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芯片制造流程图解

西西 来源:网络整理 作者:半导体观察、个人 2021-12-14 09:23 次阅读
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芯片制作过程包括了芯片设计、晶片制作、封装制作、成本测试等几个环节。简单的解释就是IC制造就是把光罩上的电路图转移到晶圆上。

芯片设计依序为:规格制定 → 逻辑设计 → 电路布局 → 布局后模拟 → 光罩制作。

IC制造的步骤是薄膜→光阻→显影→蚀刻→光阻去除。

IC封装:切割→黏贴→焊接→模封

芯片测试,也叫FT(final test),区别于WS(wafer sorting),主要是在出厂时保证产品的性能是满足设计要求的。确认封装完的 IC 是否可以正常的运作。

文章整合自半导体观察、个人图书馆、bilibili

审核编辑:黄飞

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