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原子层沉积(ALD)工艺助力实现PowderMEMS技术平台

MEMS 来源:麦姆斯咨询 作者:麦姆斯咨询 2022-03-17 09:46 次阅读

据麦姆斯咨询报道,近期,德国弗劳恩霍夫硅技术研究所(Fraunhofer Institute for Silicon Technology,ISIT)宣布将PICOSUN P-300B ALD系统用于其PowderMEMS技术平台。

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PICOSUN P-300B ALD系统及技术特点

Fraunhofer ISIT的PowderMEMS是一项新研发的创新技术,用于在晶圆级上从多种材料中创建三维微结构。该技术基于通过原子层沉积(ALD)工艺在空腔中将微米级粉末颗粒粘合在一起。与其它制造技术相比,PowderMEMS具有许多优势,因为它允许使用比传统烧结工艺低得多的工艺温度。粘合的多孔结构具有耐热性和耐化学性,因此可以在洁净室中进行广泛的后处理。

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PowderMEMS技术特点


“PowderMEMS可用于多种领域,包括MEMS传感器、MEMS执行器、MEMS能量收集器、微流控、微电子等。例如,它能够在晶圆级集成多孔和磁性3D微结构。”Fraunhofer ISIT小组负责人Björn Gojdka博士表示。


“我们正在寻找一种解决方案,用于在沟槽中对粉末进行保形高表面积涂层。Picosun的ALD解决方案非常适合我们的需求,同时也在研究扩大该技术的生产规模。我们对该ALD系统的热壁反应器、多用途的前驱体源、易于维护等感到特别满意。”Fraunhofer ISIT首席科学家Thomas Lisec博士说道。

Picosun欧洲公司总经理Christoph Hossbach博士表示:“我们对这项新技术的诞生及其带来的所有机会感到兴奋。我对Fraunhofer ISIT的PowderMEMS技术的潜在应用印象特别深刻,因为其非常多样化。期待继续与Fraunhofer ISIT保持密切合作。”

审核编辑 :李倩

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原文标题:原子层沉积(ALD)工艺助力实现PowderMEMS技术平台

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