在BGA(球栅阵列)封装的PCB设计中,第一层(通常是顶层/Top Layer)靠近BGA的区域局部不铺铜,是高速、高密度设计中常见的做法,主要原因和考虑如下:
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保证信号完整性(SI)和阻抗控制:
- BGA引脚(尤其是高速信号引脚,如DDR、PCIe、差分对等)出线非常密集。
- 如果顶层铺满铜皮,这些铜皮(通常是GND铜)会与BGA引脚、表层走线产生额外的寄生电容。
- 这种寄生电容会改变高速信号的阻抗和传播速度,可能导致信号反射、边沿畸变,严重时引起误码或通信失败。
- 不铺铜可以减少不必要的寄生电容,使信号阻抗更接近设计目标值(如50Ω, 90Ω, 100Ω等)。
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优化电源完整性(PI):
- 虽然铺铜通常有助于提供低阻抗的回流路径,但在BGA下方极其密集的区域,铺铜(尤其是GND铜)可能与电源引脚形成局部的小环路或不必要的耦合。
- 在BGA正下方局部不铺铜,可以避免这些潜在的微小谐振点或耦合问题,为关键电源/地引脚提供更“干净”的环境。
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改善布线通道:
- BGA区域走线空间极其宝贵。移除不必要的铺铜,避免铜皮上的禁布区(Keepout)限制布线,可以为关键的信号线(尤其是高速线)腾出宝贵的布线空间,允许使用更宽的线宽或更安全的线间距来满足阻抗要求。
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回流路径的考量:
- 关键点: 不铺铜不等于切断回流路径!信号的回流电流总是会选择阻抗最低的路径(通常是相邻的参考平面)。
- 表层信号的回流主要依赖于相邻的内层平面(通常是第二层)。
- 在表层局部不铺铜的情况下,只要相邻的第二层是一个完整的地平面(GND Plane),高速信号的回流电流就会自然地通过过孔(Via)切换到该平面上,形成闭合回路。这个路径比表层零碎的铜皮形成的路径阻抗低得多。
- 因此,确保紧邻BGA的第二层(通常是Layer2)是一个完整、连续的GND平面是这种做法成功的关键。这是高速设计的黄金法则之一。
具体实施方式:
- 局部开窗: 只在BGA封装体正下方的顶层区域进行“开窗”处理(即不铺铜),而不是整个顶层都不铺铜。这个开窗区域通常会比BGA封装本身略大一些(例如单边外扩0.5mm - 1.0mm),以确保所有相关引脚出线区域都受到影响。
- 使用Keepout区域: 在PCB设计软件中,在BGA下方绘制一个多边形Keepout区域(属性设置为“Copper Pour”禁止铺铜),阻止铜皮在该区域生成。
- 网格铜/花焊盘填充: 如果出于屏蔽或散热等考虑,确实需要在开窗区域放置铜,可以考虑使用非常稀疏的网格铜或花焊盘填充方式(Thermal Relief),这样既可以提供一定的铜覆盖率,又能最大限度减少寄生电容。
需要特别注意的事项:
- 回流路径: 再次强调,必须保证第二层(Layer2)是完整的地平面。这是信号找到低阻抗回流路径的基础。务必检查该平面在BGA区域的完整性,避免被分割线或过孔密集区打断。
- 电源平面: 如果第二层是电源平面(PWR Plane),情况会复杂很多。高速信号在电源平面上方的回流路径阻抗较高且不纯净(因为有电源噪声)。这种情况下,需要更仔细的电源地平面设计(如相邻层为地平面)或采用其他措施(如增加去耦电容、选择性地在表层铺小块的GND铜并通过过孔良好接地)。
- 屏蔽和EMC: 大面积开窗可能略微降低对某些高频噪声的屏蔽效果。需要在信号完整性和EMC之间进行权衡。通常SI问题在BGA区域更关键。
- 热设计: 铜皮有助于散热。如果BGA芯片功耗较大,局部不铺铜可能影响其散热。需要评估热性能,必要时通过导热过孔(Thermal Via)将热量导到内层铜层散发。
- DFM: 大面积无铜区域可能影响生产过程中的蚀刻均匀性,极端情况可能导致板材轻微翘曲(虽然在小区域开窗通常影响不大)。需与PCB制造商沟通。
总结:
在BGA PCB设计中,第一层(顶层)靠近BGA的区域局部不铺铜,主要是为了减少寄生电容、精确控制高速信号阻抗、优化布线空间和潜在的电源完整性。这种做法成功的关键在于确保紧邻的第二层(Layer 2)是一个完整连续的接地平面(GND Plane),为高速信号提供可靠的低阻抗回流路径。这是一个针对高速、高密度场景的工程权衡决策,需要根据具体设计(信号速率、BGA类型、叠层结构、功耗等)仔细评估实施范围和影响。
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