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中微半导体即将登陆科创板,3年累计研发投入占比达32%

cMdW_icsmart 来源:YXQ 2019-04-01 08:32 次阅读
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上交所披露已受理中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称中微公司)、安集微电子科技(上海)股份有限公司(以下简称安集微电子)的科创板上市申报材料。

两家公司都属于半导体行业,记者查阅招股说明书(申报稿,以下简称招股书)发现,两家公司都颇为重视研发。2016年、2017年、2018年,中微公司研发投入占营业收入的比例分别为49.62%、34.00%、24.65%,3年累计研发投入约占营业收入的32%,累计研发投入10.37亿元。同期,安集微电子研发投入占营业收入的比例则分别为21.81%、21.77%和21.64%。作为备受市场关注的明星企业,中微公司目前无实际控制人,公司第一大股东是上海创业投资有限公司,后者为上海科技创业投资(集团)有限公司的全资子公司,实控人为上海市国资委。

面向“世界科技前沿”

2016年、2017年、2018年,中微公司分别实现营业收入6.10亿元、9.72亿元、16.39亿元,年均复合增长率64%,扣非后归属于母公司所有者的净利润分别为-1.38亿元、2586.33万元、1.84亿元。

招股书介绍,中微公司是一家以中国为基地、面向全球的高端半导体微观加工设备公司,是我国集成电路设备行业的领先企业,是由一大批在全球半导体产业长期耕耘,做出突出贡献的研发、工程技术、销售和营运专家创立和参与的科创企业。公司聚焦用于集成电路、LED芯片等微观器件领域的等离子体刻蚀设备、深硅刻蚀设备和MOCVD设备等关键设备的研发、生产和销售。“公司研发的核心技术和产品面向世界科技前沿,是国际半导体设备产业界公认的后起之秀。”此外,“半导体制造设备是实现集成电路性能提升的关键,发展集成电路及装备产业对我国的经济结构调整升级具有重要的战略意义”。

这一描述显然是与科创板对企业定位的要求相对应。

在《上海证券交易所科创板企业上市推荐指引》中,要求保荐机构在把握科创板定位时,需遵循部分原则,其中第一条即是“坚持面向世界科技前沿、面向经济主战场、面向国家重大需求”。

而中微公司主要从事高端半导体设备的研发、生产和销售。自成立以来,主要业务是开发加工微观器件的大型真空工艺设备,包括等离子体刻蚀设备和薄膜沉积设备。其中等离子体刻蚀设备、薄膜沉积设备与***是制造集成电路、LED芯片等微观器件的最关键设备。

而安集微电子的主营业务为关键半导体材料的研发和产业化,目前产品包括不同系列的化学机械抛光液和光刻胶去除剂,主要应用于集成电路制造和先进封装领域。公司成功打破了国外厂商对集成电路领域化学机械抛光液的垄断,实现了进口替代,使中国在该领域拥有了自主供应能力。2016~2018年,公司化学机械抛光液的全球市场占有率分别为2.42%、2.57%、2.44%。

研发投入占比较高

作为拟上科创板的公司,两家公司在研发方面的投入也是“不遗余力”。

截至2018年末,中微公司共有研发和工程技术人员381名,占员工总数的58%。报告期内累计研发投入10.37亿元,约占营业收入的32%。自公司设立至2019年2月末,已申请了1201项专利,其中发明专利1038项,海外发明专利465项;已获授权专利951项,其中发明专利800项。在与国际半导体设备领先公司数轮的商业秘密和专利诉讼中均达成和解或胜诉,“以事实结果证明了公司扎实的自主知识产权基础和应对国际复杂知识产权挑战的能力”。此外,公司创始人、董事长及总经理尹志尧博士在半导体芯片和设备产业有35年经验,是国际等离子体刻蚀技术发展和产业化的重要推动者。

截至2018年12月31日,安集微电子拥有授权发明专利190项。报告期内,公司研发投入占营业收入的比例分别为21.81%、21.77%和21.64%,核心技术产品占营业收入的比重分别为99.62%、99.54%、99.75%。

不过,记者也注意到,报告期内,两家公司的毛利率均出现了下降。

2016年、2017年、2018年,安集微电子综合毛利率分别为55.61%、55.85%、51.10%,逐年下降。公司解释称,2017年下降的主要原因为收入结构的变化,同时公司对已稳定销售多年的产品选择性降价维持公司产品的竞争优势,以应对客户成本控制的需求和竞争对手价格的挑战。

报告期内,中微公司的主营业务毛利率分别为42.52%、38.59%和35.50%,公司表示,主营业务毛利率由于产品结构变化、市场策略变化有所下降,但总体维持在良好的水平。公司将通过产品升级、工艺改进、加强成本控制、提升商务谈判水平等措施,进一步提升市场地位,提高毛利率水平。

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原文标题:中微半导体即将登陆科创板,3年累计研发投入占比达32%

文章出处:【微信号:icsmart,微信公众号:芯智讯】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

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