ASML的EUV光刻机已成台积电未来发展的“逆鳞”
台积电是第一家将EUV（极紫外）光刻工艺商用到晶圆代工的企业，目前投产的工艺包括N7+、N6和N5三代。
其中N7+即第二代7nm，EUV总计4层。即便如此，这也相较于多重曝光也节省了时间，提高了芯片的生产效率。
不过，迭代到5nm后，EUV的层数达到了14层，包括但不限于触点、过孔以及关键金属层等过程。
而最快2022年投产的3nm，为了实现15%的性能提升、30%的功耗下降以及70%的密度增加，ASML（阿斯麦）透露，EUV将超过20层，也就是鳍片和栅极都要引入EUV切割掩模。
阿斯麦CEO Peter Wennink表示，EUV层数增加有很多好处，比如只需要单重曝光而不是DUV设备的多重曝光，对DRAM芯片同样如此。
为此，台积电将需要确保EUV光刻机的安装数量，但他们显得非常有信心。
责编AJX
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
举报投诉
-
台积电
+关注
关注
44文章
5787浏览量
174704 -
晶圆
+关注
关注
53文章
5344浏览量
131653 -
EUV
+关注
关注
8文章
614浏览量
88512
发布评论请先 登录
相关推荐
热点推荐
中国打造自己的EUV光刻胶标准！
其他工艺器件的参与才能保障芯片的高良率。 以光刻胶为例，这是决定芯片 图案能否被精准 刻下来的“感光神经膜”。并且随着芯片步入 7nm及以下先进制程芯片 时代，不仅需要EUV光刻机，更需要
俄罗斯亮剑：公布EUV光刻机路线图，挑战ASML霸主地位？
电子发烧友网报道（文/吴子鹏） 在全球半导体产业格局中，光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”，而极紫外（EUV）光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来，荷兰 ASML 公
AI需求飙升！ASML新光刻机直击2nm芯片制造，尼康新品获重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板级封装（FOPLP）技术为何会获得台积电、三星等代工大厂的青睐？比较传统的光刻机设备，尼康DSP-100的技术原理有何不同？能解决AI芯片生产当中
国产高精度步进式光刻机顺利出厂
近日，深圳稳顶聚芯技术有限公司（简称“稳顶聚芯”）宣布，其自主研发的首台国产高精度步进式光刻机已成功出厂，标志着我国在半导体核心装备领域取得新进展。 此次稳顶聚芯出厂的步进式光刻机属于WS180i
【「AI芯片：科技探索与AGI愿景」阅读体验】+半导体芯片产业的前沿技术
%。至少将GAA纳米片提升几个工艺节点。
2、晶背供电技术
3、EUV光刻机与其他竞争技术
光刻技术是制造3nm、5nm等工艺节点的高端半导体芯片的关键技术。是将设计好的芯片版图图形转移到硅晶圆上的一种精细
发表于 09-15 14:50
ASML官宣：更先进的Hyper NA光刻机开发已经启动
电子发烧友网综合报道，日前，ASML 技术高级副总裁 Jos Benschop 表示，ASML 已携手光学组件独家合作伙伴蔡司，启动了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻机开发。这一举措标志着
发表于 06-29 06:39
•1813次阅读
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极
随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
发表于 05-07 06:03
成都汇阳投资关于光刻机概念大涨，后市迎来机会
进制程领域，曝光波长逐渐缩短至13.5nm，光刻技术逐步完善成熟。2024年光刻机市场的规模为230亿美元。2025年光刻机市场的规模预计为252亿美元。 【光刻机的
ASML：中国芯片落后西方15年！
光刻机制造巨头阿斯麦（ASML）的首席执行官克里斯托夫·富凯表示，尽管近年来中国在半导体领域取得了显著进步，但与英特尔、台积电和三星等行业巨
如何提高光刻机的NA值
本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值？怎样提高？ 什么是NA值？ 如上图是某型号的光刻机配置，每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA，又名
光刻机的分类与原理
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括芯片
组成光刻机的各个分系统介绍
纳米级别的分辨率。本文将详细介绍光刻机的主要组成部分及其功能。 光源系统 光源系统是光刻机的心脏，负责提供曝光所需的能量。早期的光刻机使用汞灯作为光源，但随着技术的进步，目前多采用深紫外（DUV）或极紫外（
日本首台EUV光刻机就位
据日经亚洲 12 月 19 日报道，Rapidus 成为日本首家获得极紫外 (EUV) 光刻设备的半导体公司，已经开始在北海道芯片制造厂内安装极紫外光刻系统。 它将分四个阶段进行安装，设备安装预计在
工商网监
评论