芯片制作对设备性能的需求NAURA如何布局

由中国通信工业协会、深圳市半导体行业协会、广州市半导体协会、江苏省半导体行业协会、浙江省半导体行业协会、成都集成电路行业协会、深圳市中新材会展有限公司举办的“第三届深圳国际半导体展”将于12月8-10日深圳国际会展中心召开，北京北方华创微电子装备有限公司将携带更多产品亮相及演讲，展位号A196，敬请期待！本届展会还将邀请海思半导体、中芯国际、粤芯、华虹宏力、华天、长电、国民技术等从应用到设计、制造、封测、材料和设备厂商企业300多家企业参展.亦是半导体产业链或即将进入该产业的专业人士观摩洽谈的最佳平台之一。

北方华创近年来基于芯片制作对设备性能的需求，NAURA积极布局相关设备研发，涵盖蓝绿光与红黄光芯片工艺，主要产品包括ICP刻蚀机、PECVD、PVD（AIN sputter、Metal sputter、ITO sputter）、ALD等一系列设备。

ELEDEG380A

NAURA LED ICP刻蚀设备（ELEDEG380A）在传统ICP刻蚀设备的基础上，对上、下电极系统及设备加热控温系统进行了优化设计，实现了刻蚀均匀性的有效提升，完全满足MiniLED芯片的均匀性及边缘利用率要求。此设备适用于MiniLED多种材料刻蚀，覆盖蓝绿、红黄芯片全流程，包括深槽隔离刻蚀（Isolation）、电极刻蚀（Mesa）、介质反射层刻蚀（DBR）及红黄光刻蚀（AlGaInP），具有精准的线宽控制和高速刻蚀能力，可实现稳定量产并具备优异的刻蚀均匀性。设备配置了Cassette in Cassette out自动生产模式，可达到更好的颗粒控制能力。

EPEE i800

NAURA LED PECVD设备（EPEE i800）采用托盘载片和多站动态作业模式，为MiniLED芯片制造提供了优良的PECVD工艺解决方案。NAURA通过对镀膜方式进行改进，实现了更优的片内和片间镀膜均匀性；通过对反应腔上、下电极系统的优化设计，实现了更大的单机产能输出。EPEE i800设备的镀膜均匀性、颗粒控制能力以及自动化程度明显提升，可实现工厂端自动化生产，完全满足MiniLED对芯片制造的要求。

NAURA还可提供对接厂务MES系统或者其他厂务自动化软件的解决方案；全流程自动化解决方案可帮助客户实现生产过程的无人化、信息化和智能化管理。

随着LED显示技术和产品的不断创新，新技术的每一次超越与落地，对于行业发展来说都具有重大意义，NAURA愿与业界同仁一起在半导体显示技术领域锐意进取、开拓创新，共谱新篇章。
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