芯碁微电子：AM Mini LED数字背光开启LCD显示新章节

2023年8月30日，由中国光学光电子行业协会液晶分会、日经BP主办，中国知名电子信息产业咨询公司CINNO Research战略合作，以“突破边界·创变无限”为主题的第三届“2023国际Mini/MicroLED供应链创新发展峰会”在上海成功举办。

芯碁微电子装备股份有限公司副总经理曲鲁杰在会上以《AM Mini LED数字背光开启LCD显示新章节》为题的演讲。

在面板显示领域，目前主要使用投影光刻和渐进式光刻设备。然而，在2019年，芯碁微电子装备股份有限公司承接了国家工业项目，在OLED 6代线上开发了直写光刻设备，并已完成高世代线的研发并进行客户验证。

芯碁微电子装备股份有限公司是一家专注于直写光刻装备研发和生产的高科技公司，主要应用于泛半导体和PCB领域。在泛半导体领域，直写光刻技术竞争激烈，而在面板领域，芯碁微拥有领先优势，其一直在不断拓展和应用该技术。他们以直写光刻为平台，扩展到各个细分领域，包括芯片制作、生物芯片、3D器件、光电传感器、光波导、光电封装等，以及PCB领域的整个生产线。

直写光刻技术对大多数人来说还是比较陌生，因此曲鲁杰首先简要介绍了该技术。直写光刻技术与传统投影光刻技术不同，不需要掩模板，因此具有高速度和高分辨率的优势。他提到，直写光刻技术可分为激光直写和电子直写，分辨率可达15纳米制板。此外，目前还有两种主要的直写光刻技术，一种是基于大平面的，另一种是基于传感器的，如DMD，用于数字掩模的生成。

据了解，直写光刻设备的组成包括激光系统、DMD、成像系统和专门的调胶系统。通过如多头、增加曝光容量、提高扫描速度和调制频率等技术手段，可以有效提高产能，改善直写光刻设备的生产效率。

曲鲁杰随后详细解释了直写光刻的工作原理，包括数字化过程，图形的设计和曝光过程。此外他还介绍了倾斜扫描技术，目的是提高分辨率。面对处理大量数据的挑战，其表示将会采取处理曝光和数据同时进行的方式来应对这一挑战。

在应用方面，曲鲁杰分享了直写光刻技术在多个领域的案例。首先，芯碁微完成了国家的长期项目，即六代项目。该项目中，应用了直写光刻技术，实现了1.5微米的分辨率。设备规模巨大，达到1.9×1.5米，重达30吨，用于生产面板显示设备，采用了国产自主技术和国内生产的平台。

在OLED领域，芯碁微应用直写光刻技术于硅基的OLED生产线，为维信诺等公司提供了设备。其分辨率达到了0.7微米，在2018年就已经成功应用；OLED FMM制版设备在六代线上应用，具备1.9×1.5米的规模，能够实现30微米左右的开窗和5微米的图形精度，以及总长精度达到15微米。这些设备用于制造金属掩模板，广泛应用于OLED生产中。

此外芯碁微还在PCB领域直接制造PD板，为Mini LED和MicroLED等领域提供了广泛的应用。目前正在研发六代线的大型设备，用于在玻璃基板上进行制造。

据曲鲁杰介绍，他们对用于玻璃基制造的设备进行大量测试，尤其是在白油、undercut和开窗方面，该设备能够实现100微米左右的开窗和正负15微米的图形精度。同时在PCB基板上进行了黑油方面的测试。在厚胶情况下，他们实现了undercut在50%以内，开窗品质在正负12微米以内。这些结果表明直写光刻技术对于玻璃基板与PCB基板制造都具有重要作用。

直写光刻技术在面板显示领域是具有广泛应用潜力的，芯碁微在这领域的研发与创新能力让其处于行业的领先位置。曲鲁杰强调：“直写光刻技术的高分辨率、高效率和多领域适用性将会使其成为当前面板制造业的重要工具。”

审核编辑：汤梓红