0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

光刻机中国能造吗 光刻机技术面临的难题

西西 来源:(百家号和腾讯整合而成 作者:(百家号和腾讯整 2020-07-23 17:31 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

这段时间中国的科研成果想必大家都有了解,当然其中最让人关注的就是5G技术,尽管5G技术是去年就开始问世的,但是今年5G已经开始国内普及甚至走进了国际上很多国家。当然除了5G技术之外还有一项很重要的研究成果。

那就是中国的光刻机技术,大家应该也还记得前段时间中国的光刻机技术突破了西方国家的技术封锁。这一次的技术突破让中国的光刻机精度往前走了很多一步,而在当时网上很多人也对中国的光刻机技术非常的关注。

不过很多人其实并不了解光刻机技术,只知道这项技术可以用来制造芯片,所以有很多人认为中国光刻机技术突破封锁,那么是不是代表着中国能够自主生产芯片了。不过有很多人发现这段时间中国的芯片依旧是进口为主,有很多网友就表示:就不能自己造吗?

其实对于这个问题的答案,一些了解光刻机的人应该就知道,中国目前的技术确实还不能够自己造芯片。因为尽管我们在光刻机技术上做出了重大突破,但是这个精度距离国际上的先进水平还是有一段距离,所以目前进口的芯片还是要好一些。

目前我们还真没有攻克尖端光刻机这个技术难题,确实被人“掐住”了脖子。大家很是着急,都盼望着祖国可以快点研制出这个神器。

但是很不幸地告诉大家,不要说未知的5nm光刻机,就是目前已知的7nm光刻机中国也不可能独自造出,世界任何国家都不可能凭一己之力造出,这跟时间没关系!

虽然看起来光刻机就是在绘制一个电路板,但是光刻机的精准度是以纳米为计算单位的,其误差要求在2nm之内,大家就可以想象是有多么精细的技术才能实现这么小的误差了。除了顶尖的做工技术,还要配合顶级的光源,现在最先进的技术,配备的是极紫外光,目前我国还是达不到。

7nm代表了目前世界上最顶级的制造水平,5nm是极限荷兰的ASML基本垄断了高端光刻机领域,特别是最新的EUV极紫外光光刻机有生产7纳米制成的能力,ASML全球市场份额100%。

根据物理学常识小于纳米级的光刻机纯粹是胡说八道。一个纳米里只能排列8个硅原子,任何物质的晶体都达不到完美,都具有缺陷和原子空位。

5nm技术理论上已经接近极限,世界上目前没有任何一个国家可以制造出5nm光刻机,甚至没有实力去研究。

中国芯片制造方面顶尖的中芯国际只有28纳米的生产工艺,14纳米工艺才刚刚开始量产,但是请注意中芯国际用的光刻机是进口的,并不是国产的。中国芯片制造只能占到世界7.3%的份额。

由于中国大陆没有能力生产高规格芯片,华为的麒麟990只能交给中国台湾地区的台积电代工生产。

国内上海微电子芯片公司的光刻机水平最高,刚刚突破90纳米工艺。

90纳米是英特尔2000年奔腾4处理器的水平,距离7纳米顶尖水平还有差好几个珠穆朗玛峰。

最顶尖的7nm光刻机没有任何一个国家可以独自制造出来,荷兰不行,美国同样不行

(百家号和腾讯整合而成)

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    463

    文章

    54423

    浏览量

    469289
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1201

    浏览量

    49019
  • 5G
    5G
    +关注

    关注

    1368

    文章

    49215

    浏览量

    639138
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    738

    浏览量

    43630
  • 7nm
    7nm
    +关注

    关注

    0

    文章

    267

    浏览量

    36388
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    中国打造自己的EUV光刻胶标准!

    电子发烧友网报道(文/黄山明)芯片,一直被誉为 人类智慧、工程协作与精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要设备光刻机就是 雕刻这个结晶的 “ 神之手 ”。但仅有光刻机还不够,还需要光刻胶、掩膜版以及
    的头像 发表于 10-28 08:53 7046次阅读

    俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?

      电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV)光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来,荷兰 ASML 公司几乎垄断
    的头像 发表于 10-04 03:18 1.1w次阅读
    俄罗斯亮剑:公布EUV<b class='flag-5'>光刻机</b>路线图,挑战ASML霸主地位?

    AI需求飙升!ASML新光刻机直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    *1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板级封装(FOPLP)技术为何会获得台积电、三星等代工大厂的青睐?比较传统的光刻机设备,尼康DSP-100的技术原理有何不同?能解决AI芯片生产当中的哪些痛点问题? 针对2nm、3nm芯片制造
    的头像 发表于 07-24 09:29 8756次阅读
    AI需求飙升!ASML新<b class='flag-5'>光刻机</b>直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    垄断 EUV 光刻机之后,阿斯麦剑指先进封装

    电子发烧友网综合报道 当全球半导体产业陷入 “先进制程竞赛” 的白热化阶段,极紫外(EUV)光刻机作为高端芯片制造的 “皇冠上的明珠”,成为决定产业格局的核心力量。荷兰阿斯麦(ASML)作为全球唯一
    的头像 发表于 03-05 09:19 2681次阅读

    光刻机的“精度锚点”:石英压力传感器如何守护纳米级工艺

    在7纳米、3纳米等先进芯片制造中,光刻机0.1纳米级的曝光精度离不开高精度石英压力传感器的支撑,其作为“隐形功臣”,是保障工艺稳定、设备安全与产品良率的核心部件。本文聚焦石英压力传感器在光刻机
    的头像 发表于 12-12 13:02 976次阅读

    国产高精度步进式光刻机顺利出厂

    近日,深圳稳顶聚芯技术有限公司(简称“稳顶聚芯”)宣布,其自主研发的首台国产高精度步进式光刻机已成功出厂,标志着我国在半导体核心装备领域取得新进展。 此次稳顶聚芯出厂的步进式光刻机属于WS180i
    的头像 发表于 10-10 17:36 2721次阅读

    如何确定12英寸集成电路新建项目中光刻机、刻蚀等不同设备所需的防震基座类型和数量?-江苏泊苏系统集

    确定 12 英寸集成电路新建项目中光刻机、刻蚀等核心设备的防震基座类型与数量,需遵循 “设备需求为核心、环境评估为基础、合规性为前提” 的原则,分步骤结合设备特性、厂房条件、工艺要求综合判断,具体流程与关键考量如下:
    的头像 发表于 09-18 11:24 1301次阅读
    如何确定12英寸集成电路新建项目中<b class='flag-5'>光刻机</b>、刻蚀<b class='flag-5'>机</b>等不同设备所需的防震基座类型和数量?-江苏泊苏系统集

    今日看点丨全国首台国产商业电子束光刻机问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台

    全国首台国产商业电子束光刻机问世,精度比肩国际主流   近日,全国首台国产商业电子束光刻机"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研发并进入应用测试阶段。该设备精度达到0.6nm,线宽
    发表于 08-15 10:15 3203次阅读
    今日看点丨全国首台国产商业电子束<b class='flag-5'>光刻机</b>问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台

    全球市占率35%,国内90%!芯上微装第500台步进光刻机交付

      电子发烧友网综合报道,近日,上海芯上微装科技股份有限公司(简称:芯上微装,英文简称:AMIES)第500台步进光刻机成功交付,并举办了第500台 步进光刻机 交付仪式。     光刻是半导体器件
    发表于 08-13 09:41 2580次阅读
    全球市占率35%,国内90%!芯上微装第500台步进<b class='flag-5'>光刻机</b>交付

    UVlaser 266nm OLED修复#DUV光刻 #精密仪器 #光刻技术

    光刻机
    jf_90915507
    发布于 :2025年08月05日 09:44:55

    光刻机实例调试#光刻机 #光学 #光学设备

    光刻机
    jf_90915507
    发布于 :2025年08月05日 09:37:57

    佳能9月启用新光刻机工厂,主要面向成熟制程及封装应用

    7 月 31 日消息,据《日经新闻》报道,日本相机、打印机、光刻机大厂佳能 (Canon) 位于日本宇都宫市的新光刻机制造工厂将于 9 月正式投入量产,主攻成熟制程及后段封装应用设备,为全球芯片封装
    的头像 发表于 08-04 17:39 1049次阅读

    奥松半导体8英寸MEMS项目迎重大进展 首台光刻机入驻

    光刻机的成功搬入,意味着产线正式进入设备安装调试阶段,距离8月底通线试产、第四季度产能爬坡并交付客户的既定目标指日可待。这一目标的实现,将实现各类MEMS半导体传感器产品从研发到量产的无缝衔接,对重庆乃至整个集成电路行业都具
    的头像 发表于 07-17 16:33 1896次阅读
    奥松半导体8英寸MEMS项目迎重大进展 首台<b class='flag-5'>光刻机</b>入驻

    ASML官宣:更先进的Hyper NA光刻机开发已经启动

    电子发烧友网综合报道,日前,ASML 技术高级副总裁 Jos Benschop 表示,ASML 已携手光学组件独家合作伙伴蔡司,启动了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻机开发。这一举措标志着
    发表于 06-29 06:39 2147次阅读

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
    发表于 05-07 06:03