0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

欧莱新材IPO:精耕溅射靶材行业,部分产品实现进口替代

一人评论 来源:一人评论 作者:一人评论 2023-11-02 14:12 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

近年来,广东欧莱高新材料股份有限公司(下称:欧莱新材或公司)等国内溅射靶材供应商抓住国家政策大力扶持和全球制造业转移的机遇,通过自主创新和引进国外先进生产设备和技术,推动行业技术水平持续提升,与国际先进水平的差距逐步缩小或达到平均水平,部分自主生产的产品已经实现进口替代。

据欧莱新材IPO招股书显示,欧莱新材持续突破创新,实现了重点行业上游关键材料的国产化,提升了我国半导体显示产业链的自主可控程度。公司高度重视技术研发,不断投入研发资源用于技术创新和工艺改进,及时推出符合市场发展趋势、满足客户需求的产品。公司精耕于半导体显示用溅射靶材行业多年,系国内较早进入半导体显示用溅射靶材行业的企业之一,在半导体显示用溅射靶材领域积累了丰富的技术经验。

目前,欧莱新材已实现G5、G6、G8.5、G8.6、G10.5、G11等世代线半导体显示用溅射靶材的量产供货,2020年至2022年,公司溅射靶材运用于G8.5以上高世代产线半导体显示产品中的销售收入占半导体显示用溅射靶材销售收入的比例均超过95%。公司铜靶、铝靶、钼及钼合金靶和ITO靶等主要产品已批量运用于京东方、华星光电、惠科、超视界、彩虹光电、深超光电和中电熊猫等下游知名半导体显示面板厂商 TFT-LCD 产品中,并进一步开拓了在Mini LED和Micro LED等新型半导体显示产品中的应用。

根据中国电子材料行业协会的证明,欧莱新材G8.5、G10.5平面铜靶、G10.5 平面 ITO 靶等多项产品的核心技术指标已达到国内外同类产品先进水平,实现进口替代,为实现我国显示材料国产配套作出了突出贡献。2022年合肥欧莱被认定为“2022年度新认定合肥市集成电路、新型显示、生物医药、网络与信息安全重点产业链企业”。

依托持续的技术创新,欧莱新材在知识产权领域也获得了不菲的成绩。目前,欧莱新材拥有128项授权专利,其中发明专利27项,实用新型专利101项,覆盖溅射靶材生产的各个关键环节。

审核编辑 黄宇

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 半导体
    +关注

    关注

    336

    文章

    29977

    浏览量

    258124
  • 欧莱新材
    +关注

    关注

    0

    文章

    34

    浏览量

    201
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    导致的功率器件焊接失效的“破局指南”

    本文以焊厂家工程师视角,科普焊导致功率器件封装焊接失效的核心问题,补充了晶闸管等此前未提及的器件类型。不同器件焊适配逻辑差异显著:小功率MOSFET用SAC305锡膏,中功率IGBT选
    的头像 发表于 12-04 10:03 268次阅读
    焊<b class='flag-5'>材</b>导致的功率器件焊接失效的“破局指南”

    7N纯度隐形战争:拆解半导体溅射靶的百亿替代路径(技术壁垒/市场红利/核心玩家)

    正文引言:被忽视的“芯片地基”在万众瞩目的光刻机“争霸战”和牵动神经的EDA软件“断供”风波之外,半导体产业的坚实基础——材料领域,其战略价值和投资潜力往往被低估。而在众多半导体核心材料中,溅射靶
    的头像 发表于 10-04 07:31 1568次阅读
    7N纯度隐形战争:拆解半导体<b class='flag-5'>溅射靶</b><b class='flag-5'>材</b>的百亿<b class='flag-5'>替代</b>路径(技术壁垒/市场红利/核心玩家)

    成立美国旧金山全资子公司 重点推进北美触觉传感业务

    美国时间 9 月 21 日,传感器行业传来一则备受瞩目的消息:福全资子公司 Apex Sensing LLC 在美国加利福尼亚州旧金山市正式注册成立。这一动作标志着福
    的头像 发表于 09-23 17:57 3287次阅读

    恒坤新IPO注册生效,助力打造国产集成电路关键材料供应链

    。 据恒坤新IPO上市招股书披露,恒坤新致力于集成电路领域关键材料的研发与产业化应用,是境内少数具备12英寸集成电路晶圆制造关键材料研发和量产能力的创新企业之一,主要从事光刻材料和前驱体材料的研发、生产和销售。 恒坤新
    的头像 发表于 09-18 10:33 347次阅读

    恒坤新IPO上市关注:技术创新成果显著,已实现境外同类产品替代

    近日,恒坤新科创板IPO注册生效的消息传来,这一消息在半导体材料行业引发了广泛关注。这家成立于2004年的企业,走过了从传统光电膜业务向集成电路关键材料战略转型的非凡历程。 恒坤新
    的头像 发表于 09-18 10:17 384次阅读

    恒坤新IPO拟募资10.07亿,锚定集成电路关键材料国产化突破

    体二期项目”与“集成电路用先进材料项目”,这一战略布局不仅精准契合国家产业导向,更瞄准了当前高端材料进口依赖度高、替代空间广阔的市场痛点,引发行业对国产化突破的高度期待。
    的头像 发表于 09-05 18:20 654次阅读

    什邡离线扫描设备如何测量长直线度

    /SY系列,具备便携性和多参数检测优势。 超长/连续生产:建议搭配在线测量仪,实现实时监控。 高精度需求:关注设备标定功能,部分型号支持双轴双向导轨校准(如裕泽工业科技产品)。
    发表于 09-05 14:05

    恒坤新IPO成功过会,剑指集成电路关键材料国产化

    8月29日,上交所上市委召开2025年第 32 次审议会议,厦门恒坤新材料科技股份有限公司(以下简称“恒坤新”)科创板IPO成功过会。 据恒坤新IPO上市招股书披露,恒坤新
    的头像 发表于 09-03 15:24 1861次阅读

    恒坤新IPO成功过会,拟募资10.07亿元加码集成电路材料产业

    2025年8月29日,上海证券交易所上市委员会召开2025年第32次审议会议,厦门恒坤新材料科技股份有限公司(以下简称“恒坤新”)首次公开发行股票并在科创板上市的申请顺利通过审核。恒坤新IPO
    的头像 发表于 09-03 15:01 478次阅读

    绝缘阻抗达20GΩ!如何破解一体电感粉难题?

    曾有业内专家向《磁性元件与电源》杂志坦言,一体成型电感技术发展的真正“卡脖子”环节,在于基础粉的开发与性能优化。 长久以来,国内粉研发能力薄弱,众多企业不得不仰赖进口,例如行业巨头
    的头像 发表于 08-18 11:21 488次阅读
    绝缘阻抗达20GΩ!如何破解一体电感粉<b class='flag-5'>材</b>难题?

    2025深圳3D打印增制造展,台湾高技即将亮相深圳增

    2025年8月26-28日,深圳国际会展中心将成为全球3D打印及增制造领域的焦点,深圳国际3D打印、增制造及精密成型展览会将在这里盛大开幕,台湾高技受邀即将亮相​深圳3D打印增制造展。
    的头像 发表于 08-15 18:00 1107次阅读
    2025深圳3D打印增<b class='flag-5'>材</b>制造展,台湾高技即将亮相深圳增<b class='flag-5'>材</b>展

    从光固化到半导体材料:久日新的光刻胶国产替代之路

    当您寻找可靠的国产半导体材料供应商时,一家在光刻胶领域实现全产业链突破的企业正脱颖而出——久日新(688199.SH)。这家光引发剂巨头,正以令人瞩目的速度在半导体核心材料国产化浪潮中崭露头角
    的头像 发表于 08-12 16:45 939次阅读

    Prismark‌公司到访华正新参观交流

    近日,Prismark资深分析师莅临华正新参观与交流。华正新事业部副总王航以及相关市场和技术人员热情接待并进行了深入的座谈交流。
    的头像 发表于 04-03 10:43 1293次阅读

    国亮新北交所IPO进入第二轮审核问询

    ,致力于为客户提供全面的耐火材料整体解决方案。公司不仅提供耐火材料整体承包服务,还生产和销售各类耐火材料产品,以满足客户在不同应用场景下的需求。 自2024年6月26日国亮新的招股书获得受理以来,其IPO进程备受市场关注。同年
    的头像 发表于 02-17 09:21 804次阅读

    磁性靶磁控溅射成膜影响因素

    深入探讨了磁性靶镍在磁控溅射过程中的关键影响因素,包括靶磁性对磁场分布的作用、工艺参数的优化、靶特性、基片处理、溅射环境控制、系统配置
    的头像 发表于 02-09 09:51 1703次阅读
    磁性靶<b class='flag-5'>材</b>磁控<b class='flag-5'>溅射</b>成膜影响因素