EUV光刻机的价值 芯片厂商造不出7nm以下工艺芯片
作为半导体芯片生产过程中最重要的装备，光刻机一直牵动人心。事实上，制程工艺越先进就要离不开先进光刻机。
光刻是半导体芯片制造中最费时间也是最费成本的环节之一，而且它决定了芯片的工艺水平，常说的XXnm工艺主要是看光刻机水平，10nm工艺之后难度越来越大，光刻机也需要升级到EUV级别。
ASML副总裁Anthony Yen日前表态，如果没有EUV光刻机，那么芯片厂商是造不出7nm以下工艺芯片的。
目前ASML公司是唯一一个能生产EUV光刻机的公司，他们做出这样的表态其实也不让人意外，毕竟这是一台售价高达1.2亿欧元、约合10亿一台的高端设备，全球半导体制造厂商都要看ASML的脸色。
台积电在第一代7nm工艺上没有使用EUV光刻机，但是7nm之后的工艺就很难避开EUV光刻机了，理论上可以用多重曝光的方式制造5nm级别的芯片，但是成本、良率都是个问题，无法拒绝EUV光刻机。
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
举报投诉
-
ASML
+关注
关注
7文章
734浏览量
43335 -
EUV光刻机
+关注
关注
2文章
129浏览量
15788
发布评论请先 登录
相关推荐
热点推荐
中国打造自己的EUV光刻胶标准！
其他工艺器件的参与才能保障芯片的高良率。 以光刻胶为例，这是决定芯片 图案能否被精准 刻下来的“感光神经膜”。并且随着芯片步入
俄罗斯亮剑：公布EUV光刻机路线图，挑战ASML霸主地位？
电子发烧友网报道（文/吴子鹏） 在全球半导体产业格局中，光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”，而极紫外（EUV）光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来，荷兰 ASML 公
AI需求飙升！ASML新光刻机直击2nm芯片制造，尼康新品获重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板级封装（FOPLP）技术为何会获得台积电、三星等代工大厂的青睐？比较传统的光刻机设备，尼康DSP-100的技术原理有何不同？能解决AI芯片生产当中的哪些痛点问题？ 针对2nm、3
【「AI芯片：科技探索与AGI愿景」阅读体验】+半导体芯片产业的前沿技术
%。至少将GAA纳米片提升几个工艺节点。
2、晶背供电技术
3、EUV光刻机与其他竞争技术
光刻技术是制造3nm、5
发表于 09-15 14:50
EUV光刻胶材料取得重要进展
电子发烧友网综合报道 随着集成电路工艺的不断突破， 当制程节点持续向7nm及以下迈进，传统的光刻技术已难以满足高精度、高密度的制造需求，此时，波长13.5
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极
出现误差。传统聚焦手段已不能满足电子直写光刻机对电子束质量的要求。
只有对聚焦电极改进才是最佳选择，以下介绍该进后的电极工作原理。通过把电子束压缩到中心线达到缩束的目的，使电子束分布在一条直线
发表于 05-07 06:03
成都汇阳投资关于光刻机概念大涨，后市迎来机会
进制程领域，曝光波长逐渐缩短至13.5nm，光刻技术逐步完善成熟。2024年光刻机市场的规模为230亿美元。2025年光刻机市场的规模预计为252亿美元。 【
不只依赖光刻机！芯片制造的五大工艺大起底！
在科技日新月异的今天，芯片作为数字时代的“心脏”，其制造过程复杂而精密，涉及众多关键环节。提到芯片制造，人们往往首先想到的是光刻机这一高端设备，但实际上，芯片的成功制造远不止依赖
什么是光刻机的套刻精度
在芯片制造的复杂流程中，光刻工艺是决定晶体管图案能否精确“印刷”到硅片上的核心环节。而光刻Overlay(套刻精度)，则是衡量光刻机将不同层电路图案对准精度的关键指标。简单来说，它就像
芯片制造:光刻工艺原理与流程
光刻是芯片制造过程中至关重要的一步，它定义了芯片上的各种微细图案，并且要求极高的精度。以下是光刻过程的详细介绍，包括原理和具体步骤。
组成光刻机的各个分系统介绍
本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤，其重要性不言而喻。光刻机是实现这一工艺的核心设备，它的工作原
日本首台EUV光刻机就位
据日经亚洲 12 月 19 日报道，Rapidus 成为日本首家获得极紫外 (EUV) 光刻设备的半导体公司，已经开始在北海道芯片制造厂内安装极紫外光刻系统。 它将分四个阶段进行安装，
工商网监
评论