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半导体封装工艺流程的主要步骤

中科院半导体所 来源:学习那些事 2025-05-08 15:15 次阅读
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文章来源:学习那些事

原文作者:前路漫漫

本文介绍了半导体封装工艺流程的主要步骤。

概述

半导体的典型封装工艺流程包括芯片减薄、芯片切割、芯片贴装、芯片互连、成型固化、去飞边毛刺、切筋成型、上焊锡、打码、外观检查、成品测试和包装出库,涵盖了前段(FOL)、中段(EOL)、电镀(plating)、后段(EOL)以及终测(final test)等多个关键环节。

芯片减薄

首先是芯片减薄,芯片减薄环节这对应着实际操作中的背面减薄(back grinding)。具体而言,就是把从晶圆厂产出的晶圆进行背面研磨处理,将晶圆的厚度精准减薄至封装所要求的范围。在实施磨片操作时,为了保护晶圆正面的电路区域(active area),需要在正面贴上胶带,然后同步进行背面的研磨工作。当研磨完成后,小心地去掉胶带,并对晶圆的厚度进行精确测量。

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背面减薄

芯片切割

接下来是芯片切割步骤,也就是晶圆切割(wafer saw),该步骤又细分为三个子步骤:晶圆安装(wafer mount)、晶圆切割及清洗(wafer wash)。第一步是将晶圆牢固地粘贴在蓝膜(mylar)之上,确保即使在后续的切割过程中,晶圆也不会出现散落的情况。第二步,通过锯片(saw blade)将整片晶圆细致地切割成一个个独立的方块(dice),以便为后续的芯片贴装(die attach)等工序做好准备。第三步的晶圆清洗,主要是为了清除在切割过程中产生的各类粉尘,避免这些粉尘进入到后续的工序中,影响产品质量。

芯片贴装

完成芯片切割后,紧接着进行第一次外观检查,即第二道光检(2nd optical inspection)。这一步骤主要是在显微镜下对切割后的晶圆进行全面的外观检查,仔细查看是否存在废品。当检查完毕且确认无废品后,便进入到芯片贴装环节(die attach)。芯片贴装又可细分为点银浆(write epoxy)、芯片粘接及银浆固化(epoxy cure)这三个具体步骤。银浆需要在极为低温的-50℃环境下妥善保存,在使用之前,要先进行回温处理,以彻底除去其中的气泡,之后才可以进行点银浆的操作。在银浆固化时,需要将温度保持在175℃,并持续1小时,同时为了避免银浆被氧化,该过程需要在氨气环境中进行。

芯片互连

芯片互连是将芯片焊区与电子封装外壳的O引线或基板上的金属布线焊区相连接,实现芯片功能的制造技术。其服务对象包括芯片与芯片间、芯片与封装衬底间以及器件与基板间的物理连接。

芯片互连的常见方法包括引线键合(leadbonding,LB;又称打线键合)技术、载带自动键合(TAB)技术和倒装芯片键合(flip chipbonding,FCB)技术三种。其中,倒装芯片键合技术又称C4--可控塌陷芯片互连技术。

成型固化

完成芯片互连后,进入到成型固化步骤,这其中包含了注塑(molding)和模后固化(post mold cure)两个部分。注塑所使用的塑封料呈现为黑色块状,与银浆类似,在使用前需要进行低温存储,使用时则要先进行回温处理。塑封料具有特殊的特性,在高温环境下,它会先处于熔融状态,然后逐渐硬化,通常经过60~120秒之后就会成型。在进行注塑操作时,先将引线框(L/F)放置于模具之中,确保每个芯片都准确位于相应的腔体中,合模后,把块状塑封料放入模具孔内。在高温的作用下,塑封料会迅速熔化并流入腔体,从底部开始逐渐覆盖芯片。模后固化是指在注塑之后,将产品置于(175±5)℃的温度环境下,经过大约8小时的时间,对塑封料进行充分固化,这样做的目的是为了更好地保护IC的内部结构,并有效消除内部应力。

去飞边毛刺

在注塑工序完成后,产品表面往往会残留多余的塑封材料,此时便需进入去飞边毛刺环节,对应实际生产中的去溢料(de-flash)工艺。该步骤通过组合式处理方法,先利用弱酸溶液对器件进行浸泡,使溢料部分发生适度化学溶蚀,削弱其与主体结构的结合力;再借助高压水冲洗,以强劲的水流冲击力将溶蚀后的溢料彻底清除,从而让管体周围及引线间的多余物质完全剥离,使产品外观达到洁净规整的标准,为后续加工奠定良好基础。

上焊锡

紧接着的上焊锡工序,专业术语称为电镀(plating),这是提升器件性能与可靠性的关键步骤。电镀工艺运用电化学或化学沉积原理,在引线框表面构建起一层均匀致密的金属镀层。这层防护层如同坚固的铠甲,能够有效抵御潮湿空气、高温等外界环境因素对器件的侵蚀;同时显著改善元器件与印刷电路板(PCB)之间的焊接适配性,降低接触电阻,增强导电性能。

当前,电镀技术主要分为无铅电镀与铅锡合金电镀两大类型。无铅电镀采用纯度超99.95%的高纯度锡作为镀层材料,凭借环保优势与优异的电气性能,成为符合ROHS环保指令要求的主流工艺,广泛应用于各类电子产品制造。而铅锡合金电镀,因其合金成分中含15%的铅与85%的锡,因不符合环保规范,在绿色制造趋势下已逐渐退出市场。

完成电镀后,还需进行电镀退火(post annealing bake)处理。将经过无铅电镀的产品置于(150±5)℃的高温环境中烘烤特定时长,这一过程能够有效释放电镀层内部应力,抑制晶须生长风险。晶须作为金属镀层表面自发形成的针状晶体,若任其生长,可能引发短路等严重电气故障,通过退火工艺可从根本上消除此类潜在隐患,确保产品长期稳定运行 。

打码

之后是打码步骤,即激光打字(laser mask),该步骤是指利用激光技术,将产品名称、生产日期、批次等重要信息清晰地刻到产品的背面或正面。

切筋成型

再之后是切筋成型步骤,即切筋/成型(trim & form)。切筋是指将一整条片的引线框精确切割成单独的单元,而成型则是指对切筋之后的IC产品进行引脚成型处理,使其达到工艺要求的特定形状,最后将成型后的产品放置到管或者盘中。然后是第三次外观检查,即第四道光检(final visual inspection),这是在低倍放大镜下,对产品的外观进行全面检查,主要针对后段工艺可能产生的注塑缺陷、电镀缺陷以及切筋/成型缺陷等问题进行仔细排查。

成品测试与包装出库

完成外观检查后,进入成品测试环节,对产品的各项性能指标进行全面且严格的测试,确保产品符合质量标准。

最后是包装出库步骤,将通过测试的产品进行精心包装,然后按照相关流程出库,准备交付客户使用。

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原文标题:半导体封装工艺流程简介

文章出处:【微信号:bdtdsj,微信公众号:中科院半导体所】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

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