0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

影响等离子清洗效率的工艺参数有哪些?

深圳市金徕技术有限公司 2022-08-29 10:52 次阅读

首先,等离子清洗机主要通过气体放电产生等离子。气体放电中含有电子、离子、自由基、紫外线等高能物质,具有活化材料表面的作用。例如,低质量、快速移动的电子可以首先到达材料表面并带负电,同时在材料表面产生碰撞效应,加速气体解吸或分解。分子也吸附到表面并帮助引发化学反应。当材料表面带负电时,带正电的离子会加速并撞击,由此产生的溅射会去除粘附在表面的颗粒物质。等离子体中自由基的存在对于清洁非常重要。自由基容易与物体表面发生化学链式反应,因此会产生新的自由基或进一步分解,最终分解成易挥发的小分子。射线具有很强的光能和传输能力,可以穿过物质。表面有几微米深,作用是破坏和破坏附着在表面上的物质的分子键。

pYYBAGKzz2mAfd2yAAQO1UvOZR0456.png真空等离子清洗机


(1)放电压力:在低压等离子体的情况下,放电压力越高,等离子体密度越高,电子温度越低。等离子体的清洁效果取决于等离子体的密度和电子温度。例如,密度越高,清洗速度越快,电子温度越高,清洗效果越高。因此,放电气体压力的选择对于低压等离子清洗工艺非常重要。
(2)气体种类:待处理基材及其表面污染物种类繁多,各种气体排放产生的等离子清洗速度和清洗效果完全不同。因此,应有针对性地选择等离子体的工作气体。例如,使用氧等离子体去除物体表面的油脂和污垢,或使用氢氩混合气体等离子体去除氧化层。
(3)放电功率:提高放电功率可以增加等离子体的密度和活性粒子的能量,从而提高清洗效果。例如,氧等离子体的密度受放电功率的影响很大。
(4)暴露时间:待用等离子体清洗材料的暴露时间对其表面清洗效果和等离子体工作效率影响很大。曝光时间越长,清洗效果越高,但工作效率越低。而且太长了长时间清洗会损坏材料的表面。
(5)传输率:在常压等离子清洗过程中,处理大型物体时会出现连续传输的问题。因此,待清洁物体与电极之间的相对运动速度越慢,治疗效果就越高。
(6)其他:等离子清洗过程中的气体分布、气体流速、电极设置等参数也会影响清洗效果。因此,需要根据实际情况和清洗要求,设定具体合适的工艺参数。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 清洗
    +关注

    关注

    2

    文章

    75

    浏览量

    13817
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    pcb等离子处理的5大作用

    pcb等离子处理的5大作用
    的头像 发表于 03-05 10:24 149次阅读

    微波等离子处理对导电胶可靠性的影响

    共读好书 陈婷 周伟洁 王涛 (无锡中微高科电子有限公司) 摘要: 研究了微波等离子工艺影响导电胶形貌的机理,进一步分析了等离子清洗次数对电路可靠性的影响。结果表明,对装片后的电路进行
    的头像 发表于 02-20 13:37 170次阅读
    微波<b class='flag-5'>等离子</b>处理对导电胶可靠性的影响

    等离子发动机的原理 等离子发动机最大推力是多少

    等离子发动机原理: 等离子发动机是一种利用电磁力将离子加速并喷射出来产生推力的发动机。它主要包括等离子体产生器、离子加速器和喷嘴等组成。下面
    的头像 发表于 02-14 18:18 3535次阅读

    等离子显示器特点 等离子显示器的工作原理

    等离子显示器(Plasma Display Panel,简称PDP)是一种采用气体放电和发光材料发光的平板显示技术。与液晶显示器相比,等离子显示器拥有更高的对比度、更高的色彩饱和度和更快的响应速度
    的头像 发表于 02-03 10:00 476次阅读

    半导体清洗工艺介绍

    根据清洗介质的不同,目前半导体清洗技术主要分为湿法清洗和干法清洗两种工艺路线
    的头像 发表于 01-12 23:14 1177次阅读
    半导体<b class='flag-5'>清洗</b><b class='flag-5'>工艺</b>介绍

    掀起神秘第四态的面纱!——等离子体羽流成像

    01、重点和难点 等离子体通常被认为是物质的第四态,除了固体、液体和气体之外的状态。等离子体是一种高能量状态的物质,其中原子或分子中的电子被从它们的原子核中解离,并且在整个系统中自由移动。这种状态
    的头像 发表于 12-26 08:26 255次阅读
    掀起神秘第四态的面纱!——<b class='flag-5'>等离子</b>体羽流成像

    针对氧气(O2)和三氯化硼(BCl3)等离子体进行原子层蚀刻的研究

    技术提供了典型应用。蚀刻工艺对器件特性有着较大的影响,尤其是在精确控制蚀刻深度和较小化等离子体损伤的情况下影响较大。
    的头像 发表于 12-13 09:51 406次阅读
    针对氧气(O2)和三氯化硼(BCl3)<b class='flag-5'>等离子</b>体进行原子层蚀刻的研究

    在湿台工艺中使用RCA清洗技术

    半导体制造业依赖复杂而精确的工艺来制造我们需要的电子元件。其中一个过程是晶圆清洗,这个是去除硅晶圆表面不需要的颗粒或残留物的过程,否则可能会损害产品质量或可靠性。RCA清洗技术能有效去除硅晶圆表面的有机和无机污染物,是一项标准的
    的头像 发表于 12-07 13:19 302次阅读

    ATA-7030高压放大器在等离子体实验中的应用有哪些

    高压放大器在等离子体实验中有多种重要应用。等离子体是一种带电粒子与电中性粒子混合的物质,其具有多种独特的物理性质,因此在许多领域具有广泛的应用,例如聚变能源、等离子体医学、材料加工等。下面安泰电子将介绍高压放大器在
    的头像 发表于 11-27 17:40 216次阅读
    ATA-7030高压放大器在<b class='flag-5'>等离子</b>体实验中的应用有哪些

    无标记等离子体纳米成像新技术

      一种使用等离子体激元的新型成像技术能够以增强的灵敏度观察纳米颗粒。休斯顿大学纳米生物光子学实验室的石伟川教授和他的同事正在研究纳米材料和设备在生物医学、能源和环境方面的应用。该小组利用等离子
    的头像 发表于 11-27 06:35 141次阅读

    等离子清洗工艺的关键技术 等离子清洗在封装生产中的应用

    等离子工艺是干法清洗应用中的重要部分,随着微电子技术的发展,等离子清洗的优势越来越明显。文章介绍了
    的头像 发表于 10-18 17:42 571次阅读
    <b class='flag-5'>等离子</b>体<b class='flag-5'>清洗</b><b class='flag-5'>工艺</b>的关键技术 <b class='flag-5'>等离子</b>体<b class='flag-5'>清洗</b>在封装生产中的应用

    用Arduino自己做的等离子打火机

    基于电池供电的等离子打火机。制作新奇打印方式的等离子打印机!包含相关图文说明、代码、线路图
    发表于 09-22 07:54

    等离子体蚀刻率的限制

    随着集成电路互连线的宽度和间距接近3pm,铝和铝合金的等离子体蚀刻变得更有必要。为了防止蚀刻掩模下的横向蚀刻,我们需要一个侧壁钝化机制。尽管AlCl和AlBr都具有可观的蒸气压,但大多数铝蚀刻的研究
    的头像 发表于 06-27 13:24 365次阅读
    铝<b class='flag-5'>等离子</b>体蚀刻率的限制

    制造等离子纳米金刚石

    近日,Nano Letters(《纳米快报》)在线发表武汉大学高等研究院梁乐课题组和约翰霍普金斯大学Ishan Barman课题组关于高效构建等离子增强NV色心的纳米器件研究进展,他们利用自下向上的DNA自组装方法开发了一种混合型独立式等离子体纳米金刚石
    的头像 发表于 06-26 17:04 431次阅读
    制造<b class='flag-5'>等离子</b>纳米金刚石

    臭氧清洗系统的制备及其在硅晶片清洗中的应用

    在半导体和太阳能电池制造过程中,清洗晶圆的技术的提升是为了制造高质量产品。目前已经有多种湿法清洗晶圆的技术,如离子清洗、超声波清洗、低压
    的头像 发表于 06-02 13:33 1125次阅读
    臭氧<b class='flag-5'>清洗</b>系统的制备及其在硅晶片<b class='flag-5'>清洗</b>中的应用