北京大学先进光子集成公共平台正式开放运行

4月1日，北京大学光纤国重“先进光子集成”公共平台正式开放运行，对校内外开放用户培训与设备预约。该平台依托区域光纤通信网与新型光通信系统国家重点实验室（北京大学）。国重实验室为加强光子芯片领域的研究能力，在已有高速光通信/光电子测试、高速通信网络测试等研究条件基础上，投入4000余万元建设“先进光子集成中心”平台（advanced photonic integration center, APIC），新建超净间面积200平米，购置部署成套大型微加工与测试设备，以保障工艺制程的连续性和一致性，可大幅缩短工艺迭代周期，极大助力光子芯片方向的研究工作。平台旨在建成集微米、纳米加工、制造和检测手段于一体的开放式、一站式科研实验室，为校内外用户的科研工作提供有效支撑。

平台加工测试能力

该平台拥有超净间面积约300平方米，其中百级洁净区50平米，配备了可完整涵盖微加工需求的大、中、小型设备，包括电子束曝光机、扫描电镜、磁控溅射仪、等离子刻蚀机、快速退火炉、精密贴片机、匀胶机、离子溅射仪、膜厚计、原子力显微镜、任意波形发生器、高速采样示波器、信号分析仪、网络分析仪等。

该平台定位于微纳技术发展前沿，结合校内电子、集成电路、物理、化学、材料等相关学科的需求特点，建设了基于多种半导体衬底材料的微米/纳米图形制备、薄膜沉积/生长、干法及湿法刻蚀、表征测试及封装的体系化、模块化工艺链，适用于微纳电子器件、光电子器件、功率器件、MEMS、二维材料器件、柔性/可穿戴电子器件、集成电路芯片等工艺的微纳加工，可为校内外师生在多领域、交叉学科开展前沿科学研究和技术开发提供良好的技术支持。

该平台的独特优势在于高精度微纳加工能力。光子器件中纳米级的加工误差即可能造成器件性能的显著差异。与北京大学校内已有公共平台相比，该平台设备配置显著提升了加工精度，配有校内首台125 kV高压电子束曝光机，可提升微纳结构曝光精度至8 nm左右；具备了从曝光、显影、刻蚀、表征、封装的全工艺闭环。

平台开放服务

该平台拟实行7天分时段开放服务，电子束曝光机、扫描电镜、磁控溅射等仪器设备拟开放服务机时均达2000小时。用户可直接在网站查阅设备参数、功能、收费标准及设备管理员联系方式，了解相关信息，根据用户需求完成设备培训与考核，开通设备使用权限，并通过网站进行在线设备预约。

该平台将不断研究开发新工艺，满足用户不同学科方向的加工测试需求。目前，该平台依托于区域光纤通信网与新型光通信国家重点实验室，建立了一支具备专业背景的管理团队，努力成为世界一流的开放共享微纳技术平台。平台设备试运行期间，在平台开展研究工作的课题组已达数十个。

北京大学将加速实现建设有中国特色世界顶级一流大学的目标，为国内外的科研人员提供广阔的合作和交流平台，推动中国光子学事业的发展。该平台的运行将有效补充校内微纳加工能力，缓解工艺设备机时紧张的局面，与北京大学校内已有平台互为后备力量，改善校内各课题组的科研硬件条件。平台设备开放将优先满足校内单位的大批量高精度加工需求，同时在遵循相关政策的前提下服务校外用户，提供社会效益。

审核编辑 ：李倩