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CPO模块电光同步贴装新方案——京瓷高精度无源对准技术解析

向欣电子 2026-01-24 07:47 次阅读
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随着AI云计算爆发式增长,数据中心面临带宽密度不足功耗激增双重挑战。传统电互连和板级光模块难以满足需求,而共封装光学(CPO)技术将光电器件紧贴CPU/GPU封装,缩短电传输距离,实现能效提升40%+带宽密度翻倍。本文介绍京瓷提出的一种无源对准方法,该方法利用CNC补偿技术,实现了CPO(共封装光学)模块的电光同步贴装。该方法能够将光电转换器精确地贴装到聚合物波导上,并提供了足以支持32 Gb/s NRZ(非归零码)传输耦合效率。

CPO模块结构设计

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图1:CPO模块结构(a)与光耦合截面示意图(b)

京瓷CPO模块的主要设计包括:

双芯片设计:2个5×5mm硅光(SiPh)芯片,集成4通道收发器,采用硅光技术实现光电转换;

基板尺寸:33.6×21.0mm²,嵌入聚合物波导+曲面反射镜;

光路路径:SiPh芯片 → 垂直光钉 → 45°曲面镜 → 波导 → 多模光纤;

创新光路设计:采用聚合物垂直光钉(Optical Pins)将光信号引出芯片平面。

贴片容差:±5μm的生死线

光耦合损耗必须≤0.6 dB才能满足32 Gb/s NRZ传输。通过微位移实验(图2)测得X/Y轴偏移容忍度仅±5μm,超过±5μm损耗剧增。此外,采用曲面镜设计使X/Y轴容差对称化,避免焦点突变。

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图2:容差测试装置

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图3:X/Y轴位移与光损耗关系

贴片流程:SIEOM技术突破工艺瓶颈

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图4:SIEOM工艺流程

传统工艺面临有机基板形变大、微镜面难做标记,以及光钉位置波动等难题。京瓷采用了SIEOM创新流程(图4),具体如下:

光刻核心标记:波导加工时同步制作定位标记(Core-Marks);

CNC视觉补偿:测量基板标记/镜面坐标,计算最佳贴装位;

光钉主动对齐:通用贴片机以光钉为基准定位(非传统设备标记);

树脂填充:折射率匹配胶同时充当底部填充料。

一举三得:单次贴装同步完成100个BGA焊点+8个光通道(4Tx+4Rx)

结果分析:精度与损耗双达标

验证方法:采用IR显微镜无损检测光钉位置(图5验证准确性),并对比设计位置与实际偏移量的光损耗。

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图5:光钉-波导耦合截面(实际贴合状态)

结果表明,如图6所示,最佳位光耦合损耗仅0.3 dB(远低于0.6dB上限)。SIEOM将位置偏差控制在±5μm内,传统方法波动达±15μm成功支持32 Gb/s NRZ传输(BER<10⁻¹²)。

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图6:Y轴偏移与损耗关系(实点:SIEOM实测;虚线:容差曲线)

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图7:SIEOM vs 传统方法精度对比(误差棒=极值)

结论:为CPO量产铺平道路

京瓷开发的SIEOM技术实现了电光同步无源贴装。通过光刻标记+CNC补偿攻克±5μm对准难题,其光损耗0.3dB满足32Gb/s高速传输。该项技术为CPO标准化量产提供高性价比方案。


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