0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

电镀夹膜形成的原因及改善建议

liugong03983 来源:孺子牛PCB 作者:h1654155607.1999 2022-11-06 17:03 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

传统PCB制作流程有两种:正片图电流程和负片直蚀流程,两种流程对线路图形的设计要求各不相同。特别是正片流程,如果外层线路设计不合理,如有大的空旷独立线路,会在图电时产生夹膜问题,导致蚀刻时短路。

8b87e49a-5dad-11ed-a3b6-dac502259ad0.png

为什么正片图电流程空旷区这种小间隙的位置会更容易产生蚀刻不净短路,首先要了解一下正片图电流程的生产过程:前工序--à沉铜/板电--à线路图形转移--à图电(镀铜镀锡)--à退锡蚀刻--à后工序。

电镀的原理是将生产大板并排夹在一条铜条飞靶上,再把板子放到含有铜离子的电镀槽液中,电流通过铜条飞靶传递到板子上,板子上露出铜面的地方在电流的作用下,会吸附电镀槽液中的铜的离子,并还原成铜原子。

8ba907ba-5dad-11ed-a3b6-dac502259ad0.png

下图蓝色为干膜,白色为图电后的线路及铜面,图电为先镀铜,后镀锡,蚀刻时用锡来保护走线及铜面的,所以图电后板面有一层白色的锡,蚀刻前需板蓝色的干膜先退洗掉,露出铜面过行蚀刻,蚀刻后再把锡退先掉,就得到我们想要线路图形了。

8d15a90a-5dad-11ed-a3b6-dac502259ad0.png

电流的大小与受镀面积有关,如果板子上线路分布太过空旷,特别是分布不均匀的独立线区域,所受到的电流非常大,严重会导致电流过大烧板,轻则导致独立线区域镀铜很厚,当线与线,线与焊盘,焊盘与焊盘等间隙过小时,如4mil以下间隙,则会导致这些间隙过小的地方存在线路板行业经常说的一个名词叫“夹膜”就是把下图中的干膜夹在中间,导致后续的不能蚀刻,从而造成品质问题。

8d55344e-5dad-11ed-a3b6-dac502259ad0.png

以上说的夹膜,可能有些小伙伴不太理解,做正片线路工艺也叫图电工艺,做外层线路时先在板面上压干膜,再通过曝光,显影等工序,露出需要电镀的走线及铜面,成品无铜区域会被干膜覆盖,这样电镀就只会镀我们需要的走线及孔壁铜等,夹膜是指当线路间隙较小时,如果铺铜不均匀或是没有铺铜的线路,电镀时走线铜厚会超过干膜的厚度,随着电镀时间的增加,电镀铜锡就有可能会从干膜两侧延伸包裹干膜,这种现象就称为夹膜。在蚀刻时需要先把干膜退洗掉,露出需要蚀刻的铜面,而夹膜的地方干膜就无法完全去掉,由于干膜本身也是抗蚀层,蚀刻时此处的铜就保留下来造成板子短路。

8d74a2b6-5dad-11ed-a3b6-dac502259ad0.png

除夹膜外,独立线路还会因为空旷区蚀刻药水活性大,咬蚀过快,导致线幼。

8d951f96-5dad-11ed-a3b6-dac502259ad0.png

改善建议:

(1)空旷区铺铜 ,提高受镀面积,保证电镀均匀。

9104af98-5dad-11ed-a3b6-dac502259ad0.png

(2)无法铺铜时,可以加大独立区线距至6mil以上(1OZ)

9124ace4-5dad-11ed-a3b6-dac502259ad0.png

审核编辑 :郭婷

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • pcb
    pcb
    +关注

    关注

    4417

    文章

    23965

    浏览量

    426180

原文标题:电镀夹膜成因及改善方法

文章出处:【微信号:孺子牛PCB,微信公众号:孺子牛PCB】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    LED晶屏亮度与色彩性能的测试方法与选型建议

    摘要:本文基于深圳市瑞普创新科技有限公司的产品实测数据,系统介绍LED晶屏的亮度测试方法、不同环境下的亮度需求、色彩参数(刷新率、灰度、色域)的工程意义,并提供选型量化建议。 1. 亮度测试方法
    的头像 发表于 04-25 13:55 538次阅读

    电阻、金属电阻、氧化电阻和绕线电阻的区别

    电子发烧友网站提供《碳电阻、金属电阻、氧化电阻和绕线电阻的区别.docx》资料免费下载
    发表于 03-23 14:56 0次下载

    厚声贴片电阻的厚工艺与薄膜工艺有何区别?

    (部分案例达100微米),采用丝网印刷技术将电阻浆料(含金属氧化物、玻璃粘结剂等)涂覆于基板,经高温烧结形成层。 薄膜工艺 :层厚度仅 0.1-10微米 (多数低于1微米),通过真空蒸发、磁控溅射等物理气相沉积技术,在基
    的头像 发表于 03-11 16:13 263次阅读
    厚声贴片电阻的厚<b class='flag-5'>膜</b>工艺与薄膜工艺有何区别?

    FPC电磁设计问题

    向各位大佬请教两个问题: 1.嘉立创FPC下单时,需要选择接地与不接地,相问一下有什么影响吗 2.电磁接地,会消除到静电吗
    发表于 09-28 11:51

    DH188在天窗防电机中的应用

    H188霍尔元件在天窗防电机中可通过监测电机转速变化,结合防算法实现精准障碍物检测与电机反转控制,同时满足美标等高防力标准要求,提升系统安全性与可靠性。 以下是DH188在天窗防
    的头像 发表于 09-05 14:07 754次阅读

    三坐标检测薄壁件:如何消除装变形误差?

    在精密制造领域,薄壁零件(如电机端盖、航空结构件)的三坐标检测长期面临一个隐蔽而顽固的挑战:装变形。在薄壁件测量中,传统方法对“装导致的变形误差”几乎无法觉察。当这种变形在测量时被掩盖,装配时却
    发表于 08-15 14:08 0次下载

    M系列连接器电镀工艺及单位转换

    M系列航空插头因其高可靠性要求,通常采用多种电镀工艺以提升性能。
    发表于 08-08 15:07 0次下载

    欧洲电动汽车充电桩电能表外露的原因,及中国桩企出海建议

    为充电桩制造商提供符合欧洲标准的设计建议
    的头像 发表于 07-03 17:14 1428次阅读
    欧洲电动汽车充电桩电能表外露的<b class='flag-5'>原因</b>,及中国桩企出海<b class='flag-5'>建议</b>

    PAE 电镀行车读卡器,电镀行业的得力助手

    主要是向大家推荐PAE电镀行车读卡器
    的头像 发表于 06-24 14:53 809次阅读

    功率器件电镀的原理和步骤

    在功率半导体制程里,电镀扮演着举足轻重的角色,从芯片前端制程到后端封装,均离不开这一关键工序。目前,我国中高档功率器件在晶圆背面金属化方面存在技术短板,而攻克这些技术难题的关键在于电镀。借助电镀实现
    的头像 发表于 06-09 14:52 2753次阅读
    功率器件<b class='flag-5'>电镀</b>的原理和步骤

    什么是晶圆贴

    是指将一片经过减薄处理的晶圆(Wafer)固定在一层特殊的胶膜上,这层通常为蓝色,业内常称为“ 蓝 ”。贴的目的是为后续的晶圆切割(划片)工艺做准备。
    的头像 发表于 06-03 18:20 1855次阅读
    什么是晶圆贴<b class='flag-5'>膜</b>

    解密ePTFE防水透气的耐水压测试实操指南

    膨体聚四氟乙烯(又称ePTFE防水透气)是通过对聚四氟乙烯(PTFE)进行快速拉伸处理而形成的一种具有多孔结构的材料。这种独特的微孔结构使其在移动电子设备领域展现出显著优势,能够有效改善
    的头像 发表于 06-03 11:08 1282次阅读
    解密ePTFE防水透气<b class='flag-5'>膜</b>的耐水压测试实操指南

    揭秘半导体电镀工艺

    一、什么是电镀:揭秘电镀机理 电镀(Electroplating,又称电沉积 Electrodeposition)是半导体制造中的核心工艺之一。该技术基于电化学原理,通过电解过程将电镀
    的头像 发表于 05-13 13:29 3891次阅读
    揭秘半导体<b class='flag-5'>电镀</b>工艺

    HDMI接口芯片失效原因分析和HDMI接口芯片改善措施与选型

    HDMI接口芯片 失效原因分析和改善措施     HDMI,全称 High Definition Multimedia Interface, 即高清多媒体接口。自问世以来,HDMI 历经了多次版本
    的头像 发表于 05-09 11:16 3.5w次阅读
    HDMI接口芯片失效<b class='flag-5'>原因</b>分析和HDMI接口芯片<b class='flag-5'>改善</b>措施与选型

    半导体电镀工艺介绍

    Plating(电镀)是一种电化学过程,通过此过程在基片(wafer)表面沉积金属层。在微电子领域,特别是在Bump连接技术中,电镀起到至关重要的作用,用于形成稳固且导电的连接点,这些连接点是芯片封装的关键组成部分。
    的头像 发表于 05-09 10:22 2142次阅读