台积电2nm再曝新进展 2nm比3nm速度快多少

最近，台积电和三星电子在2nm制程方面动作不断。

有新闻报道，日本将和美国合作，最早于2025年在日本启动2nm制程国内制造基地。

同时，台积电预计将在2024年年底和2025年进行2nm制程的风险试产，同时还透露，通过在中国台湾、中国大陆和日本建设新晶圆厂或扩产，预计到2025年，台积电的成熟制程的产能将扩大约50%。三星电子则同样计划在2025年实现2nm的量产。

台积电表示相较于其N3E（3nm的低成本版）工艺，在相同功耗下，台积电2nm工艺的性能将提升10~15%；而在相同性能下，台积电2nm工艺的功耗将降低23~30%；晶体管密度仅提升了10%。

三星的计划，3nm GAA工艺预计会在6月份就试验性量产，相比5nm工艺，该工艺的性能提升15%，功耗降低30%，芯片面积减少35%。

文章综合芯东西、芯智讯、驱动之家

编辑：黄飞