0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

三星如何为摩尔定律再度添加一个“维度”

lPCU_elecfans 来源:电子发烧友网 作者:周凯扬 2021-10-12 14:31 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

在近期举办的2021年Samsung Foundry论坛上,三星透露了2/3nm制程工艺的新进展,并公开发布了全新的17nm工艺。三星市场战略副总裁MoonSoo Kang也面向产业合作伙伴,公布了三星在异构集成上的计划,如何为摩尔定律再度添加一个“维度”。

几十年间,半导体产业一直在不懈地推动摩尔定律,以更先进的制程做到更多的晶体管数目,这就是我们常说的“延续摩尔”方案,也是当前计算与电路领域持续创新最大的推动力。

尽管摩尔定律的延续,芯片面积仍在扩大,比如一直在追求算力的GPU,已经快要逼近光罩尺寸的限度了。再加上晶体管数目的增加,使得芯片设计成本和生产成本无休止地增加。在不少人看来,单靠“延续摩尔”不再是一个技术与成本上可持续的方案。

与此同时,更多的功能与特性集成在单个芯片上,却又没有单个制程可以满足所有不同功能的需求,比如模拟射频高压等,即便可以满足也无法达到优秀的性能与成本平衡。“延续摩尔”的方案在这类挑战面前束手无策,因此才出现了异构集成这种“扩展摩尔”的方案。通过两种方案的互补,共同做到“超越摩尔”。

Chiplet:降低成本提高良率的救星

随着单个芯片加入更多特性,即便摩尔定律延续下去,其芯片面积仍在增加,为所有不同功能的设计区块使用同一个制程节点成了抵消的选择,好在如今有了Chiplet这一救星的出现。将一大块裸片分成较小的chiplet,并为每个chiplet使用最优的制程,可以显著提高整个芯片的良率,同时减少生产成本。例如某些特定的接口IP并不会因为采用先进制程而获得面积或性能上的优化,对这些IP使用成熟制程和专用定制制程,可以做到更低的成本以及更优的性能。

另一个可行方案就是模组化的设计与制造,也就是重复使用相同的组件chiplet。不少IP模组都可以作为chiplet重复使用,只有芯片的其他部分需要重新设计和生产,此举显著减少了设计、开发与生产的成本,芯片厂商可以借此更快实现产品迭代。

X-Cube:垂直3D集成

异构集成不只是为了成本和良率考虑,也能进一步提升芯片性能。传统的2D设计中,信号路径有几毫米长。而在3D集成下,芯片的堆叠可以将信号路径减少至几微米,大大改进了芯片延迟。除此之外,3D集成中更出色的内联间距可以实现更高的带宽,进一步提高芯片性能。

早在2014年,三星就首次实现了将宽IO内存与移动应用处理器的3D堆叠,也就是三星的Widcon技术。随后,3D芯片堆叠技术继续发展,诞生了一系列HBM内存产品。HBM就是由DRAM与逻辑堆叠,并由微凸块和TSV相连而成的。也正是因为3D堆叠技术,三星得以开发出了3层的CMOS图像传感器,由图像传感器、逻辑与DRAM三种不同的裸片堆叠在一起而成。

2020年,三星推出了X-Cube技术,这项技术使得两个逻辑单元裸片可以垂直堆叠在一起,形成一个单独的3D芯片,由微凸块与TSV连接。X-Cube分为两种形式,两个裸片由微凸块连接或是直接铜键合。

第一代X-Cube技术(u-Bump)主要依靠微凸块连接,三星已经发布了针对7nm逻辑制程的TSV PDK,采用F2B结构,凸块间距为40um。面向4/5nm的TSV PDK也已经发布,改用F2F的结构,凸块间距降低至25um。尚在开发中的第二代X-Cube技术(Bump-less)则采用了直接铜键合技术,间距降低至4um。

值得一提的是,英特尔的Foveros 3D堆叠技术路线与三星X-Cube大致相同。第一代Foveros的凸块间距在36 um至50um之间,而下一代Foveros Omni技术同样可以做到25um的凸块间距。尚在开发的Foveros Direct也采用了直接铜键合的方式,宣称凸块间距降低至10um以下。

过去的X-Cube架构中,底部裸片的面积要大于顶部裸片,然而为了更好了满足客户对芯片分区和散热等不同要求,三星也将在后续提供顶部裸片大于底部裸片的结构。目前三星已经完成了3D堆叠SRAM的验证,在7nm的制程下,可以做到48.6GB/s的带宽,以及7.2ns的读取延迟与2.6ns的写入延迟。

除此之外,三星还提供了一项差异化技术,ISC(集成堆叠电容)。这一电容应用了已经在三星DRAM产品中获得验证的硅电容结构、材料和工艺,具有1100nF/mm2的电容密度,可以有效提高电源完整性。三星的ISC还提供了多种不同的配置,比如分立型、硅中介层型和多晶圆堆叠型,以满足客户不同的结构需求,ISC预计将在2022年进入量产阶段。

I-Cube:横向2.5D组合

另一方面,为了从横向组合芯片,三星开发了所谓的2.5D技术I-Cube,将逻辑单元与多个HBM集成在同一硅中介层上。目前三星已经成功实现了一个逻辑裸片+两个HBM的I-Cube 2量产,成品之一就是百度的昆仑AI芯片。百度的昆仑AI芯片不仅使用了三星的14nm制程,也运用了三星的I-CUBE 2技术。

I-Cube使用了预筛选的技术,在封装的中间阶段进行运算测试,从而提高良率。该技术还采用了无封胶的结构,做到更好的散热性能,据三星强调,与传统的2.5D方案相比,I-Cube的散热效率高上4.5%。此外,与其他代工厂商相比,三星的I-Cube技术还有一些优势,比如与三星内存合作,率先用上最新的内存方案

目前三星已经在计划集成4 HBM3模组的I-Cube4量产工作,而6 HBM的I-Cube6也已经做好量产准备,前者预计2022年进入大批量产阶段。三星更是准备了两个逻辑裸片+8个HBM的I-Cube8方案,目前尚处于开发阶段,预计2022年末将正式上线。

除了2D、2.5D与3D的IC技术之外,三星还在开发全新的3.5D封装技术,这种系统级封装内还将加入堆叠的定制DRAM或SRAM裸片,实现更高的性能与密度。

小结

在开发2.5D/3D集成的多芯片或多Chiplet系统级芯片时,设计者往往还会遇到在传统单芯片设计上罕见的技术障碍,比如多出来的接口IP或潜在的功耗增加。这时候,三星、台积电和刚进入IDM 2.0的英特尔等代工厂商还会提供异构设计的方法和工具,帮助设计者克服这些挑战。在异构集成的大势之下,代工厂也将提供更多的服务模式,增加封装、测试以及一站式的设计服务。责任编辑:haq

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 半导体
    +关注

    关注

    339

    文章

    31644

    浏览量

    268348
  • 三星电子
    +关注

    关注

    34

    文章

    15901

    浏览量

    183331

原文标题:超越摩尔,三星的异构集成之路

文章出处:【微信号:elecfans,微信公众号:电子发烧友网】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    互联破局,华为“韬定律”与奇异摩尔的战略共振

    平面维度;半导体行业,也不再只是光刻机、线宽和节点数字的游戏。 在华为开始探索韬定律时,奇异摩尔的核心团队同样从第性原理出发,重新思考了追求先进制程与工艺进步的根本目的,逐步认识到:
    的头像 发表于 06-02 17:33 1511次阅读
    互联破局,华为“韬<b class='flag-5'>定律</b>”与奇异<b class='flag-5'>摩尔</b>的战略共振

    “韬(τ)定律” 真正的战场,在未来5-8年内

    ‍‍‍‍‍过去二十年,中国半导体在制造、设计、半导体设备等领域的技术上不断追赶国际先进企业。但在话语权上,“7nm、5nm、2nm”这些代表“先进制程”的数字,都还是基于“摩尔定律”的语言和规则
    的头像 发表于 05-30 11:21 647次阅读
    “韬(τ)<b class='flag-5'>定律</b>”  真正的战场,在未来5-8年内

    华为ISCAS 2026提出“韬τ定律”:从尺寸微缩转向时间效率

    2026年5月25日,华为董事何庭波在上海ISCAS 2026上提出“韬τ定律”,认为摩尔定律的本质是收益而非单纯的晶体管缩小。该定律主张通过逻辑折叠等技术减少数据在芯片内部及之间的等待、传输和同步时间,将竞争焦点从纳米制程转向
    的头像 发表于 05-29 11:09 346次阅读

    定律:后摩尔时代走向“时间缩微”,光互联与SOA的新可能性

    、韬定律:后摩尔时代,从“做更小”到“跑得更快” 2026年5月25日,华为在IEEE ISCAS 2026正式提出 韬(τ)定律 ,核心
    发表于 05-28 09:51

    闭环 τ 定律——从“制程竞赛”转向“封装与散热竞赛”

    当芯片制程逼近物理极限,传统的摩尔定律逐渐失效,半导体行业亟需新思路。华为提出的“韬定律”转向“时间缩微”,SK海力士新发布的iHBM则通过嵌入式冷却技术压缩信号延迟——两者不约而同地指向同
    的头像 发表于 05-27 12:07 334次阅读
    闭环 τ <b class='flag-5'>定律</b>——从“制程竞赛”转向“封装与散热竞赛”

    韬(τ)定律发布!什么是韬(τ)定律?加速科技如何成为“时间缩微”的测试先锋?

    。   什么是“韬定律”? “韬定律”提出以“时间(τ)缩微”替代传统的“几何缩微”。传统摩尔定律依赖不断缩小晶体管尺寸来提升密度,但物理极限已至。华为的新思路是:不再主要靠“把晶体管做得更小”,而是系统性地降低芯片内部的时间常
    的头像 发表于 05-26 16:01 252次阅读

    封测巨头全球“圈地”,先进封装正成为AI时代的战略制高点

    2026年全球半导体封测巨头密集扩产,日月光六厂同步动工、三星越南投建封测厂,先进封装突破摩尔定律瓶颈,成AI算力竞赛关键,解析行业扩产趋势与技术难题。
    的头像 发表于 04-15 14:03 1049次阅读

    三星电子创新显示技术和产品亮相CES 2026

    在 2026 年“The First Look”活动现场,三星展出旗下首款130英寸级Micro RGB在内的系列创新显示技术和产品,立体化阐述娱乐伴侣理念为用户的艺术、游戏和娱乐生活带来的全维
    的头像 发表于 01-13 17:22 956次阅读

    三星电子正式发布Galaxy Z TriFold

    2025年12月2日,三星电子正式发布Galaxy Z TriFold,进步巩固了三星在移动AI时代中针对形态创新的行业优势。
    的头像 发表于 12-03 17:46 1952次阅读

    村田贴片电容、三星贴片电容、国巨贴片电容谁更优?

    在电子元器件市场中,村田(Murata)、三星(Samsung)和国巨(YAGEO)作为贴片电容领域的大巨头,凭借各自的技术优势和市场定位占据重要份额。本文将从核心性能、应用场景、价格策略三个
    的头像 发表于 11-04 14:50 938次阅读
    村田贴片电容、<b class='flag-5'>三星</b>贴片电容、国巨贴片电容谁更优?

    摩尔定律 “踩刹车” ,三星 、AP、普迪飞共话半导体制造新变革新机遇

    ,揭示行业正处于从“晶体管密度驱动”向“系统级创新”转型的关键节点。随着摩尔定律放缓、供应链分散化政策推进,场融合制造技术革新与供应链数字化的产业变革正在上演。
    的头像 发表于 08-19 13:48 1633次阅读
    当<b class='flag-5'>摩尔定律</b> “踩刹车” ,<b class='flag-5'>三星</b> 、AP、普迪飞共话半导体制造新变革新机遇

    三星最新消息:三星将在美国工厂为苹果生产芯片 三星和海力士不会被征收100%关税

    给大家带来三星的最新消息: 三星将在美国工厂为苹果生产芯片 据外媒报道,三星电子公司将在美国德克萨斯州奥斯汀的芯片代工厂生产苹果公司的下代芯片。而苹果公司在新闻稿中也印证了这个
    的头像 发表于 08-07 16:24 1699次阅读

    三星S26拿到全球2nm芯片首发权 三星获特斯拉千亿芯片代工大单

    搭载。 三星Exynos 2600采用十核心设计(1超大核 + 3大核 + 6小核);超大核主频高达3.55GHz,采用最新的Arm Cortex-X9架构,大核主频为
    的头像 发表于 07-31 19:47 2095次阅读

    晶心科技:摩尔定律放缓,RISC-V在高性能计算的重要性突显

    运算还是快速高频处理计算数据,或是超级电脑,只要设计或计算系统符合项之即可称之为HPC。 摩尔定律走过数十年,从1970年代开始,世界领导厂商建立晶圆厂、提供制程工艺,在28nm之前取得非常大的成功。然而28nm之后
    的头像 发表于 07-18 11:13 4635次阅读
    晶心科技:<b class='flag-5'>摩尔定律</b>放缓,RISC-V在高性能计算的重要性突显