光作为一种能量传递的电磁波形式,自然太阳光的光谱覆盖紫外(200nm)至红外(1000nm以上)波段,其核心特性“波长”决定了光的能量强度与应用场景。从日常可见的照明到高精尖的半导体制造,光波长
发表于 09-01 18:03
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韩国三星电子的电容物料编码规则采用分段式结构,不同位置字符代表特定参数(如尺寸、容值/阻值、误差、耐压等)。贞光科技作为三星电机的专业代理商,致力于为客户提供优质的车规级电容解决方案。以下分类整理
发表于 08-07 15:51
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光阻去除(即去胶工艺)属于半导体制造中的光刻制程环节,是光刻技术流程中不可或缺的关键步骤。以下是其在整个制程中的定位和作用:1.在光刻工艺链中的位置典型光刻流程为:涂胶→软烘→曝光→硬烘→显影→后烘
发表于 07-30 13:33
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光阻去除工艺(即去胶工艺)是半导体制造中的关键步骤,旨在清除曝光后的光刻胶而不损伤底层材料。以下是主流的技术方案及其特点:一、湿法去胶技术1.有机溶剂溶解法原理:利用丙酮、NMP(N-甲基吡咯烷酮
发表于 07-30 13:25
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什么是PID光离子化传感器? 光离子传感器(PID)是一种利用 高能量紫外光 将检测物从分子状态离子化成离子和电子的传感器,用于 检测低浓度的挥发性有机物(VOC)和少量的气态无机物质 。光
发表于 07-10 10:29
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作为三星MLCC授权代理商,我们贞光科技深耕汽车电子领域多年,见证了新能源汽车市场的爆发式增长。车规级MLCC需求激增,选择专业可靠的代理商变得至关重要。三星车规MLCC——贞光科技核
发表于 07-01 15:53
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本文主要介绍了光的分类和紫外线的定义,以及紫外线的特性、应用和固化原理。
发表于 06-30 17:27
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深圳帝欧电子回收三星S21指纹排线,收购适用于三星S21指纹模组。回收三星指纹排线,收购三星指纹排线,全国高价回收三星指纹排线,专业求购指纹
发表于 05-19 10:05
似乎遇到了一些问题 。
另一家韩媒《DealSite》当地时间17日报道称,自 1z nm 时期开始出现的电容漏电问题正对三星 1c nm DRAM 的开发量产造成明显影响。三星试图通过适当放宽线宽等
发表于 04-18 10:52
美光科技股份有限公司(纳斯达克股票代码:MU)近日宣布,三星Galaxy S25系列的部分设备已搭载美光业界前沿的LPDDR5X内存和UFS 4.0。该系列引入多模态AI助理,开创性地为用户带来直观
发表于 02-25 09:44
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,为作战行动提供有力支持。在智能交通领域,紫外光通信也有着巨大的潜力。未来的智能交通系统中,车辆之间可以通过紫外光进行快速、准确的信息交互。比如,在交叉路口,车辆
发表于 02-21 13:32
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工艺的核心材料。它由高分子树脂、光敏剂、溶剂及添加剂组成。其特性直接影响芯片图形化的精度。 光阻的作用: 图形转移:通过曝光显影,在硅片表面形成纳米级图案,作为后续刻蚀或离子注入的
发表于 02-13 10:30
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芯片制造、价值1.5亿美元的极紫外(EUV,https://spectrum.ieee.org/tag/euv)光刻扫描
发表于 01-09 11:31
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本文简单介绍了极紫外光(EUV)掩膜版的相关知识,包括其构造与作用、清洗中的挑战以及相关解决方案。
发表于 12-27 09:26
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据日经亚洲 12 月 19 日报道,Rapidus 成为日本首家获得极紫外 (EUV) 光刻设备的半导体公司,已经开始在北海道芯片制造厂内安装极紫外
发表于 12-20 13:48
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