0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

光刻胶龙头拟北交所上市!

半导体材料圈 来源:集微网 2023-10-09 17:18 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

10月7日,证监会披露了国信证券股份有限公司(简称:国信证券)关于瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司(简称:瑞红苏州)向不特定合格投资者公开发行股票并在北交所上市辅导备案报告。

202d0e94-6682-11ee-939d-92fbcf53809c.png

据披露,国信证券与瑞红苏州于2023年9月签订了辅导协议,国信证券担任瑞红苏州向不特定合格投资者公开发行股票并在北交所上市辅导工作的辅导机构。

瑞红苏州已规模生产光刻胶30年,是国内光刻胶行业的领军企业之一,聚焦于半导体及显示面板应用领域,产品主要应用于FPD(LCD、TP、OLED、CF) LED、IC等相关电子行业,客户包括中芯国际、合肥长鑫、华虹半导体、晶合集成、三安光电、扬杰电子等国内知名半导体企业。其中半导体光刻胶包括紫外宽谱光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶等,显示面板光刻胶包括触摸屏光刻胶、TFT-LCD光刻胶等。

瑞红苏州厂区面积15000㎡,厂房6000㎡,洁净房400㎡,拥有100级净化罐装线。公司建成了具有国际先进水平的高端光刻胶生产线和测试实验平台,同时拥有紫外宽谱、g线(436nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nm)全系列***测试实验平台,可为公司产品研发测试、客户验证等提供全面的核心设备保障。

2023年上半年,瑞红苏州实现营业收入1.17亿元,同比下降1.64%;归母净利润1574.32万元,同比下降41.90%。

从股权结构来看,瑞红苏州的控股股东为上市公司晶瑞电材,其持股比例为88.78%。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 半导体
    +关注

    关注

    336

    文章

    29989

    浏览量

    258371
  • 显示面板
    +关注

    关注

    4

    文章

    227

    浏览量

    25768
  • 光刻胶
    +关注

    关注

    10

    文章

    348

    浏览量

    31551

原文标题:光刻胶龙头拟北交所上市!

文章出处:【微信号:icjobs,微信公众号:半导体材料圈】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    中国打造自己的EUV光刻胶标准!

    电子发烧友网报道(文/黄山明)芯片,一直被誉为 人类智慧、工程协作与精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要设备光刻机就是 雕刻这个结晶的 “ 神之手 ”。但仅有光刻机还不够,还需要光刻胶、掩膜版以及
    的头像 发表于 10-28 08:53 5854次阅读

    光刻胶剥离工艺

    光刻胶剥离工艺是半导体制造和微纳加工中的关键步骤,其核心目标是高效、精准地去除光刻胶而不损伤基底材料或已形成的结构。以下是该工艺的主要类型及实施要点:湿法剥离技术有机溶剂溶解法原理:使用丙酮、NMP
    的头像 发表于 09-17 11:01 1000次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离工艺

    光刻胶旋涂的重要性及厚度监测方法

    在芯片制造领域的光刻工艺中,光刻胶旋涂是不可或缺的基石环节,而保障光刻胶旋涂的厚度是电路图案精度的前提。优可测薄膜厚度测量仪AF系列凭借高精度、高速度的特点,为光刻胶厚度监测提供了可靠
    的头像 发表于 08-22 17:52 1394次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>旋涂的重要性及厚度监测方法

    从光固化到半导体材料:久日新材的光刻胶国产替代之路

    。 从光固化龙头到半导体材料新锐 久日新材的战略转型始于2020年。通过收购大晶信息、大晶新材等企业,强势切入半导体化学材料赛道。2024年11月,久日新材控股公司年产4500吨光刻胶项目进入试生产阶段,其中面板光刻胶4000吨
    的头像 发表于 08-12 16:45 950次阅读

    国产光刻胶突围,日企垄断终松动

      电子发烧友网综合报道 光刻胶作为芯片制造光刻环节的核心耗材,尤其高端材料长期被日美巨头垄断,国外企业对原料和配方高度保密,我国九成以上光刻胶依赖进口。不过近期,国产光刻胶领域捷报频
    的头像 发表于 07-13 07:22 5680次阅读

    行业案例|膜厚仪应用测量之光刻胶厚度测量

    光刻胶,又称光致抗蚀剂,是一种关键的耐蚀剂刻薄膜材料。它在紫外光、电子束、离子束、X 射线等的照射或辐射下,溶解度会发生变化,主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。由于
    的头像 发表于 07-11 15:53 359次阅读
    行业案例|膜厚仪应用测量之<b class='flag-5'>光刻胶</b>厚度测量

    针对晶圆上芯片工艺的光刻胶剥离方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

    引言 在晶圆上芯片制造工艺中,光刻胶剥离是承上启下的关键环节,其效果直接影响芯片性能与良率。同时,光刻图形的精确测量是保障工艺精度的重要手段。本文将介绍适用于晶圆芯片工艺的光刻胶剥离方法,并探讨白光
    的头像 发表于 06-25 10:19 731次阅读
    针对晶圆上芯片工艺的<b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离方法及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀光刻胶剥离液及白光干涉仪在光刻图形的测量

    引言 在显示面板制造的 ARRAY 制程工艺中,光刻胶剥离是关键环节。铜布线在制程中广泛应用,但传统光刻胶剥离液易对铜产生腐蚀,影响器件性能。同时,光刻图形的精准测量对确保 ARRAY 制程工艺精度
    的头像 发表于 06-18 09:56 617次阅读
    用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀<b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离液及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    低含量 NMF 光刻胶剥离液和制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

    引言 在半导体制造过程中,光刻胶剥离液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)虽在光刻胶剥离方面表现出色,但因其高含量使用带来的成本、环保等问题备受关注。同时,光刻图形的精准
    的头像 发表于 06-17 10:01 599次阅读
    低含量 NMF <b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离液和制备方法及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    金属低刻蚀的光刻胶剥离液及其应用及白光干涉仪在光刻图形的测量

    引言 在半导体制造与微纳加工领域,光刻胶剥离是重要工序。传统剥离液常对金属层产生过度刻蚀,影响器件性能。同时,光刻图形的精确测量也是确保制造质量的关键。本文聚焦金属低刻蚀的光刻胶剥离液及其应用,并
    的头像 发表于 06-16 09:31 519次阅读
    金属低刻蚀的<b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离液及其应用及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    减少光刻胶剥离工艺对器件性能影响的方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

        引言   在半导体制造领域,光刻胶剥离工艺是关键环节,但其可能对器件性能产生负面影响。同时,光刻图形的精确测量对于保证芯片制造质量至关重要。本文将探讨减少光刻胶剥离工艺影响的方法,并介绍白光
    的头像 发表于 06-14 09:42 662次阅读
    减少<b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离工艺对器件性能影响的方法及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    光刻胶产业国内发展现状

    如果说最终制造出来的芯片是一道美食,那么光刻胶就是最初的重要原材料之一,而且是那种看起来可能不起眼,但却能决定一道菜味道的关键辅料。 光刻胶(photoresist),在业内又被称为光阻或光阻剂
    的头像 发表于 06-04 13:22 662次阅读

    光刻胶剥离液及其制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

    引言 在半导体制造与微纳加工领域,光刻胶剥离液是光刻胶剥离环节的核心材料,其性能优劣直接影响光刻胶去除效果与基片质量。同时,精准测量光刻图形对把控工艺质量意义重大,白光干涉仪为此提供了
    的头像 发表于 05-29 09:38 984次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离液及其制备方法及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    光刻胶的类型及特性

    光刻胶类型及特性光刻胶(Photoresist),又称光致抗蚀剂,是芯片制造中光刻工艺的核心材料。其性能直接影响芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介绍了光刻胶类型和
    的头像 发表于 04-29 13:59 6945次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的类型及特性

    光刻胶成为半导体产业的关键材料

    光刻胶是半导体制造等领域的一种重要材料,在整个电子元器件加工产业有着举足轻重的地位。 它主要由感光树脂、增感剂和溶剂等成分组成。其中,感光树脂决定了光刻胶的感光度和分辨率等关键性能,增感剂有助于提高
    的头像 发表于 12-19 13:57 1798次阅读