MIT研究院用铟镓砷化合物造出史上最小晶体管

MIT的微系统实验室（Microsystems Technology Laboratories）声称已经造出了史上最小的晶体管，用的却是硅以外的材料。该晶体管由已经应用于光纤和雷达技术上的铟镓砷化物（indium gallium arsenide，IGA）制造，厚度仅有22nm（约9股人类DNA）。因为这是在微处理器里使用的相同类型的晶体管，这意味着芯片可以更加密集、提供更高的性能。

研究人员希望找到一个替代硅的材料，在更小的尺度上实现更高的速度和效率，以迫近摩尔定律所预测的进程。合作开发人员和麻省理工学院的教授Jesus del Alamo称，这方面的发展“将确保摩尔定律达到硅片所不能达到的程度”（take Moore‘s Law beyond the reach of silicon）。

MIT News的报道称，研究人员下一步将提高晶体管的电气性能和整体速度。若小组成功达到了这个目标，他们将继续朝着小于10nm的目标前进。