今天Intel公司发布了2020年Q4及全年财报,参会的高管中除了现任CEO、CFO等人之外,2月份接任CEO的帕特·基辛格也参加了会议,这种安排也非比寻常。
虽然从2009年就从Intel离职,2012到今年都在担任VMWare公司的CEO,但对Intel来说,基辛格并不陌生,他从18岁时就加入了Intel公司,从工程师做起,担任过486的架构师,还是Intel首任CTO首席技术官,呆了总共30多年。
阔别了12年,但基辛格现在依然是Intel当前众望所归的天选之子——一个深谙半导体技术及管理、能够带领Intel走出工艺落后困境的人。
对于重新回归Intel工作,基辛格本人也非常兴奋,称这是一份梦想中的工作(dream job),此前还深情回顾了他在Intel的历史。
在日前的一份问答中,基辛格也多次强调Intel是一家伟大的公司,自己也有幸与它有过伟大的历史,在格鲁夫、诺伊斯、摩尔等三巨头(他们是Intel最初的创始人)的脚下工作过。
基辛格的一个重任就是带领Intel重回半导体技术领先的位置,他在采访中甚至强调这件事不止是Intel公司的事了,因为Intel是美国半导体技术的国家资产的一部分,现在是一个带领Intel及美国重回技术领先的机会。
责任编辑:PSY
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
CEO
+关注
关注
0文章
61浏览量
33030 -
intel
+关注
关注
19文章
3510浏览量
191625 -
半导体工艺
+关注
关注
19文章
108浏览量
26980
发布评论请先 登录
相关推荐
热点推荐
让英特尔再次伟大,新CEO推动18A提前量产,14A已在路上
知道目前英特尔有哪些地方面需要改进。 要知道在全球半导体代工版图中,英特尔曾长期占据统治地位。然而随着台积电、三星的崛起,这家芯片巨头逐渐沦为“牙膏厂”的代名词。此次陈立武临危受命,能否带领英特尔再次走向市场之巅。 英特尔更新晶
安森美半导体产品/工艺变更通知解读
安森美半导体产品/工艺变更通知解读 作为电子工程师,我们时刻关注着半导体产品的动态,尤其是产品和工艺的变更,因为这可能会对我们的设计产生重大影响。今天,我们来解读安森美
目前最先进的半导体工艺水平介绍
当前全球半导体工艺水平已进入纳米级突破阶段,各大厂商在制程节点、材料创新、封装技术和能效优化等方面展开激烈竞争。以下是目前最先进的半导体工艺水平的详细介绍: 一、制程
半导体器件清洗工艺要求
半导体器件清洗工艺是确保芯片制造良率和可靠性的关键基础,其核心在于通过精确控制的物理化学过程去除各类污染物,同时避免对材料造成损伤。以下是该工艺的主要技术要点及实现路径的详细阐述:污染物分类与对应
半导体行业案例:晶圆切割工艺后的质量监控
晶圆切割,作为半导体工艺流程中至关重要的一环,不仅决定了芯片的物理形态,更是影响其性能和可靠性的关键因素。传统的切割工艺已逐渐无法满足日益严苛的工艺要求,而新兴的激光切割技术以其卓越的
高精度半导体冷盘chiller在半导体工艺中的应用
在半导体产业的工艺制造环节中,温度控制的稳定性直接影响芯片的性能与良率。其中,半导体冷盘chiller作为温控设备之一,通过准确的流体温度调节,为半导体制造过程中的各类
半导体冷水机在半导体后道工艺中的应用及优势
在半导体制造领域,后道工艺(封装与测试环节)对温度控制的精度和稳定性要求高。冠亚恒温半导体冷水机凭借其高精度温控、多通道同步控制及定制化设计能力,成为保障后道工艺可靠性的核心设备。本文
苏州芯矽科技:半导体清洗机的坚实力量
控化学试剂使用,护芯片周全。
工艺控制上,先进的自动化系统尽显精准。温度、压力、流量、时间等参数皆能精确调节,让清洗过程稳定如一,保障清洗效果的一致性和可靠性,极大降低芯片损伤风险,为半导体企业良品率
发表于 06-05 15:31
半导体制冷机chiller在半导体工艺制程中的高精度温控应用解析
在半导体制造领域,工艺制程对温度控制的精度和响应速度要求严苛。半导体制冷机chiller实现快速升降温及±0.5℃精度控制。一、半导体制冷机chiller技术原理与核心优势
揭秘半导体电镀工艺
一、什么是电镀:揭秘电镀机理 电镀(Electroplating,又称电沉积 Electrodeposition)是半导体制造中的核心工艺之一。该技术基于电化学原理,通过电解过程将电镀液中的金属离子
提供半导体工艺可靠性测试-WLR晶圆可靠性测试
随着半导体工艺复杂度提升,可靠性要求与测试成本及时间之间的矛盾日益凸显。晶圆级可靠性(Wafer Level Reliability, WLR)技术通过直接在未封装晶圆上施加加速应力,实现快速
发表于 05-07 20:34
老兵回归担任CEO 让Intel半导体工艺再次伟大
评论