无需FMM，京东方研发出光刻AMQLED

近日，BOE（京东方）基于量子点直接光刻工艺（direct photolithography of quantum dots in QLED， DP-QLED）开发的4.7英寸650 PPI 主动矩阵量子点发光二极管（AMQLED）显示样机惊艳亮相2023 SID国际显示周，引发业界广泛关注。

BOE（京东方）这款光刻法AMQLED样机对比度超过10，000，000 ： 1，色域可达85% BT2020。

BOE（京东方）开发的量子点直接光刻（DP-QLED）工艺，仅需要涂膜、曝光、显影三步即实现了一种量子点的图案化；相对于其它光刻图案化工艺，步骤减少，无需引入附加结构，可有效提升效率、成本可大幅降低。

该工艺无需使用昂贵且制作周期长的精细金属掩模版（FMM），通过使用成熟度高的曝光光罩，量子点直接光刻（DP-QLED）即可在全尺寸领域范围内实现高度自由的尺寸与像素密度的规格组合、高度自由的像素排布设计、更高的开口率和器件寿命、更简单的工艺制程及更灵活、高效的产品开发。

审核编辑 ：李倩