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美光计划投资约300亿元在日本新建DRAM厂

半导体芯科技SiSC 来源:半导体芯科技SiSC 作者:半导体芯科技SiS 2024-05-29 16:28 次阅读

据日媒报道,美光科技计划投入6000亿-8000亿日圆(约合人民币277-369亿元)在日本广岛县兴建新厂,用于生产DRAM芯片。这座新厂房将于2026年初动工,并安装极紫外光刻(EUV)设备。消息称最快2027年底便可投入营运。

报道称,此前,日本政府已批准多达1920亿日圆补贴,支持美光在广岛建厂并生产新一代芯片。去年,日本经济产业省曾表示,将利用这笔经费协助美光科技生产芯片,这些芯片将是推动生成式AI、数据中心自动驾驶技术发展的关键。

审核编辑 黄宇
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