0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

首台国产12英寸晶边刻蚀机发布

要长高 来源:网络整理 作者:网络整理 2023-07-19 16:50 次阅读

北方华创最近发布了一款名为Accura BE的12英寸等离子体刻蚀机,该设备应用于晶边刻蚀(Bevel Etch)工艺,实现了国产晶边干法刻蚀设备的突破。这项突破为我国先进芯片制造提供了高效的良率提升解决方案。

北方华创自2001年成立以来一直致力于研究刻蚀技术,并于2005年推出第一台8英寸ICP刻蚀机,随后带领国产刻蚀机的交付量逐渐增加,突破了1000台。

据北方华创相关负责人表示,“Accura BE作为国产首台12英寸晶边刻蚀设备,其技术性能已达到业界主流水平。” Accura BE通过软件系统调度优化和特有传输平台的结合,可以提升客户的产能。它可以选择多种刻蚀气体,实现对光刻胶(PR)、氧化物(OX)、氮化硅(SiN)、碳(Carbon)和金属(Metal)等多种膜层材料的晶边刻蚀工艺全覆盖。同时,它还可以提供定制的聚焦环设计组合,实现对等离子体刻蚀区域的精准位置控制,为客户提供灵活、全面的良率提升方案。此外,Accura BE还具备软件智能算法,可以进行可视化的量化调节,简化维护流程,提高设备的生产效率。

最新发布的12英寸等离子体刻蚀机Accura BE技术性能已达到业界主流水平。该设备主要有以下亮点:

1. 通过软件系统调度优化和特有传输平台的结合,能够帮助客户实现更高的产能。

2. 可选择多种刻蚀气体,实现对光刻胶(PR)、氧化物(OX)、氮化硅(SiN)、碳(Carbon)和金属(Metal)等多种膜层材料的晶边刻蚀工艺全覆盖。

3. 可定制多种尺寸的聚焦环设计组合,实现对等离子体刻蚀区域的精准位置控制,为客户提供灵活、全面的良率提升方案。

4. 配备软件智能算法,可实施可视化的量化调节,简化维护流程,提高设备的生产效率。

这些亮点使Accura BE在刚刚上市时就赢得了逻辑及存储器领域头部客户的多个订单,并且已经通过了工艺调试,进入了量产阶段。

编辑:黄飞

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片制造
    +关注

    关注

    9

    文章

    566

    浏览量

    28561
  • 软件系统
    +关注

    关注

    0

    文章

    52

    浏览量

    9444
  • 光刻胶
    +关注

    关注

    10

    文章

    281

    浏览量

    29739
  • 刻蚀设备
    +关注

    关注

    0

    文章

    20

    浏览量

    9115
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    最近国产的rsic-v的mcu有什么新品发布

    如题,最近国产的rsic-v的mcu有什么新品发布。那种超低功耗的!
    发表于 04-13 07:58

    什么是线刻蚀 干法线刻蚀的常见形貌介绍

    刻蚀过程中形成几乎完全垂直于晶圆表面的侧壁,是一种各向异性的刻蚀刻蚀后的侧壁非常垂直,底部平坦。这是理想的刻蚀形态,它能够非常精确地复制掩膜上的图案。
    发表于 03-27 10:49 140次阅读
    什么是线<b class='flag-5'>刻蚀</b> 干法线<b class='flag-5'>刻蚀</b>的常见形貌介绍

    联想向燧弘华创交付首台搭载国产AI算力芯片的问天WA5480 G3服务器

    3月19日,在联想集团(全球)最大的智能计算设备研发和制造基地——联宝科技,联想集团向燧弘华创交付联想首台可搭载国产AI算力芯片的联想问天WA5480 G3服务器。
    的头像 发表于 03-22 09:40 241次阅读

    刻蚀机是干什么用的 刻蚀机和光刻机的区别

    刻蚀机的刻蚀过程和传统的雕刻类似,先用光刻技术将图形形状和尺寸制成掩膜,再将掩膜与待加工物料模组装好,将样品置于刻蚀室内,通过化学腐蚀或物理磨蚀等方式将待加工物料表面的非掩膜区域刻蚀
    的头像 发表于 03-11 15:38 1049次阅读
    <b class='flag-5'>刻蚀</b>机是干什么用的 <b class='flag-5'>刻蚀</b>机和光刻机的区别

    北方华创国产12英寸HDPCVD设备进入客户生产线

    北方华创最近研发出了一款12英寸高密度等离子体化学气相沉积(HDPCVD)设备,名为Orion Proxima,并已正式进入客户端验证阶段。这一创新标志着北方华创在绝缘介质填充工艺技术上取得了重大突破,同时也为该公司进军12
    的头像 发表于 01-09 18:17 572次阅读

    增芯12英寸MEMS量产线首台设备搬入!来自国产半导体制造设备巨头!

    据传感器专家网获悉,12月28日,位于广州的增芯科技MEMS量产线项目举行首台生产设备搬入仪式, 本次搬入设备是由中微半导体设备(上海)有限公司制造的Primo D-RIE刻蚀设备反应台。 增芯
    的头像 发表于 01-02 18:10 506次阅读
    增芯<b class='flag-5'>12</b><b class='flag-5'>英寸</b>MEMS量产线<b class='flag-5'>首台</b>设备搬入!来自<b class='flag-5'>国产</b>半导体制造设备巨头!

    反激控制器 5L0380R 有国产替代吗?

    客户做小功率电源,目前有一款副反激控制器型号 5L0380R目前价格处于高位,客户为了降本增效考虑国产替代,具体参数详见附件,望各位大神不另赐教! *附件:ON-KA5L0380R.pdf
    发表于 10-23 17:21

    干法刻蚀与湿法刻蚀各有什么利弊?

    在半导体制造中,刻蚀工序是必不可少的环节。而刻蚀又可以分为干法刻蚀与湿法刻蚀,这两种技术各有优势,也各有一定的局限性,理解它们之间的差异是至关重要的。
    的头像 发表于 09-26 18:21 3937次阅读
    干法<b class='flag-5'>刻蚀</b>与湿法<b class='flag-5'>刻蚀</b>各有什么利弊?

    北方华创12英寸CCP晶边干法刻蚀设备已在客户端实现量产

    9月17日,北方华创在投资者互动平台表示,公司前期已经发布首台国产12英寸CCP晶边干法刻蚀
    的头像 发表于 09-20 10:09 609次阅读

    华海清科首台12英寸单片终端清洗机HSC-F3400机台出机

    华海清科首台12英寸单片终端清洗机HSC-F3400机台出机 华海清科股份有限公司是一家拥有核心自主知识产权的高端半导体设备制造商,公司主要产品包括CMP设备、减薄设备、供液系统、晶圆再生、关键耗材
    的头像 发表于 09-05 15:52 428次阅读

    晶能光电首发12英寸硅衬底InGaN基三基色外延

    近日,晶能光电发布12英寸硅衬底InGaN基红、绿、蓝全系列三基色Micro LED外延技术成果。
    的头像 发表于 09-01 14:07 790次阅读

    北方华创发布首台国产12英寸晶边刻蚀

    据介绍,在器件制造过程中,由于薄膜沉积、光刻、刻蚀和化学机械抛光等工艺步骤的大幅增长,在晶圆的边缘造成了不可避免的副产物及残留物堆积,这些晶边沉积的副产物及残留物骤增导致的缺陷风险成为产品良率的严重威胁。
    的头像 发表于 07-19 15:02 676次阅读

    北方华创12英寸深硅刻蚀机销售突破百腔

    北方华创作为国内领先的半导体设备制造企业,一直致力于为客户提供高品质、高性能的半导体设备。此次12英寸台灯成为国内主流客户批量生产的首选设备,充分证明了北方华创在半导体设备领域的技术力量和市场竞争力。
    的头像 发表于 06-28 10:15 716次阅读

    积塔半导体12英寸产线顺利通线

    来源:上海积塔半导体有限公司 近日,积塔半导体12英寸汽车芯片先导线顺利建成通线,标志着积塔12英寸汽车芯片项目取得重大进展,是积塔半导体实现12
    的头像 发表于 06-26 17:37 546次阅读
    积塔半导体<b class='flag-5'>12</b><b class='flag-5'>英寸</b>产线顺利通线

    上海伯东大口径射频离子源成功应用于12英寸IBE 离子束蚀刻机

    上海伯东美国 KRi 考夫曼公司大口径射频离子源 RFICP 380, RFICP 220 成功应用于 12英寸和 8英寸 IBE 离子束蚀刻机, 实现 300mm 和 200mm 硅片蚀刻,
    的头像 发表于 06-15 14:58 718次阅读
    上海伯东大口径射频离子源成功应用于<b class='flag-5'>12</b><b class='flag-5'>英寸</b>IBE 离子束蚀刻机