苹果测试新抗反射涂层技术，提升iPhone相机成像水平

据可靠消息来源 yeux1122 在其 Naver 博客中透露，苹果公司正在进行一项全新的抗反射光学涂层技术测试，旨在降低镜头炫光及鬼影等问题，进一步提升手机照片画质。

据悉，苹果正在寻求采用全新原子层沉积（ALD）设备来改良iPhone相机镜头的生产工艺。

原子层次沉积（ALD）乃是一种采用连续气相化学反应方式在基板表面对物质实行逐层镀膜的工艺。无疑，ALD为一种精密纳米技术，能够精准控制并完成纳米级别超薄薄膜沉积。

在相机镜头领域，ALD工艺主要用于喷涂抗反射涂层，以减轻摄影中的伪影现象。如在强烈阳光直射镜头时，可能导致拍摄出的图像出现条纹或光晕，但通过ALD处理，可有效减少此类图像失真情况。

除此之外，ALD所用材料还能保护相机镜头免受环境因素破坏，且不影响传感器捕捉光线的效能。

文章指出，苹果计划将此工艺运用至iPhone的Pro机型中，有望在iPhone16 Pro系列乃至明年的iPhone17 Pro系列上得到体现。