳电子的分析结果表明,基本半导体34mm SiC MOSFET模块产品线在性能、效率和功率密度方面均展现出显著的卓越性。通过对BMF系列模块参数的横向对比,证实了其在低导通损耗、低开关损耗和优异高温性能上的优势。特别是BMF80R12RA3模块的仿真数据,有力证明了SiC技术能够在大幅提升开关频率的同时,将系统总损耗降低一半,进而实现系统级的小型化和轻量化。这些技术优势使其在电镀电源、电解电源、逆变焊机、工业感应加热、高频直流电源和商用电磁炉等应用中具有巨大的技术潜力。尽管SiC面临成本和驱动等挑战,但通过采用米勒钳位等先进驱动技术,这些挑战已能被有效解决。

wKgZO2i6CPaAPBQEACVVeotjATY664.png

wKgZO2izfYmASAElAAmWZxkaQyc958.png

wKgZO2jILNqAdTiwABYl6l6M0dE182.png

6.2 SiC技术在工业领域的未来展望

随着全球对能源效率和碳中和目标的日益重视,SiC技术在工业功率转换领域的应用前景将愈加广阔。随着SiC衬底制造技术和批量生产工艺的持续进步,其成本将继续下降,从而加速其在更多领域的商业化应用。未来的趋势将是SiC在充电桩、数据中心电源、光伏逆变器等对能效和功率密度有核心需求的领域加速取代传统硅器件,并最终成为高功率工业应用的主流技术。基本半导体以其34mm SiC模块产品线,正处于这场技术变革的前沿,为工业界的能效革命提供了强大的技术支持。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 半导体
    +关注

    关注

    336

    文章

    29977

    浏览量

    257987
  • 碳化硅
    +关注

    关注

    25

    文章

    3305

    浏览量

    51705
  • SiC模块
    +关注

    关注

    0

    文章

    31

    浏览量

    6283
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    碳化硅基板——三代半导体的领军者

    超过40%,其中以碳化硅材料(SiC)为代表的第三代半导体功率电力电子器件是目前电力
    发表于 01-12 11:48

    BASiC基本股份国产SiC碳化硅MOSFET产品线概述

    电子杨茜致力于推动国产SiC碳化硅模块电力
    的头像 发表于 02-12 06:41 821次阅读
    BASiC基本股份国产<b class='flag-5'>SiC</b><b class='flag-5'>碳化硅</b>MOSFET<b class='flag-5'>产品线</b>概述

    34mm碳化硅SiC功率模块应用在电力电子系统的推荐方案

    34mm碳化硅SiC功率模块应用在电力电子系统推荐方案
    的头像 发表于 05-04 13:23 741次阅读
    <b class='flag-5'>34mm</b><b class='flag-5'>碳化硅</b>(<b class='flag-5'>SiC</b>)<b class='flag-5'>功率</b><b class='flag-5'>模块</b>应用在电力<b class='flag-5'>电子</b>系统的推荐方案

    电子新能源汽车主驱技术演进与SiC碳化硅功率模块深度价值分析报告

    电子新能源汽车主驱技术演进与SiC碳化硅功率
    的头像 发表于 09-16 13:55 819次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>新能源汽车主驱<b class='flag-5'>技术</b>演进与<b class='flag-5'>SiC</b><b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>功率</b><b class='flag-5'>模块</b>的<b class='flag-5'>深度</b>价值<b class='flag-5'>分析</b><b class='flag-5'>报告</b>

    电子1400V 碳化硅 (SiC) MOSFET 产品竞争力深度分析报告

    电子1400V 碳化硅 (SiC) MOSFET 产品竞争力
    的头像 发表于 09-28 09:32 409次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>1400V <b class='flag-5'>碳化硅</b> (<b class='flag-5'>SiC</b>) MOSFET <b class='flag-5'>产品</b>竞争力<b class='flag-5'>深度</b><b class='flag-5'>分析</b><b class='flag-5'>报告</b>

    电子商用电磁加热技术革命:基本半导体34mm SiC MOSFET模块加速取代传统IGBT模块

    电子商用电磁加热技术革命:基本半导体34mm SiC
    的头像 发表于 10-11 10:56 967次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>商用电磁加热<b class='flag-5'>技术</b>革命:基本<b class='flag-5'>半导体</b><b class='flag-5'>34mm</b> <b class='flag-5'>SiC</b> MOSFET<b class='flag-5'>模块</b>加速取代传统IGBT<b class='flag-5'>模块</b>

    电子SiC碳化硅MOSFET串扰抑制技术:机理深度解析与基本半导体系级解决方案

    电子SiC碳化硅MOSFET串扰抑制技术:机理深度
    的头像 发表于 10-02 09:29 462次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b><b class='flag-5'>SiC</b><b class='flag-5'>碳化硅</b>MOSFET串扰抑制<b class='flag-5'>技术</b>:机理<b class='flag-5'>深度</b>解析与基本<b class='flag-5'>半导体</b>系级解决方案

    电子功率工业传动市场:驾SiC碳化硅功率模块带来的技术颠覆

    电子功率工业传动市场:驾SiC碳化硅
    的头像 发表于 10-09 17:48 485次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>大<b class='flag-5'>功率</b><b class='flag-5'>工业</b>传动市场:驾<b class='flag-5'>SiC</b>驭<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>功率</b><b class='flag-5'>模块</b>带来的<b class='flag-5'>技术</b>颠覆

    电子针对高性能电力变换的基本半导体34mm封装SiC模块平台战略分析

    电子针对高性能电力变换的基本半导体34mm封装SiC模块
    的头像 发表于 10-10 21:45 269次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>针对高性能电力变换的基本<b class='flag-5'>半导体</b><b class='flag-5'>34mm</b>封装<b class='flag-5'>SiC</b><b class='flag-5'>模块</b>平台战略<b class='flag-5'>分析</b>

    工业焊机高频化革命:SiC碳化硅驱动的拓扑架构分析34mm功率模块的战略价值

    电子工业焊机高频化革命:SiC碳化硅驱动的拓扑架构分析
    的头像 发表于 11-04 10:02 219次阅读
    <b class='flag-5'>工业</b>焊机高频化革命:<b class='flag-5'>SiC</b><b class='flag-5'>碳化硅</b>驱动的拓扑架构<b class='flag-5'>分析</b>及<b class='flag-5'>34mm</b><b class='flag-5'>功率</b><b class='flag-5'>模块</b>的战略价值

    电子主流厂商碳化硅 (SiC) MOSFET 驱动 IC 产品及其技术特征深度研究报告

    电子主流厂商碳化硅 (SiC) MOSFET 驱动 IC 产品及其
    的头像 发表于 11-23 10:53 1187次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>主流厂商<b class='flag-5'>碳化硅</b> (<b class='flag-5'>SiC</b>) MOSFET 驱动 IC <b class='flag-5'>产品</b>及其<b class='flag-5'>技术</b>特征<b class='flag-5'>深度</b>研究<b class='flag-5'>报告</b>

    电子碳化硅SiC MOSFET驱动特性与保护机制深度研究报告

    电子碳化硅SiC MOSFET驱动特性与保护机制深度研究
    的头像 发表于 11-23 11:04 1385次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b><b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>SiC</b> MOSFET驱动特性与保护机制<b class='flag-5'>深度</b>研究<b class='flag-5'>报告</b>

    电子市场报告:国产SiC碳化硅功率器件碳化硅户用储能领域的战略突破

    电子市场报告:国产SiC碳化硅功率器件
    的头像 发表于 11-24 04:57 125次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子市场报告</b>:国产<b class='flag-5'>SiC</b><b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>功率</b>器件<b class='flag-5'>在</b>全<b class='flag-5'>碳化硅</b>户用储能领域的战略突破

    电子SVG技术发展趋势与SiC模块应用价值深度研究报告

    电子SVG技术发展趋势与基本半导体SiC模块应用
    的头像 发表于 11-30 09:58 366次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>SVG<b class='flag-5'>技术</b>发展趋势与<b class='flag-5'>SiC</b><b class='flag-5'>模块</b>应用价值<b class='flag-5'>深度</b>研究<b class='flag-5'>报告</b>

    电子光伏与储能产业功率半导体分立器件从IGBT向碳化硅MOSFET转型的深度研究报告

    电子光伏与储能产业功率半导体分立器件从IGBT向碳化硅MOSFET转型的
    的头像 发表于 12-01 09:49 628次阅读
    <b class='flag-5'>倾</b><b class='flag-5'>佳</b><b class='flag-5'>电子</b>光伏与储能产业<b class='flag-5'>功率</b><b class='flag-5'>半导体</b>分立器件从IGBT向<b class='flag-5'>碳化硅</b>MOSFET转型的<b class='flag-5'>深度</b>研究<b class='flag-5'>报告</b>