0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

中国试图曲线救芯购买二手光刻机 实现12英寸国产芯片生产!

454398 来源:电子技术设计 作者:电子技术设计 2021-01-25 14:35 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

光刻机被美国制裁阻挠之后,中国企业发挥了曲线救芯的创新思维,从韩国代理商购买了二手ASML浸没式光刻机,有望打破美日欧垄断,实现12英寸国产芯片生产!

受美国阻挠及新冠疫情影响,此前我国企业向ASML订购的EUV光刻机迟迟未能到货。如今,中企有望在其他供应商处找到转机。

在耗时近4个月后,晶瑞股份斥资1102.5万美元(约合人民币7129万元),从韩国代理商SK Hynix处购买的二手ASML浸没式光刻机(XT 1900Gi)已顺利到货。

据报道,该司预计2021年上半年完成设备的安装调试,用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶;并期望在3年内完成ArF光刻胶产品相关技术参数及产品定型,实现规模化生产。

所谓光刻胶,是一种对光敏感的有机混合物,主要应用于芯片制造环节中微细图形的加工。据晶瑞股份董事长吴天舒介绍,该设备有利于解决我国在集成电路制造领域关键材料“卡脖子”难题,待光刻胶成功研发后,也将为国产12英寸芯片的制造提供重要材料。

虽然光刻胶研发难度比光刻机的难度要小,但在核心材料上,目前我国仍然需要从海外进口。

而当前全球光刻胶市场基本被欧盟以及日本等几家大型企业垄断,在关键材料领域,信越化学、合成橡胶、富士胶片等日企则掌握着主要话语权。

因此,近年来我国也一直试图打破日本在光刻胶领域的垄断,近年来已有晶瑞股份、南大光电、以及上海新阳等中企入局。

2020年12月17日,南大光电发布公告称,该司研发的ArF光刻胶产品已通过客户使用认证,标志着国内第一只国产ArF光刻胶的诞生。

除了中企加速入局,“国家队”也集中力量帮助该领域的发展。去年9月份,在华为被断供一天后,中科院院长白春礼表示,将把美国“卡脖子清单”变成我国科研任务清单进行布局,集中全院的力量攻克难关。
编辑:hfy

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1196

    浏览量

    48732
  • 光刻胶
    +关注

    关注

    10

    文章

    348

    浏览量

    31550
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    734

    浏览量

    43342
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?

      电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV)光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来,荷兰 ASML 公司几乎垄断
    的头像 发表于 10-04 03:18 9379次阅读
    俄罗斯亮剑:公布EUV<b class='flag-5'>光刻机</b>路线图,挑战ASML霸主地位?

    国产高精度步进式光刻机顺利出厂

    系列。该系列产品主要面向mini/micro LED光电器件、光芯片、功率器件等化合物半导体领域,可灵活适配硅片、蓝宝石、SiC等不同衬底材料,满足多样化的胶厚光刻工艺需求。 WS180i系列光刻机优势显著。其晶圆覆盖范围广,可
    的头像 发表于 10-10 17:36 737次阅读

    如何确定12英寸集成电路新建项目中光刻机、刻蚀等不同设备所需的防震基座类型和数量?-江苏泊苏系统集

    确定 12 英寸集成电路新建项目中光刻机、刻蚀等核心设备的防震基座类型与数量,需遵循 “设备需求为核心、环境评估为基础、合规性为前提” 的原则,分步骤结合设备特性、厂房条件、工艺要求
    的头像 发表于 09-18 11:24 817次阅读
    如何确定<b class='flag-5'>12</b><b class='flag-5'>英寸</b>集成电路新建项目中<b class='flag-5'>光刻机</b>、刻蚀<b class='flag-5'>机</b>等不同设备所需的防震基座类型和数量?-江苏泊苏系统集

    全球市占率35%,国内90%!上微装第500台步进光刻机交付

      电子发烧友网综合报道,近日,上海上微装科技股份有限公司(简称:上微装,英文简称:AMIES)第500台步进光刻机成功交付,并举办了第500台 步进光刻机 交付仪式。    
    发表于 08-13 09:41 1773次阅读
    全球市占率35%,国内90%!<b class='flag-5'>芯</b>上微装第500台步进<b class='flag-5'>光刻机</b>交付

    奥松半导体8英寸MEMS项目迎重大进展 首台光刻机入驻

    奥松传感传来好消息,在7月14日11时38分,重庆奥松半导体特色芯片产业基地(下称“奥松半导体项目”)迎来具有里程碑意义的时刻——8英寸生产线首台光刻机设备,在众人关切注视的目光中平稳
    的头像 发表于 07-17 16:33 1449次阅读
    奥松半导体8<b class='flag-5'>英寸</b>MEMS项目迎重大进展 首台<b class='flag-5'>光刻机</b>入驻

    重庆首个8英寸MEMS特色芯片全产业链项目“奥松半导体项目”迎来重大进展

    坚实基础——今年8月底通线试产,第四季度实现产能爬坡并交付客户。 光刻机进入百级洁净黄光区厂房 奥松半导体项目作为重庆首个8英寸MEMS特色芯片全产业链项目,计划总投资35亿元,包含8
    的头像 发表于 07-16 18:11 958次阅读
    重庆首个8<b class='flag-5'>英寸</b>MEMS特色<b class='flag-5'>芯片</b>全产业链项目“奥松半导体项目”迎来重大进展

    12英寸SiC,再添新玩家

    电子发烧友网报道(文/梁浩斌)在SiC行业逐步进入8英寸时代后,业界并没有停下脚步,开始投入到12英寸衬底的开发中。   去年11月,天岳先进率先出手,发布了行业首款12
    的头像 发表于 05-21 00:51 7153次阅读

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
    发表于 05-07 06:03

    成都汇阳投资关于光刻机概念大涨,后市迎来机会

    【2025年光刻机市场的规模预计为252亿美元】 光刻机作为半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一,其在半导体制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市场对光刻机的需求持续增长,尤其是在先
    的头像 发表于 04-07 09:24 1138次阅读

    不只依赖光刻机芯片制造的五大工艺大起底!

    在科技日新月异的今天,芯片作为数字时代的“心脏”,其制造过程复杂而精密,涉及众多关键环节。提到芯片制造,人们往往首先想到的是光刻机这一高端设备,但实际上,芯片的成功制造远不止依赖
    的头像 发表于 03-24 11:27 2831次阅读
    不只依赖<b class='flag-5'>光刻机</b>!<b class='flag-5'>芯片</b>制造的五大工艺大起底!

    什么是光刻机的套刻精度

    芯片制造的复杂流程中,光刻工艺是决定晶体管图案能否精确“印刷”到硅片上的核心环节。而光刻Overlay(套刻精度),则是衡量光刻机将不同层电路图案对准精度的关键指标。简单来说,它就像
    的头像 发表于 02-17 14:09 4019次阅读
    什么是<b class='flag-5'>光刻机</b>的套刻精度

    光刻机用纳米位移系统设计

    光刻机用纳米位移系统设计
    的头像 发表于 02-06 09:38 957次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>用纳米位移系统设计

    如何提高光刻机的NA值

    本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高?   什么是NA值?   如上图是某型号的光刻机配置,每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA,又名
    的头像 发表于 01-20 09:44 2256次阅读
    如何提高<b class='flag-5'>光刻机</b>的NA值

    光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括
    的头像 发表于 01-16 09:29 5723次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的分类与原理

    组成光刻机的各个分系统介绍

      本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤,其重要性不言而喻。光刻机实现这一工艺的核心设备,它的工作原
    的头像 发表于 01-07 10:02 4154次阅读
    组成<b class='flag-5'>光刻机</b>的各个分系统介绍