0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

EUV光刻机出货过半 国产半导体设备发展提速

lPCU_elecfans 来源:电子发烧友网 作者:李弯弯 2021-10-27 09:51 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

电子发烧友网报道(文/李弯弯)半导体设备厂商目前的销售情况如何?今年以来,芯片产能不足之下全球各地加快建厂扩产,这带动半导体设备厂商销售持续高增长。近日ASML公布第三季度财报,显示销售业绩仍然增幅很大,国内的半导体设备龙头北方华创的业绩预告也显示,净利润预计有一到两倍的增长。

不过从目前国外内半导体设备整体情况来看,半导体设备的销售和出货虽然还在增长,不过对比之前,增速开始放缓,有机构表示,半导体设备已经终止连续环比增长的态势。

ASML EUV光刻机业务营收创下新纪录

全球领先的光刻机厂商ASML日前公布最新季度业绩,财报显示,在GAAP会计准则下,ASML第三季度净销售额52.41亿欧元(约390亿元人民币),同比增长32.4%,净利润为17.40亿欧元(约130亿元人民币),同比增长63.8%。其中毛利率也有所上涨,为51.7%,上一季度毛利率为50.9%。

ASMLEUV光刻机业务出货量和营收创下新纪录,根据财报信息,今年第三季度 EUV的销售占到公司总销售额的54%,而第二季度这个占比是45%,主要是用在逻辑芯片和存储芯片的制造商,从地域来看,ASMLEUV光刻机45%出货到中国台湾地区,33%出货到韩国,出货到美国和中国大陆的占比分别为10%。

ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink表示,公司第三季度新增订单金额达到62亿欧元(约462亿元人民币),其中29亿欧元来自EUV订单。客户对光刻系统的需求仍在高点,主要原因是数字化转型和芯片短缺带动市场对内存和逻辑芯片的需求。预计今年第四季度将实现营收约为49亿到52亿欧元。

北方华创Q3净利润同比增长100-180%

日前国内的半导体设备龙头北方华创也发布业绩预告,根据公告,北方华创第三季度预计实现营业收入21.56-65.94亿元,同比增长30-80%,归属上市公司净利润2.85-3.99亿元,同比增长100-180%。

北方华创业绩的高增长还是受益于下游市场需求的提升,同时北方华创各种新设备导入市场的节奏正在加快,包括刻蚀机、PVD、CVD、清洗机等,在客户端的渗透率逐步提高,公司的半导体设备已经在半导体产业主流生产线中实现批量销售。

至纯科技获大基金二期投资 国产清洗设备发展提速

受益于当前芯片产能不足,全球各地大力建厂扩产,以及国产替代的推动,国内半导体设备逐渐有了更多应用的机会和空间,其中清洗设备方面的表现就很明显。

清洗设备是半导体产业链制造的重要环节,根据台湾工研院数据,2020年半导体清洗设备市场空间49亿美元,2025年将达67亿美元。目前清洗设备的国产化率约为20%,主要厂商有北方华创、盛美半导体、至纯科技、芯源微等。

盛美半导体是国内领先的清洗设备厂商,日前宣布湿法设备2000腔顺利交付,目前出货量已累计超过300台,产品包括单片SAPS兆声波清洗设备、单片TEBO兆声波清洗设备、单片背面清洗设备、单片刷洗设备、槽式清洗设备等,公司产品组合覆盖80%以上清洗设备市场,2020年国内市场份额达到23%。

至纯科技日前发布公告称,旗下子公司至微科技进行增资扩股,引入包括大基金二期、混改基金等在内的多名重要股东,至微科技主要业务是半导体湿法清洗设备,公司自成立以来,已累计获得湿法设备订单超过160台。

据行业人士分析,国家队基金增持清洗设备企业,一是有利于至微科技与国内头部半导体公司加强合作,促进其未来发展,二是透露出了市场对公司及该领域未来看好,同时有利于清洗设备未来的发展。

北美、日本半导体设备出货放缓 国内市场增长机会仍在

半导体设备经历了过去一段时间的快速成长,近来北美和日本等地区的出货快开始放缓。北美半导体设备8月份的出货量同比增幅明显,达到37.56%,不过环比下降了5.38%,终止了出货额连续8个月的环比增长;日本半导体设备出货额同比增长30.42%,环比增长幅度较小,为2.07%。

不过当前和未来国内规划的扩产规模较大,而且厂商也在加大对成熟制程的投入,有机构测算,国内晶圆厂未来可释放的产能,包括8寸线产能约27万片,12寸线产能约 61.5-62.5万片,其中12寸线中确定为成熟制程的产品约为33.5万片,因此未来三年国产半导体设备有明显的增长空间。

声明:本文由电子发烧友原创,转载请注明以上来源。如需入群交流,请添加微信elecfans999,投稿爆料采访需求,请发邮箱huangjingjing@elecfans.com。

编辑:jq

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 半导体
    +关注

    关注

    339

    文章

    31238

    浏览量

    266576
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    738

    浏览量

    43631
  • EUV光刻机
    +关注

    关注

    2

    文章

    129

    浏览量

    15870

原文标题:ASML一骑绝尘,EUV光刻机出货过半!国产半导体设备发展提速!

文章出处:【微信号:elecfans,微信公众号:电子发烧友网】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    中国打造自己的EUV光刻胶标准!

    电子发烧友网报道(文/黄山明)芯片,一直被誉为 人类智慧、工程协作与精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要设备光刻机就是 雕刻这个结晶的 “ 神之手 ”。但仅有光刻机还不够,还需要光刻
    的头像 发表于 10-28 08:53 7049次阅读

    俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?

      电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV光刻技术更是先进制程
    的头像 发表于 10-04 03:18 1.1w次阅读
    俄罗斯亮剑:公布<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻机</b>路线图,挑战ASML霸主地位?

    半导体设备线缆怎么选?刻蚀光刻机、机械手,一文看懂选型关键

    半导体制造这个以纳米为单位的战场上,光刻机、刻蚀、晶圆搬运机械手等核心设备无疑是焦点。但有一个隐藏于设备内部的“配角”,其性能优劣可能直
    的头像 发表于 04-07 16:26 156次阅读
    <b class='flag-5'>半导体</b><b class='flag-5'>设备</b>线缆怎么选?刻蚀<b class='flag-5'>机</b>、<b class='flag-5'>光刻机</b>、机械手,一文看懂选型关键

    垄断 EUV 光刻机之后,阿斯麦剑指先进封装

    电子发烧友网综合报道 当全球半导体产业陷入 “先进制程竞赛” 的白热化阶段,极紫外(EUV光刻机作为高端芯片制造的 “皇冠上的明珠”,成为决定产业格局的核心力量。荷兰阿斯麦(ASML)作为全球唯一
    的头像 发表于 03-05 09:19 2684次阅读

    【「芯片设计基石——EDA产业全景与未来展望」阅读体验】跟着本书来看EDA的奥秘和EDA发展

    第一章介绍了EDA的基础知识 EDA作为芯片之钥匙,EDA芯片之母,是芯片行业最最重要的核心技术,才是卡脖子卡的真正地方,甚至超过我们常听说的光刻机。大家可能经常讨论光刻机很重要是芯片卡脖子的技术,其实
    发表于 01-21 22:26

    泽攸科技 | EBL和EUV光刻机有何区别?如何影响半导体行业?

    从技术路径上看,电子束光刻和大家熟悉的EUV光刻并不是同一类问题的解法。电子束光刻本质上是一种直接写入技术,利用聚焦电子束在抗蚀剂上逐点曝光,通过电磁控制精确描绘图形。这种方式不依赖掩
    的头像 发表于 01-06 16:49 1021次阅读
    泽攸科技 | EBL和<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻机</b>有何区别?如何影响<b class='flag-5'>半导体</b>行业?

    国产高精度步进式光刻机顺利出厂

    近日,深圳稳顶聚芯技术有限公司(简称“稳顶聚芯”)宣布,其自主研发的首台国产高精度步进式光刻机已成功出厂,标志着我国在半导体核心装备领域取得新进展。 此次稳顶聚芯出厂的步进式光刻机属于
    的头像 发表于 10-10 17:36 2728次阅读

    行业资讯 I 半导体设备行业“热”背后的冷思考

    摘要:光刻机、晶圆制造量测设备、化学气相沉积设备、离子注入、晶圆涂胶显影、探针测试台…这些关键设备
    的头像 发表于 09-26 23:32 1583次阅读
    行业资讯 I <b class='flag-5'>半导体</b><b class='flag-5'>设备</b>行业“热”背后的冷思考

    【「AI芯片:科技探索与AGI愿景」阅读体验】+半导体芯片产业的前沿技术

    %。至少将GAA纳米片提升几个工艺节点。 2、晶背供电技术 3、EUV光刻机与其他竞争技术 光刻技术是制造3nm、5nm等工艺节点的高端半导体芯片的关键技术。是将设计好的芯片版图图形转
    发表于 09-15 14:50

    今日看点丨全国首台国产商业电子束光刻机问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台

    8nm,专攻量子芯片和新型半导体研发的核心环节,可通过高能电子束在硅基上手写电路,无需掩膜版即可灵活修改设计,其精度已比肩国际主流设备。   据介绍,与传统光刻机相比,电子束光刻机在原
    发表于 08-15 10:15 3209次阅读
    今日看点丨全国首台<b class='flag-5'>国产</b>商业电子束<b class='flag-5'>光刻机</b>问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台

    光刻机实例调试#光刻机 #光学 #光学设备

    光刻机
    jf_90915507
    发布于 :2025年08月05日 09:37:57

    奥松半导体8英寸MEMS项目迎重大进展 首台光刻机入驻

    光刻机的成功搬入,意味着产线正式进入设备安装调试阶段,距离8月底通线试产、第四季度产能爬坡并交付客户的既定目标指日可待。这一目标的实现,将实现各类MEMS半导体传感器产品从研发到量产的无缝衔接,对重庆乃至整个集成电路行业都具
    的头像 发表于 07-17 16:33 1898次阅读
    奥松<b class='flag-5'>半导体</b>8英寸MEMS项目迎重大进展 首台<b class='flag-5'>光刻机</b>入驻

    ASML官宣:更先进的Hyper NA光刻机开发已经启动

    半导体光刻技术向物理极限发起的又一次冲击。   目前的 TWINSCAN EXE:5000 光刻系统采用 High NA(0.55NA)光学系统,分辨率可达 8nm。High NA EUV
    发表于 06-29 06:39 2151次阅读

    突破&quot;卡脖子&quot;困境:国产工业电源加速半导体设备国产替代潮

    在全球科技竞争加剧的背景下,美国对国内半导体行业制裁加速,涉及超过100家实体企业,覆盖了半导体产业链多个制造环节,半导体产业链国产化迫在眉睫。 从
    发表于 06-16 15:04 2386次阅读
    突破&quot;卡脖子&quot;困境:<b class='flag-5'>国产</b>工业电源加速<b class='flag-5'>半导体</b><b class='flag-5'>设备</b><b class='flag-5'>国产</b>替代潮

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
    发表于 05-07 06:03