晋华遭禁 中国大陆发展DRAM恐面临挫败

美国司法部控告福建晋华窃取商业机密案，导致晋华关键设备导入与试产计划陆续喊停，美方后续传将锁定合肥长鑫、睿力集成国际等中国大陆记忆体业指标案进行调查，中国大陆发展DRAM恐面临挫败，业界原忧心陆厂快速切入制造、扰乱市场供需的警报暂告解除，对南亚科、华邦电等台厂有利。

消息人士透露，晋华案升高至美国司法单位介入后，相关协力厂相当震撼，相关的美国设备商均把原本在晋华协助装机的工程师全数撤出，并中止任何联系，原透过联电采购相关材料的行动也都中止，晋华已处于「连试产都无法进行」的状况。

此外，中国大陆国家集成电路产业投资基金（大基金）已在美国司法部宣布控告晋华后，暂停入股晋华的投资案，随着资金来源受阻，加上关键设备与技术协力厂收手，原本声势浩大的晋华DRAM投资计划，恐胎死腹中。

联电证实，为晋华开发的DRAM技术建立的近400人团队，已全数中止所有开发计划。联电表示，原计划分二期，第一期发展3X纳米制程技术进入尾声，但因晋华装机中止，已无进行；至于第二期开发2x纳米制程，将视未来事件发展而定。

业界人士认为，晋华发展DRAM事业遭美国司法部列入限制零组件出口清单，对晋华是一大重击。中共******本月底出席G20高峰会，是否会与美国总统川普针对尊重美国智财权案做出让步，将攸关此案后续发展。

一名半导体业资深人士透露，合肥长鑫和睿力集成国际将是美方下一步制裁对象，主因美国记忆体芯片大厂美光也对合肥产业投资控股集团投资的合肥长鑫、睿力集成电路等向美光挖角的十多位高阶工程归同步展开控诉。

一般预料，美国司法部下波会将合肥长鑫及睿力列入限制美半导体重要零组件出口清单当中，做为美中贸易战谈判筹码。

业界人士分析，晋华、合肥长鑫及睿力发展受挫，恐使得中国大陆发展DRAM的脚步比原本预期落后至少五年，业界原本忧心陆厂快速切入制造、扰乱市场供需的状况也随之淡化。

延伸阅读：6 个专利证据，让美国大胆告联电、晋华

11 月2 日，美国司法部宣布以经济间谍罪起诉台湾的联华电子、中国的福建晋华集成电路两家公司，以及55 岁的晋华总经理陈正坤以及其他两位联电主管，美国司法部长塞申斯并在新闻稿指出，上述被告「涉嫌共谋窃取总部位于爱达荷州的美光半导体公司的营业秘密」。

申斯并强调，「中国对美国的经济间谍行动不断增加，最近更是快速攀升。我在此要说，凡事要适可而止。司法部将秉持诚正及专业，积极起诉这类非法活动。」

这是台湾企业与个人首次面临美国经济间谍罪起诉。该法与一般的商业间谍罪的不同点，在于主要针对「外国政府、外国法人」介入，一旦罪名成立，后果极为严重，陈正坤等人将面临最重15 年徒刑和500 万美元罚款，联电则将面临最重超过200 亿美元的罚款。

该日股市一开盘，联电股价立即跌停。

联电则声明，「在判决有罪确定之前，应推定无罪，公司将提出证据抗辩，以捍卫本公司之权益。」

其实，美国政府本次起诉，已过去一年多以来，台美两地针对联电等人的第三次诉讼。包括美光去年12 月，在美国对联电、晋华提起的民事诉讼，以及去年9 月，台中地检署以违反营业秘密法，起诉联电及3 名联电主管。

与过去不同，这次起诉针对联电而来

本次的美光案，与过去几年，发生在联发科、宏达电、友达等科技大厂的营业秘密外泄案件相比，虽然受害者换成外商，但逻辑基本类似，背后「藏镜人」都被高度怀疑是中企，以及背后的中国政府。

过去案件，因为举证不易，最后告诉对象都仅限于实际犯案的工程师，而放过涉嫌背后教唆的大企业，常被讥为是「大鲸鱼对上小虾米」，但这回明显不同，从台中地检署开始，起诉就针对联电这家市值超过台币1 千亿元的世界第三大晶圆代工厂。

《天下》在10 月中旬，在美国参加美光活动时，访问美光负责公司策略的副总裁Colm Lysaght，为什么控告联电？

他的回答是，「我们非常有信心，我们有非常强的证据，而且有台湾官方提供的证据来支持我们。」

「这是非常明确（black & white）的智财剽窃（IP theft），」美光科技全球营运执行副总裁Manish Bhatia，在一个多星期后接受《天下》专访时说，他并加上一句，「我们非常感谢台湾执法机关的协助」。

翻开本次美国联邦检察官的起诉书，封面就是怵目惊心的：「United States（美国）vs. United Microelectronics, et al.,（联电与其他人）」，起诉对象，与台中地检署略有出入，将联电协理戎乐天换成联电前资深副总、现任晋华总经理陈正坤。

陈正坤原为台湾美光记忆体董事长。他在2015 年7月离开美光到联电。

根据美国起诉书，在联电工作时，陈正坤协助联电与晋华协商合作协议，藉由晋华提供资金，联电负责研发DRAM 技术，并转移给晋华进行量产，技术由联电与晋华共享。陈正坤以联电执行合作协议的负责人身分，成为晋华总经理，负责管理DRAM 制造工厂。

起诉书并指出，在联电工作时，陈正坤招募多名台湾美光员工跳槽联电，其中何建廷和王永铭两人偷窃美光DRAM 设计和制造的营业秘密，并将营业秘密带到联电。

美国起诉书多出若干新事证

《天下》独家取得美国司法部、美光与台中地检署的起诉书与诉状。经过详细比对，发现美国在今年9 月起诉的起诉书（11 月2 日才公布），较台中地检署起诉书，多出若干新事证。

例如，起诉书指出，从2016 年9 月到2017 年3 月之间，联电与晋华在美国联合取得5 个专利、1 个申请中，这6 个专利都与美光被盗用的的技术相同或高度相似，而且这些美光的营业秘密「无法藉由逆向工程的方式取得」。

其中一项专利，是2017 年6 月13 日，美国专利局核准的「半导体元件与制造方法概要」专利，编号是US 967990 B1。

该专利列了6 个发明人，包括被起诉的美光前员工何建廷。「专利申请揭露的内容，来自美光被盗用的机密文件，」起诉书写着。

主要来自两份美光机密文件，包括共233 页的25 纳米科技（25nm Precess Travel Document），包含美光25 纳米技术「从头到尾，非常仔细地描述」，以及共302 页的20 纳米科技，主要包含如何从25 奈升级到20 纳米的技术细节。

这些是何建廷和王永铭离开美光时，下载带走的美光技术资料内容的主要部分。其中，美光指控曾任美光品质工程部副理的王永铭，从美光带走超过900 笔技术档案。

还原电脑资料，找到剽窃证据

但一开始，王永铭究竟为何会被发现下载机密档案？

这点，台中地检署的起诉书语焉不详，但美光的民事诉状，却透露出戏剧性的细节。

该诉状指出，王永铭在离职前，用公司配发的电脑下载免费软体CCleaner，将相关使用纪录都清除，然后再将电脑还给公司。

但他可能没想到，这个软体，可能没有他想像的那么好用。

事实上，事后美光还是还原出他在离职前几个月使用电脑的多数动作，包括从公司下载多笔机密档案到随身碟，以及离职前的4 月23 日当天，他在Google 输入一连串查询「如何清除电脑使用纪录」，以及安装CCleaner 整个过程，都还原出来，并成为日后起诉他的罪证。

国内顶尖的数位鉴识专家、鉴真数位总经理黄敬博解释，CCleaner 虽宣称可清除浏览纪录、暂存档，但没做进一步覆写动作，只要受过专业训练的人员，都能用特殊工具复原被消除的电脑档案，「只要没有覆写，资料都有机会救回来」。