原文作者:Tom
本文介绍了离子注入机的相关原理。
离子注入机的原理是什么?
上图是离子注入机的简易原理图,各部件作用依次为:
Ion Source(离子源):通过将气体电离,产生所需的离子类型。 Extraction Voltage(抽取电压):将产生的离子从源中抽取出来。 Ion Electrode(离子电极):形成和控制离子束。 Analyzing Magnet(分析磁铁):用于分离出不同荷质比的离子,确保只有所需荷质比的离子进入加速器。 Mass Separation Slit(质量分离缝隙):通过分析磁铁后所允许的离子的特定荷质比范围。 Acceleration Column(加速柱):离子继续加速到所需的最终能量。 Deflector(偏转器):用于调整离子束的路径,以确保离子精确地打到靶材料上。 Magnetic Quadrupole Lenses(磁性四极透镜):用于聚焦离子束,提高注入的精确性。 Electronic Scanning(电子扫描):控制离子束在靶材料表面的扫描模式,确保均匀注入。 Sample (Base Material)(样品(基材)):即靶材料,也就是离子要注入的半导体材料。
审核编辑:黄飞
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原文标题:离子注入机的原理介绍
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