0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

光刻机与半导体之间发展的两大关键是什么?

lhl545545 来源:集微网 作者:Kelven 2020-08-27 09:55 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

近日,国务院连续印发了《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》和《关于新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展若干政策的通知》。通知和新政大刀阔斧,从财税、投融资、研究开发、进出口、人才、知识产权、市场应用、国际合作等八个方面对集成电路产业实现“全覆盖”,给予全面支持,而且较以往政策支持力度进一步升级。

其中最引人注目的是“加快推进集成电路一级学科设置,支持产教融合发展”。8月21日晚19:00以“政策持续加码,中国芯将会如何乘风破浪?”为主题的十二期集微龙门阵举行,当中西安电子科技大学微电子学院院长张玉明作为邀请嘉宾出席并发表了自己的观点。

集成电路成为一级学科,需要重新建立一套知识体系

针对集成电路成为一级学科后,张玉明发表了自己的看法,他指出,大学培养人有两套管理体系,一套就是行政管理体系,如大学里学院有教研室,这是一个行政的组织机构。另外一套便是学术的机构,而学术机构里面主要就是我们的所谓的学科。一个学科实际上它是一个有一定的独特的知识体系。

“大学组织教学,包括人才、老师资源的分配均是按照一级学科来作为依据。近几年教育部基本已经把二级学科取消了,这意味着大家只能按照一级学科来进行资源分配。”张玉明表示。

原来集成电路一直是在电子科学基础下的一个二级学科,因此它很多资源都分配不到,包括老师、学生和资金资源等。

张玉明认为:“集成电路一级学科的设立,首先它就把集成电路产业在国家重要战略的地位给体现出来,其次在这个战略背后的重要意义则体现了国家和社会对集成电路产业的重视。”

在集成电路成为一级学科后,其必然会对高校招生的数量和培养资源分配上产生影响,如研究生的指标。此外在人才培养的知识体系会有更大的提升和更多的融合,不仅能满足自身知识体系的需求,同时对于学生的成长也是一个很大的帮助。

总得来说,集成电路一级学科的建立,对于教育重新组织资源,重新组织学科知识的建立,包括高校对外的合作都有一定的作用。

据了解,西安电子科技大学每年招生本科生大概5000~5500名,硕士研究生3500名到4000名左右,博士生大概600左右。

“就微电子学院来说,目前本科生有500多人,而加上研究生博士生后,人数去到600多人,目前来说应该是全国最大的微电子学院。”张玉明脸上露出了骄傲的笑容。集成电路成为一级学科后,张玉明表示不能简单认为它从原有的电子科学与技术独立分离出来,实际上它是一个交叉的学科。每个学校可能都需要重新建立一套适应集成电路学科发展的体系。

集成电路学科应该是一个交叉的学科,它目前包括三个方面的能力,一个方面就是新原理新体现新结构;第二个方面是集成电路设计方法学和集成电路设计,包括整个架构体系设计这;第三个方面是集成电路的制造,制造方面就包括封装测试,还有包括相关的材料等等。

发挥企业创新主体,提早介入产教融合

以第三代半导体碳化硅为例,目前西安电子科技大学的研究专利是排在了世界第8名,全国第一位。从这个排名能看出来,国内发展半导体已经超过20多年,不过国内总得来说专利数还是相对较少。此外可以看到这个专利的排名拥有最多专利的是设计和芯片制造公司,而我们国内主要以高校和研究生为主,这说明了当中一个高校创新专利的产业转化问题。

张玉明表示:“对于创新专利的产业转化应该要把企业创新支持的作用充分发挥出来,企业界在创新中的主体地位应该要被强调。”实际以往产教融合的成果基本要到了中后期产业化的阶段才开始,未来可以把这个介入的时机提早,如在研究的过程中,提前介入是能够解决产业化中遇到的很多问题。

集成电路产业目前确实存在卡脖子的问题,国家推出新政来支持其发展说明充分认识到它的重要性。

“集成电路的相关产业是一个国家的工业科技各方面的体系综合体现,现在到了真正解决这些难点问题的时候。实际集成电路产业是国家一个综合实力的体现,并不是一点的突破就能把它解决的。”张玉明指出。

对于学习半导体的人角度来看,现在社会对于半导体产业的人赋予的要求和责任是有一点苛刻。以光刻机为例,实际其并不是目前我们国家学习半导体的人能解决的,它是涉及到半导体的制造领域,而目前我国从事半导体领域的人大部分以半导体设计为主。

光刻机包含了制造和技术材料的内容,因此其并不是单纯微电子和半导体学科能解决的问题,这表明了半导体产业是一个国家方方面面综合实力的体现。

创新和人才半导体发展的两大关键

目前我们国家面对国内和国际环境,确实被压的有一点喘不过气,卡脖子问题的确存在。因此国家出台一系列的鼓励政策表明国家已经把集成电路产业发展的战略高度提高到与两弹一星类似的位置。,目的便是需要我们尽快把当中很多核心的难题解决。

张玉明指出:“不过集成电路产业与两弹一星又不太一样,除了战略性外,它还具有商业性或者商品性,并不是像两弹一星做出来就完事,而是需要实际后续将其商业化。”

在目前多种的政策鼓励和支持下,一方面需要企业突破现有的困难,把卡脖子的问题解决,另一方面可以把国家政策免掉的税或者当中一部分利润投入到新的技术创新环节里面。

企业一定需要创新,无论是与高校合作还是自己研发,还是需要充分发挥企业在创新中的作用,另外可以把重点也放到人才上面去,不但要汇集人才,而且需要把人才培养和储备起来。当企业家把企业创新和人才这两方面做好,中国的半导体产业必然会有更好的发展。
责任编辑:pj

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 集成电路
    +关注

    关注

    5446

    文章

    12469

    浏览量

    372699
  • 半导体
    +关注

    关注

    336

    文章

    29985

    浏览量

    258355
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1196

    浏览量

    48737
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?

      电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV)光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来,荷兰 ASML 公
    的头像 发表于 10-04 03:18 9391次阅读
    俄罗斯亮剑:公布EUV<b class='flag-5'>光刻机</b>路线图,挑战ASML霸主地位?

    国产高精度步进式光刻机顺利出厂

    近日,深圳稳顶聚芯技术有限公司(简称“稳顶聚芯”)宣布,其自主研发的首台国产高精度步进式光刻机已成功出厂,标志着我国在半导体核心装备领域取得新进展。 此次稳顶聚芯出厂的步进式光刻机属于WS180i
    的头像 发表于 10-10 17:36 744次阅读

    【「AI芯片:科技探索与AGI愿景」阅读体验】+半导体芯片产业的前沿技术

    %。至少将GAA纳米片提升几个工艺节点。 2、晶背供电技术 3、EUV光刻机与其他竞争技术 光刻技术是制造3nm、5nm等工艺节点的高端半导体芯片的关键技术。是将设计好的芯片版图图形转
    发表于 09-15 14:50

    光刻机实例调试#光刻机 #光学 #光学设备

    光刻机
    jf_90915507
    发布于 :2025年08月05日 09:37:57

    奥松半导体8英寸MEMS项目迎重大进展 首台光刻机入驻

    光刻机的成功搬入,意味着产线正式进入设备安装调试阶段,距离8月底通线试产、第四季度产能爬坡并交付客户的既定目标指日可待。这一目标的实现,将实现各类MEMS半导体传感器产品从研发到量产的无缝衔接,对重庆乃至整个集成电路行业都具
    的头像 发表于 07-17 16:33 1452次阅读
    奥松<b class='flag-5'>半导体</b>8英寸MEMS项目迎重大进展 首台<b class='flag-5'>光刻机</b>入驻

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
    发表于 05-07 06:03

    成都汇阳投资关于光刻机概念大涨,后市迎来机会

    【2025年光刻机市场的规模预计为252亿美元】 光刻机作为半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一,其在半导体制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市场对
    的头像 发表于 04-07 09:24 1145次阅读

    不只依赖光刻机!芯片制造的五大工艺大起底!

    在科技日新月异的今天,芯片作为数字时代的“心脏”,其制造过程复杂而精密,涉及众多关键环节。提到芯片制造,人们往往首先想到的是光刻机这一高端设备,但实际上,芯片的成功制造远不止依赖光刻机这一单一工具。本文将深入探讨芯片制造的五
    的头像 发表于 03-24 11:27 2840次阅读
    不只依赖<b class='flag-5'>光刻机</b>!芯片制造的五大工艺大起底!

    什么是光刻机的套刻精度

    在芯片制造的复杂流程中,光刻工艺是决定晶体管图案能否精确“印刷”到硅片上的核心环节。而光刻Overlay(套刻精度),则是衡量光刻机将不同层电路图案对准精度的关键指标。简单来说,它就像
    的头像 发表于 02-17 14:09 4041次阅读
    什么是<b class='flag-5'>光刻机</b>的套刻精度

    光刻机用纳米位移系统设计

    光刻机用纳米位移系统设计
    的头像 发表于 02-06 09:38 971次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>用纳米位移系统设计

    半导体设备光刻机防震基座如何安装?

    半导体设备光刻机防震基座的安装涉及多个关键步骤和考虑因素,以确保光刻机的稳定运行和产品质量。首先,选择合适的防震基座需要考虑适应工作环境。由于半导体
    的头像 发表于 02-05 16:48 1153次阅读
    <b class='flag-5'>半导体</b>设备<b class='flag-5'>光刻机</b>防震基座如何安装?

    如何提高光刻机的NA值

    本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高?   什么是NA值?   如上图是某型号的光刻机配置,每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA,又名
    的头像 发表于 01-20 09:44 2275次阅读
    如何提高<b class='flag-5'>光刻机</b>的NA值

    光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道
    的头像 发表于 01-16 09:29 5754次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的分类与原理

    组成光刻机的各个分系统介绍

      本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤,其重要性不言而喻。光刻机是实现这一工艺的核心设备,它的工作原理类似于传统摄影中的曝光过程,但精度要求极高,能够达到
    的头像 发表于 01-07 10:02 4168次阅读
    组成<b class='flag-5'>光刻机</b>的各个分系统介绍

    光刻胶成为半导体产业的关键材料

    光刻胶是半导体制造等领域的一种重要材料,在整个电子元器件加工产业有着举足轻重的地位。 它主要由感光树脂、增感剂和溶剂等成分组成。其中,感光树脂决定了光刻胶的感光度和分辨率等关键性能,增
    的头像 发表于 12-19 13:57 1797次阅读