0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

各国加速光刻机自主化 未来ASML不在一家独大

要长高 来源: 每日科技说 作者: 每日科技说 2022-04-19 14:31 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

ASML在***市场一家独大,生产的DUV和EUV***垄断中高端***市场份额。因为别的企业造不出来,所以ASML在这些领域根本不存在竞争对手。

而其余的中低端***设备,ASML也在加紧对世界各国客户的出货。不过让ASML没有想到的是,各国纷纷加紧***自主化,或是涉及高端,或是另辟蹊径。

各国加速***自主化

ASML提供中高端***供货,但是有些设备并不是全球化的。比如EUV***便不能向大陆客户发货,原因大家都知道,因为某些规则的存在,让ASML只能选择遵从。

虽然都知道事件的本身不是出自ASML,可终究还是ASML实施了断供行为。

但凡是有发展高科技产业,打造自主科技的芯片生产线供应链的国家,都希望将顶级的***掌握在手里,也就是加速自主化步伐。

而在这方面采取行动的国家包括中国、俄罗斯、日本。那么这三个国家都有怎样的***自主化发展计划呢?

首先来看中国

中国其实是有丰富的***产业链的,大部分的零部件,产品背后都有相应的国产供应商参与布局。比如双工件台有华卓精科,曝光系统也有国望光学,以及上海微电子负责整机装备。

这些国产***产业链的厂商均有不错的实力,也正是有他们的存在,为国产***持续推动自主化,并朝着越发先进的制程迈进。

虽然产业链相对丰富,但也还有很大的进步空间。有人总结国产***产业链处在“大而不强”的状态,言外之意还得朝着变得更加强大的目标出发。

关于这一点,各方都有对应的发展计划,比如国望光学将在2023年投入光学曝光系统的产线,为国产***产业链贡献更大的力量。

其次再看俄罗斯

印象中俄罗斯并没有什么半导体行业的顶级实力,芯片设计和芯片制造都没有世界闻名的巨头。相比亚洲的台积电,欧洲的ASML等世界级半导体厂商,俄罗斯发展的主要产业似乎并不包括半导体。

可实际上,俄罗斯的基础科学研究以及对电子信息系统等高度把控,是可以给发展半导体带来一定优势的。

其中对***甚至定下了远大的发展目标,俄罗斯明确要采用X射线研制生产高端***,初期研发投入6.7亿卢布。

X射线区别于ASML使用的EUV极紫外光,X射线波长更短,分辨率更高,如果被俄罗斯研制成功,很有可能改变全球***产业局势。到时候高端***的形容词不再是EUV***,也包括X射线***。

最后来看日本

日本是唯一一个拥有两家芯片制造***企业的国家,分别包括佳能和尼康。这两家日企都有涉猎***业务,而且实力不可小觑。

ASML没有崛起之前,他们才是***行业的真正话事人。即便这几十年日本半导体产业显得“家道中落”,但该有的功课还是没有落下太多。在***这方面,佳能已经确认研制一台3D半导体技术的封装***。

据日媒消息称,佳能这台3D封装***会在2023年推出,主要给芯片产业提供3D封装行业应用。

说3D封装可能大多数人并不了解,但如果解释成芯片堆叠估计大家就不会陌生了。现如今网上到处流传关于芯片堆叠的话题,华为,苹果都在芯片堆叠技术领域有了一定的成果。

而佳能的3D封装***就是做3D芯片堆叠的,确保能更好地实现向上递进的芯片堆叠技术。

ASML,再见了?

综上所述,中国、俄罗斯、日本都有相对应的***自主化发展计划,也许一时半会到不了ASML的高度,但时间是公平的,可以给每一个人带来机会,也不会辜负努力的人。

ASML可以保持一时的领先地位,可是能保证其它国家永远也造不出可实现替代的高端***吗?ASML保证不了,因为他自己也没有把握,甚至承认永远不要说永远,他们会去尝试的。

如今中、俄、日这三大国家都已经在***领域深耕发展,等实现最终突破的那一刻,等EUV***不再是唯一的时候,可能就要和ASML说再见了。

当然,ASML会继续存在于半导体行业,毕竟他的技术,产业合作积累还是很深厚的。只是ASML想要让辉煌永驻,怕是要多花点心思了。

写在最后

***巨头ASML,一家掌握全球8成以上中高端***的企业,主导全球芯片制造行业的半导体设备核心。

顶级芯片制造商都在抢着找ASML供货,可无限风光的背后,ASML的地位也在被撬动,这家***巨头能否延续辉煌

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1196

    浏览量

    48733
  • EUV
    EUV
    +关注

    关注

    8

    文章

    614

    浏览量

    88527
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    734

    浏览量

    43343
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?

      电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV)光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来,荷兰 ASML 公司几乎垄断
    的头像 发表于 10-04 03:18 9386次阅读
    俄罗斯亮剑:公布EUV<b class='flag-5'>光刻机</b>路线图,挑战<b class='flag-5'>ASML</b>霸主地位?

    AI需求飙升!ASML光刻机直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    *1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板级封装(FOPLP)技术为何会获得台积电、三星等代工大厂的青睐?比较传统的光刻机设备,尼康DSP-100的技术原理有何不同?能解决AI芯片生产当中的哪些痛点问题? 针对2nm、3nm芯片制造难题,光刻机龙头企业
    的头像 发表于 07-24 09:29 7258次阅读
    AI需求飙升!<b class='flag-5'>ASML</b>新<b class='flag-5'>光刻机</b>直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    国产高精度步进式光刻机顺利出厂

    近日,深圳稳顶聚芯技术有限公司(简称“稳顶聚芯”)宣布,其自主研发的首台国产高精度步进式光刻机已成功出厂,标志着我国在半导体核心装备领域取得新进展。 此次稳顶聚芯出厂的步进式光刻机属于WS180i
    的头像 发表于 10-10 17:36 741次阅读

    光刻机实例调试#光刻机 #光学 #光学设备

    光刻机
    jf_90915507
    发布于 :2025年08月05日 09:37:57

    ASML官宣:更先进的Hyper NA光刻机开发已经启动

    电子发烧友网综合报道,日前,ASML 技术高级副总裁 Jos Benschop 表示,ASML 已携手光学组件独家合作伙伴蔡司,启动了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻机开发。这
    发表于 06-29 06:39 1827次阅读

    ASML光刻「芯 」势力知识挑战赛正式启动

    ASML光刻「芯」势力知识挑战赛由全球半导体行业领先供应商ASML发起,是项面向中国半导体人才与科技爱好者的科普赛事。依托ASML
    的头像 发表于 06-23 17:04 1097次阅读
    <b class='flag-5'>ASML</b>杯<b class='flag-5'>光刻</b>「芯 」势力知识挑战赛正式启动

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
    发表于 05-07 06:03

    成都汇阳投资关于光刻机概念大涨,后市迎来机会

    【2025年光刻机市场的规模预计为252亿美元】 光刻机作为半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之,其在半导体制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市场对光刻机的需求持续增长,尤
    的头像 发表于 04-07 09:24 1144次阅读

    不只依赖光刻机!芯片制造的五大工艺大起底!

    在科技日新月异的今天,芯片作为数字时代的“心脏”,其制造过程复杂而精密,涉及众多关键环节。提到芯片制造,人们往往首先想到的是光刻机高端设备,但实际上,芯片的成功制造远不止依赖光刻机
    的头像 发表于 03-24 11:27 2835次阅读
    不只依赖<b class='flag-5'>光刻机</b>!芯片制造的五大工艺大起底!

    什么是光刻机的套刻精度

    在芯片制造的复杂流程中,光刻工艺是决定晶体管图案能否精确“印刷”到硅片上的核心环节。而光刻Overlay(套刻精度),则是衡量光刻机将不同层电路图案对准精度的关键指标。简单来说,它就像建造摩天大楼
    的头像 发表于 02-17 14:09 4033次阅读
    什么是<b class='flag-5'>光刻机</b>的套刻精度

    光刻机用纳米位移系统设计

    光刻机用纳米位移系统设计
    的头像 发表于 02-06 09:38 958次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>用纳米位移系统设计

    如何提高光刻机的NA值

    本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高?   什么是NA值?   如上图是某型号的光刻机配置,每代光刻机的NA值会比上
    的头像 发表于 01-20 09:44 2269次阅读
    如何提高<b class='flag-5'>光刻机</b>的NA值

    飞利浦将旗下MEMS代工厂Xiver出售,该厂为ASML光刻机提供组件

    近日,飞利浦已将其位于荷兰埃因霍温的 MEMS 晶圆厂和代工厂出售给个荷兰投资者财团,交易金额不详。该代工厂为 ASML 光刻机等公司提供产品,并已更名为 Xiver。 该 MEMS 代工厂已被
    的头像 发表于 01-16 18:29 2461次阅读

    光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括芯片
    的头像 发表于 01-16 09:29 5740次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的分类与原理

    组成光刻机的各个分系统介绍

      本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤,其重要性不言而喻。光刻机是实现这工艺的核心设备,它的工作原理类似于传统摄影中的曝光过程,但精度要求极高
    的头像 发表于 01-07 10:02 4161次阅读
    组成<b class='flag-5'>光刻机</b>的各个分系统介绍