广明源邀您共赴2025上海国际半导体技术大会暨展览会

2025上海国际半导体技术大会暨展览会将于7月29-31日在上海国家会展中心（虹桥）举行。作为兼具规模和行业影响力的半导体产业品牌盛会，展会聚焦半导体行业创新产品、先进技术、应用解决方案及商业合作模式的集中展示与交流，为行业上下游企业提供一站式对接平台。

邀请函

尊敬的先生/女士：

您好！

我们诚挚邀请您莅临2025上海国际半导体技术大会暨展览会。届时，广明源（展位号：4.1H馆 3-B12-1）将携172nm准分子光源在半导体制造领域的多场景应用解决方案亮相展会，期待与行业专家、合作伙伴及客户代表深入交流，共同探讨光科技在半导体先进制程中的应用前景与合作机会。

顺颂商祺！

广明源光科技股份有限公司

2025年7月

172nm准分子光科技应用方案

助力半导体行业降本增效

本次展会，广明源将重点展示172nm准分子光源在半导体制程中的多项应用成果，涵盖晶圆清洗、表面改性、超纯水TOC处理及工艺验证开发等多个环节，为行业客户提供高效、环保、可定制的工艺优化方案。

展出亮点

1晶圆/掩膜版光清洗解决方案

√ 功能：高效去除晶圆及掩膜版表面微观有机污染物，实现超净化处理。

√ 优势：无化学残留、低温无损伤、原子级洁净度。

√ 应用：晶圆、光罩、掩膜版、显示屏、PET、PCB 等的表面有机污染物清洁、封装前预处理、光刻胶去除。

172nm清洁纳米压印模具，提高洁净度

2晶圆键合改性解决方案

√ 功能：精准调节表面亲水性和粘附性能，提升键合效果。

√ 优势：低热效应、快速处理、无化学残留。

√ 应用：薄膜沉积前处理、MEMS封装、3D封装、晶圆键合、倒装芯片及引线键合等高精度芯片制造环节。

照射后，亲水性提高，接触角明显变小

3超纯水TOC降解解决方案

√ 功能：高效降解超纯水系统中的总有机碳（TOC），洁净度可达ppb级。

√ 优势：无化学添加、在线降解、稳定可靠。

√ 应用：半导体晶圆制程、显示面板生产等超纯水系统。

超纯水TOC降解原理

4制程验证开发解决方案

专为半导体工艺研发、制程验证及小批量试产设计的172nm MINI实验模组，具备结构紧凑、便于部署、灵活可移、成本可控等特点，适用于多种实验环境及工艺验证需求。

172nm MINI实验模组

√ 功能：高效分解晶圆表面有机残留，提升洁净度与附着性能。

√ 优势：高集成轻量化设计，便于搭建实验环境。

√ 应用：表面有机污染物去除、表面活化与改性、封装工艺前处理及超净化超微细清洗工艺验证。

广明源诚邀行业同仁莅临展位，现场交流光科技在半导体制造工艺中的应用实践与创新成果，共同探讨合作机会，助力行业高质量发展。