第三代半导体领域再添新秀——北方华创新一代SiC晶体生长系统

随着电动汽车、5G通信、高速轨道交通、新能源、智能电网等领域的不断发展，市场对功率、射频器件的性能提出了更高的要求。受到硅（Si）材料的物理特性所限，传统Si基器件难以实现更高的性能。而碳化硅（SiC）作为第三代半导体的代表性材料，可以在功率器件、射频通信等领域实现传统Si材料难以达到的优异性能，获得了产业界的一致认可和推广。

SiC材料具有宽禁带、高临界场强、高热导率、高饱和迁移率、高抗辐射能力等性能。SiC的禁带宽度是Si的3倍、临界击穿场强是Si的10倍、热导率是Si的3倍。凭借SiC的优异性能，SiC器件不仅可以在高电压、高温、强辐射等Si基器件难以达到的领域发挥效果，更能够在电动汽车、5G通信、高速轨道交通等对高性能、高频率、大功率性能需求不断提高的领域代替传统Si基器件。

目前，两大问题制约了SiC材料的大规模应用，分别是较高的成本和亟待优化的缺陷水平。北方华创针对这两大问题，推出了自主研发的新一代设备：APS Plus系列SiC晶体生长系统（Advanced PVT SiC System）和工艺解决方案。

北方华创APS Plus系列产品基于行业内技术最成熟、应用最广泛的物理气相输运法（PVT法），通过硬件设计优化和工艺研发，为长期困扰SiC行业的高成本、低质量的两大问题带来了新的解决方案，帮助客户在激烈竞争的第三代半导体材料领域提升行业竞争力。同时亦通过设计模块化架构、高精度温度/功率/电流控制、自动化软件系统等方案，为客户降低了SiC晶体的制造成本。设备兼备灵活精密的温度场调控系统、巧妙设计的腔室系统、独特的SiC工艺等方案，可让用户获得高质量的SiC晶体。

为满足用户对SiC晶体生长的更高需求，北方华创APS Plus系列产品在为客户提供4/6英寸SiC晶体的“原料合成—晶体生长—晶体退火—晶体加工”全流程一体化的工艺解决方案的基础上，维护简便，最大限度减少了耗材使用，是省钱、省时、省心的一站式解决方案。