近日,钻石巨头戴尔比斯旗下材料企业 Element Six 宣布推出面向先进半导体器件散热应用的一类铜-金刚石复合材料。
该材料结合了在半导体器件散热领域中广泛得到应用的铜和具有出色热导能力的金刚石,可实现介乎两种原材料之间的导热系数和热膨胀系数。
Element Six 公布了两款参数上存在区别的复合材料:其中金刚石体积分数在 35%±5% 的一款可实现 800 W/m·K 的导热系数,已是铜的两倍,同时最低厚度仅有 0.35mm;而另一款金刚石体积分数更高(45%±5%)的产品导热系数进一步增至 1000 W/m·K,但最低厚度也增加到了 2.0mm。
Element Six 表示其铜-金刚石复合材料以独特工艺制得,适用于高端 HPC / AI 芯片、射频功率放大器、电源转换器、高功率半导体激光器在内的一系列高功率密度半导体器件。
Element Six 首席科学家 Daniel Twitchen 表示:随着功率水平的提高和封装技术的不断进步,半导体器件的热管理仍然是一项重大挑战。
我们的铜-金刚石复合材料为下一代 AI 和 HPC 设备提供了可扩展且经济实惠的解决方案,从而应对了这些挑战。这一创新使我们的客户能够提高性能和可靠性,同时降低冷却成本。
通过金刚石基复合材料无与伦比的导热性和耐用性,我们正在开创一个高性能设备的新时代,不仅解决了当今的挑战,还为未来的进步奠定了基础。
-
半导体
+关注
关注
336文章
29978浏览量
257978 -
复合材料
+关注
关注
2文章
260浏览量
13776 -
散热材料
+关注
关注
0文章
33浏览量
7777
原文标题:重磅!戴尔比斯发布金刚石复合散热材料
文章出处:【微信号:DT-Semiconductor,微信公众号:DT半导体】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。
发布评论请先 登录
金刚石散热黑科技 | 氮化镓器件热管理新突破
特思迪:金刚石加工的革新者,精密磨抛技术深度探索
化合积电推出硼掺杂单晶金刚石,推动金刚石器件前沿应用与开发
创纪录!全球最大金刚石单晶成功研制
金刚石基晶体管实现里程碑式突破
优化单晶金刚石内部缺陷:高温退火技术
革新突破:高性能多晶金刚石散热片引领科技新潮流
一文解析大尺寸金刚石晶圆复制技术现状与未来
解析GaN器件金刚石近结散热技术:键合、生长、钝化生长
金刚石:从合成到应用的未来材料
探讨金刚石增强复合材料:金刚石/铜、金刚石/镁和金刚石/铝复合材料
欧盟批准西班牙补贴金刚石晶圆厂
探秘合成大尺寸单晶金刚石的路线与难题

戴尔比斯发布金刚石复合散热材料
评论