0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

韩国光刻胶供应过度依赖进口,目前供应不足导致库存量告急

汽车玩家 来源:网络整理 作者:网络整理 2022-04-19 14:40 次阅读

日前,据韩媒ETnews报道,韩国的光刻胶供应出现了短缺状况,导致库存量降低到了通常标准的3个月供应库存以下。

韩国的光刻胶一向都主要靠日本厂商进口供给,没有自给自足的能力,然而随着半导体制程越来越成熟,对光刻胶的需求也越来越大,但是光刻胶的进口量却没有得到提升,导致了库存量越来越少的结果。

据悉,一些韩国工厂的光刻胶库存量已经只剩2个月的供应量,通常来说,如果库存量低于3个月的供应量,那么厂商就要启动紧急计划来想办法满足供应,否则将会出现库存不足而导致生产中断的后果。

日本的光刻胶厂商牢牢地垄断着光刻胶的市场,韩国光刻胶供应大部分都来自日本,然而随着光刻胶价格上涨和日本出口管制政策的实施,虽然韩国本土的光刻胶厂商已经在努力提高产量,但光刻胶供应仍然无法满足其半导体产业生产的需求。

综合整理自 势银膜链 芯智讯 华尔街见闻

审核编辑 黄昊宇

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 光刻胶
    +关注

    关注

    10

    文章

    281

    浏览量

    29741
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    SU-8光刻胶起源、曝光、特性

    在紫外光照射下,三芳基碘盐光敏剂被激活,释放活性碘离子。这些活性碘离子与SU-8光刻胶中的丙烯酸酯单体反应,引发单体之间的交联反应,导致SU-8光刻胶在曝光区域形成凝胶化的图案。
    的头像 发表于 03-31 16:25 986次阅读
    SU-8<b class='flag-5'>光刻胶</b>起源、曝光、特性

    关于光刻胶的关键参数介绍

    与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的光刻胶
    的头像 发表于 03-20 11:36 469次阅读
    关于<b class='flag-5'>光刻胶</b>的关键参数介绍

    光刻胶光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 743次阅读

    如何在芯片中减少光刻胶的使用量

    光刻胶不能太厚或太薄,需要按制程需求来定。比如对于需要长时间蚀刻以形成深孔的应用场景,较厚的光刻胶层能提供更长的耐蚀刻时间。
    的头像 发表于 03-04 10:49 206次阅读
    如何在芯片中减少<b class='flag-5'>光刻胶</b>的使用量

    2023年中国光刻胶行业市场前景及投资研究报告

    光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料,是半导体制造中使用的核心电子材料之一。伴随着晶圆制造规模持续提升,中国有望承接半导体
    的头像 发表于 01-19 08:31 457次阅读
    2023年中<b class='flag-5'>国光刻胶</b>行业市场前景及投资研究报告

    光刻胶分类与市场结构

    光刻胶主要下游应用包括:显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等,其中显示屏是光刻胶最大的下游应用,占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%,是第三达应用场景。
    发表于 01-03 18:12 470次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>分类与市场结构

    匀胶速度影响光刻胶的哪些性质?

    匀胶是光刻中比较重要的一步,而旋涂速度是匀胶中至关重要的参数,那么我们在匀胶时,是如何确定匀胶速度呢?它影响光刻胶的哪些性质?
    的头像 发表于 12-15 09:35 566次阅读
    匀胶速度影响<b class='flag-5'>光刻胶</b>的哪些性质?

    光刻胶价格上涨,韩国半导体公司压力增大

    光刻胶类别的多样化,此次涨价案所涉KrF光刻胶属于高阶防护用品,也是未来各地厂家的竞争焦点。当前市场中,光刻胶主要由东京大贺工业、杜邦、JSR、信越化学、住友化学及东进半导体等大型制造商掌控。
    的头像 发表于 12-14 15:20 639次阅读

    光刻胶国内市场及国产化率详解

    KrF光刻胶是指利用248nm KrF光源进行光刻光刻胶。248nmKrF光刻技术已广 泛应用于0.13μm工艺的生产中,主要应用于150 , 200和300mm的硅晶圆生产中。
    发表于 11-29 10:28 338次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>国内市场及国产化率详解

    不仅需要***,更需要光刻胶

    为了生产高纯度、高质量的光刻胶,需要高纯度的配方原料,例如光刻树脂,溶剂PGMEA…此外,生产过程中的反应釜镀膜和金属析出污染监测也是至关重要的控制环节。例如,2019年,某家半导体制造公司由于光刻胶受到光阻原料的污染,
    的头像 发表于 11-27 17:15 611次阅读

    西陇科学9天8板,回应称“未生产、销售光刻胶

     20日,西陇科学(株)发布公告称,该公司没有生产销售矿产品。公司生产及销售用于清洗剂、显影液、剥离液等的光刻胶,占公司营业收入的比例,是目前用于上述用途的光刻胶配套。
    的头像 发表于 11-21 14:54 345次阅读

    光刻胶黏度如何测量?光刻胶需要稀释吗?

    光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体,不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻胶
    发表于 11-13 18:14 695次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>黏度如何测量?<b class='flag-5'>光刻胶</b>需要稀释吗?

    半导体关键材料光刻胶市场格局发展现状

    生产光刻胶的原料包括光引发剂(光增感剂、光致产酸剂帮助其更好发挥作用)、树脂、溶剂和其他添加剂等,我国由于资金和技术的差距,如感光剂、树脂等被外企垄断,所以光刻胶自给能力不足
    发表于 11-01 15:51 169次阅读
    半导体关键材料<b class='flag-5'>光刻胶</b>市场格局发展现状

    今日看点丨美企正减少对中国供应依赖 前5月从中国进口年减24%;刚传复工复产,爱驰汽车被强制执行1833万

    1. 外媒:美企正减少对中国供应依赖 前5 月从中国进口年减24%   据外媒报道,美国企业正在加快努力减少对中国供应商的依赖,根据美国人
    发表于 08-08 10:50 609次阅读

    日本光刻胶巨头JSR同意国家收购

    JSR 是全球仅有的四家 EUV 光刻胶供应商之一,其产品是制造先进芯片必不可少的原料。
    的头像 发表于 06-27 15:51 628次阅读