国内AMOLED产业高潮_设备与工艺自主研发设计生产

中国AMOLED产业投资近几年达到高潮，根据CINNOResearch数据统计，目前中国大陆共有17条AMOLED产线, 投资金额在未来三年均维持在1000亿人民币左右的规模。

在AMOLED生产线投资中，设备投资部分占比高达80%以上，但其中90%以上均被韩日等海外设备厂占据，国产设备仅仅在非核心的自动化和检测设备方面占据部分份额。核心设备国产化率低这个问题严重制约了我们从显示制造大国向显示制造强国的产业升级之路。

根据CINNOResearch数据，目前国产设备在自动化和检测领域的渗透率达到18%左右，已经可以和国外先进制造商平等竞争，但在成膜技术(PVD,CVD，Evaporator)和曝光技术等方面，我们和国外存在较大的技术差距，短期难以追赶突破。而在湿制程这个领域，目前国产化渗透率在3%左右，这将是未来国产设备最有望实现突破的核心设备领域。

在面板制造工艺中，湿制程设备即使用水，洗剂或化学品等液态物质对玻璃基板进行加工的工艺设备，包含玻璃基板清洗设备(Cleaner)，光阻涂布显影设备(Coater&Develop)，湿法刻蚀设备(Wet Etching)和光阻剥离设备(Stripper)。目前这部分设备暂时被韩日设备商垄断。

在中国厂商中，晶洲装备成功取得国内某AMOLED面板厂G6湿法刻蚀设备和光阻剥离设备订单，并于2018年初顺利出货，实现了国产设备在湿制程领域的突破。根据我们掌握的信息，目前该设备作为关键工艺制程设备已在客户量产线正常运行使用。

晶洲装备在湿制程设备领域不断进取突破，不但获得了来自客户的认可，并得到政府和社会的肯定。近日再次传来喜讯，苏州晶洲装备科技有限公司G6 AMOLED湿法刻蚀机成功入选2018年江苏省“首台套”重大装备产品，填补国内空白的同时，打破了国外进口设备的垄断局面，并且在结构设计、功能实现上与进口设备媲美。

晶洲装备自主研发设计生产的“G6 AMOLED 湿法刻蚀机”，主要应用于G6 AMOLED平板显示制程的阵列（Array）段，其原理是利用化学的方法对经过曝光与显影后的基板表面金属膜层进行均匀刻蚀，进而形成光刻定义的电路图，是刻蚀工艺的核心载体设备。晶洲装备率先研制了极紫外表面改性系统、刻蚀药液溶度控制系统、高速药液置换系统等，并将其应用于“G6 AMOLED 湿法刻蚀机”，实现刻蚀过程的高度均匀性及稳定性。该项目共形成知识产权21项，其中，获得授权发明专利2项，实用新型专利13项，同时，作为首台套重大装备，江苏省政府进行保费补贴扶持，为首台套重大装备的稳定运行与操作安全保驾护航，保险装备出现零部件、元器件损坏或失效、修理、更换、退货，并由此引起的鉴定费用、运输费用、交通费用以及保险装备出现的责任范围内事故造成第三者责任等皆有保险公司赔付。

中国作为全球最大的消费电子市场，在一些核心技术和设备上无法突破，屡屡受制于人。在平板显示领域，由于国内相关产业发展晚于日韩企业，国外的技术垄断与封锁等原因，造成该领域的前、中段生产设备主要仍由国外企业垄断。此次晶洲装备AMOLED湿法刻蚀机首台套重大装备的成功认定，是平板显示领域湿法装备国产化的新高度，同时也体现晶洲装备努力奋进，继续前行的决心。