企业号介绍

全部
  • 全部
  • 产品
  • 方案
  • 文章
  • 资料
  • 企业

芯矽科技

专业湿法设备的制造商,为用户提供最专业的工艺解决方案

111内容数 5.8w浏览量 3粉丝

动态

  • 发布了文章 2025-08-26 13:42

    洁净工作台尘埃粒子标准是多少

    洁净工作台的尘埃粒子标准因应用场景和行业规范而异,以下是不同洁净级别的具体要求:百级洁净度≥0.5μm的尘埃粒子数:应≤3,500,000个/立方米;≥5μm的尘埃粒子数:应≤20,000个/立方米。适用领域:半导体制造中的光刻、蚀刻等关键工艺环节,以及生物制药领域的无菌药品灌装与分装操作。该级别要求极高的空气纯净度,以避免微小颗粒对精密元件或药品造成污染。
    925浏览量
  • 发布了文章 2025-08-26 13:34

    标准清洗液sc1成分是什么

    标准清洗液SC-1是半导体制造中常用的湿法清洗试剂,其核心成分包括以下三种化学物质:氨水(NH₄OH):作为碱性溶液提供氢氧根离子(OH⁻),使清洗液呈弱碱性环境。它能够轻微腐蚀硅片表面的氧化层,并通过电化学作用使颗粒与基底脱离;同时增强对有机物的溶解能力124。过氧化氢(H₂O₂):一种强氧化剂,可将碳化硅表面的颗粒和有机物氧化为水溶性化合物,便于后续冲洗
    901浏览量
  • 发布了文章 2025-08-25 16:43

    半导体清洗选型原则是什么

    半导体清洗设备的选型是一个复杂的过程,需综合考虑多方面因素以确保清洗效果、效率与兼容性。以下是关键原则及实施要点:污染物特性适配性污染物类型识别:根据目标污染物的种类(如颗粒物、有机物、金属离子或氧化层)选择对应的清洗方式。例如,RCA法中的SC-1溶液擅长去除颗粒和有机残留,而稀HF则用于精确蚀刻二氧化硅层。对于顽固碳沉积物,可能需要采用高温Piranha
    384浏览量
  • 发布了文章 2025-08-25 16:40

    如何选择合适的湿法清洗设备

    选择合适的湿法清洗设备需要综合评估多个技术指标和实际需求,以下是关键考量因素及实施建议:1.清洗对象特性匹配材料兼容性是首要原则。不同半导体基材(硅片、化合物晶体或先进封装材料)对化学试剂的耐受性差异显著。例如,砷化镓等化合物半导体易被强酸腐蚀,需选用pH值中性的特殊配方清洗液;而标准硅基芯片可承受更高浓度的碱性溶液。设备内腔材质必须满足抗腐蚀性要求,通常采
    512浏览量
  • 发布了文章 2025-08-20 13:35

    去离子水冲洗的正确方法

    去离子水冲洗是半导体、微电子等领域的关键工艺步骤,其正确操作直接影响产品的洁净度和性能。以下是标准化流程及注意事项:一、前期准备设备检查与校准确保去离子水系统的电阻率≥18MΩ·cm(符合ASTMD5127标准),定期检测水质避免离子污染。确认冲洗设备的喷嘴无堵塞或泄漏,压力稳定在设定范围内(通常0.2–0.5MPa)。若使用自动化机械臂或旋转台,需提前调试
    638浏览量
  • 发布了文章 2025-08-20 12:00

    半导体清洗机如何优化清洗效果

    一、工艺参数精细化调控1.化学配方动态适配根据污染物类型(有机物/金属离子/颗粒物)设计阶梯式清洗方案。例如:去除光刻胶残留时采用SC1配方(H₂O₂:NH₄OH=1:1),配合60℃恒温增强氧化分解效率;清除重金属污染则使用SC2槽(HCl:H₂O₂=3:1),利用氯离子络合作用实现选择性蚀刻。引入在线电导率监测装置,实时修正化学液浓度波动,确保不同批次间
    1.2k浏览量
  • 发布了文章 2025-08-19 11:40

    半导体行业中清洗芯片晶圆陶瓷片硅片方法一览

    在半导体行业中,清洗芯片晶圆、陶瓷片和硅片是确保器件性能与良率的关键步骤。以下是常用的清洗方法及其技术要点:物理清洗法超声波清洗:利用高频声波在液体中产生的空化效应破坏颗粒与表面的结合力,使污染物脱落。适用于去除大颗粒及松散附着物13;兆声波清洗(MegasonicCleaning):相比传统超声波频率更高,能更高效地清除亚微米级颗粒且不损伤表面3;刷洗与喷
    1.2k浏览量
  • 发布了文章 2025-08-19 11:33

    晶圆清洗后的干燥方式

    晶圆清洗后的干燥是半导体制造中的关键步骤,其核心目标是在不损伤材料的前提下实现快速、均匀且无污染的脱水过程。以下是主要干燥方式及其技术特点:1.旋转甩干(SpinDrying)原理:将清洗后的晶圆置于高速旋转平台上,通过离心力使表面液体向边缘甩出,形成薄液膜后进一步蒸发。此过程通常结合温控系统加速水分挥发。优势:操作简单高效,适用于大多数标准尺寸的硅片;可精
  • 发布了产品 2025-08-18 16:45

    rca槽式清洗机 芯矽科技

    产品型号:rcacsqxj 非标定制:根据客户需求定制
    67浏览量
  • 发布了产品 2025-08-18 16:40

    自动槽式清洗机 芯矽科技

    产品型号:zdvsqxj 非标定制:根据客户需求定制
    47浏览量

企业信息

认证信息: 专业半导体湿制程设备

联系人:暂无

联系方式:
该企业不支持查看

地址:暂无

公司介绍:暂无

查看详情>