0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

长鑫存储”晶圆循环时间的确定方法和装置“专利获授权

微云疏影 来源:综合整理 作者:综合整理 2023-10-09 10:49 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

长鑫存储技术有限公司授予“晶圆循环时间的确定方法和装置”专利,许可公告日为10月3日,许可公告号为cn113536572b。

wKgZomUjagiAGMqKAAHBfs3IS_U459.png

据专利文摘(摘要),本申请的决定施行如晶片周期时间的方法及装置提供,获取多个站点的机台的实际生产数据,根据多个站点的机台的实际生产数据,建立随机数表,该随机数表中包括各机台的样本数据。样品数据包括晶圆处理时间、机台宕机概率、宕机修复时间和随机区间使用Monte Carlo算法和随机数表,模拟晶片在各种机台集团的生产过程模拟器模拟过程经过zhongjing圆机台每次生成的随机数随机数表中的暗号属于区间。随机数用于选择机器的状态,在模拟装置中输入组装、晶片个数、模拟数,以获得晶圆周期的时间。

这种方法可以精确地模拟晶片的周期,并计算出任何一组、晶圆的数量和模拟次数。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 晶片
    +关注

    关注

    1

    文章

    413

    浏览量

    33002
  • 模拟器
    +关注

    关注

    2

    文章

    1024

    浏览量

    45831
  • 长鑫存储
    +关注

    关注

    2

    文章

    41

    浏览量

    9588
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    深圳市实业有限公司董事长孙刚

    1989年进入振行业,2003年创立。三十七年,只做一件事——振。 从仿制起步,到1612、1210超小尺寸振量产;从国内市场
    的头像 发表于 04-10 16:44 104次阅读
    深圳市<b class='flag-5'>晶</b>科<b class='flag-5'>鑫</b>实业有限公司董事长孙刚

    扇出型级封装技术介绍

    本文主要介绍扇出型(先上芯片面朝下)级封装(FOWLP)。首个关于扇出型级封装(FOWLP)的美国
    的头像 发表于 04-10 09:58 1144次阅读
    扇出型<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>级封装技术介绍

    SLC存储:工作原理、特性及市场前景全解析

    。本文将从内部构造与工作原理、核心特性(含优劣势)、应用市场及未来前景四大维度,结合精准数据展开深度解析,完整呈现SLC存储的技术价值与产业格局。 一、SLC存储
    的头像 发表于 01-26 11:28 571次阅读
    SLC<b class='flag-5'>存储</b><b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>:工作原理、特性及市场前景全解析

    存储DDR5/LPDDR5X双芯亮相,火力全开!

    电子发烧友网综合报道,近日,存储首次全面展示DDR5和LPDDR5X两大产品线最新产品。  
    的头像 发表于 11-25 08:27 9125次阅读
    <b class='flag-5'>长</b><b class='flag-5'>鑫</b><b class='flag-5'>存储</b>DDR5/LPDDR5X双芯亮相,火力全开!

    今日看点:存储官宣发布LPDDR5X,苹果自研 5G 芯片 C2 曝光

      存储官宣发布LPDDR5X 据存储官方网站信息更新,
    发表于 10-30 09:53 1183次阅读

    存储LPDDR5X来了!速率高达10667Mbps,跻身国际主流水平!

    电子发烧友网报道(文/黄晶晶),日前从存储官网查阅到,存储已正式发布LPDDR5/5X内
    的头像 发表于 10-30 09:12 6612次阅读
    <b class='flag-5'>长</b><b class='flag-5'>鑫</b><b class='flag-5'>存储</b>LPDDR5X来了!速率高达10667Mbps,跻身国际主流水平!

    再生和普通的区别

    再生与普通在半导体产业链中扮演着不同角色,二者的核心区别体现在来源、制造工艺、性能指标及应用场景等方面。以下是具体分析:定义与来源差异普通
    的头像 发表于 09-23 11:14 1495次阅读
    再生<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>和普通<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>的区别

    清洗机怎么做夹持

    清洗机中的夹持是确保在清洗过程中保持稳定、避免污染或损伤的关键环节。以下是
    的头像 发表于 07-23 14:25 1465次阅读

    华微再获发明专利授权

    杭州华微电子股份有限公司(股票代码:688130)自主创新研发的“一种高精度低功耗的交流阻抗测量电路及方法”,成功获得国家知识产权局授予的发明专利权通知书。
    的头像 发表于 07-09 11:46 1003次阅读

    切割中振动 - 应力耦合效应对厚度均匀性的影响及抑制方法

    性的影响机制,并提出有效抑制方法,是提升加工精度、推动半导体产业高质量发展的关键所在。 二、振动 - 应力耦合效应对厚度均匀性的影
    的头像 发表于 07-08 09:33 938次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>切割中振动 - 应力耦合效应对厚度均匀性的影响及抑制<b class='flag-5'>方法</b>

    提高键合 TTV 质量的方法

    )增大,影响器件性能与良品率。因此,探索提高键合 TTV 质量的方法,对推动半导体产业发展具有重要意义。 二、提高键合 TTV 质量
    的头像 发表于 05-26 09:24 1377次阅读
    提高键合<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b> TTV 质量的<b class='flag-5'>方法</b>

    降低 TTV 的磨片加工方法

    摘要:本文聚焦于降低 TTV(总厚度偏差)的磨片加工方法,通过对磨片设备、工艺参数的优化以及研磨抛光流程的改进,有效控制 TTV 值
    的头像 发表于 05-20 17:51 1538次阅读
    降低<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b> TTV 的磨片加工<b class='flag-5'>方法</b>

    瑞乐半导体——TC Wafer测温系统持久防脱专利解决测温点脱落的难题

    过程中的温度变化数据,为半导体制造过程提供一种高效可靠的方式来监测和优化关键的工艺参数。【核心技术】防脱落专利技术:TCWafer测温系统在高温、真空或强振动环
    的头像 发表于 05-12 22:23 1051次阅读
    瑞乐半导体——TC Wafer<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>测温系统持久防脱<b class='flag-5'>专利</b>解决测温点脱落的难题